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公开(公告)号：CN1789161A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510120405.X
申请日：2005-11-10
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明提供一种水处理工艺运转辅助装置，非常适合辅助水处理工艺的运转条件的决定。在本发明的水处理工艺运转辅助装置(10)中，该水处理工艺具备在含有浊质粒子的原水中添加凝集剂并进行搅拌的混合工序、和对于从上述混合工序流出的水中所含有的浊质粒子的凝集物进行沉淀的分离工序，所述水处理工艺运转辅助装置的特征是，包含以下的机构而构成：粒径分布运算机构(11)，基于原水的条件和混合工序的处理条件，运算混合工序的浊质粒子和凝集物的粒径分布；浊度运算机构(13)，基于粒径分布和分离工序的处理条件，运算分离工序的流出水的浊度。
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公开(公告)号：CN1779711A
公开(公告)日：2006-05-31
申请号：CN200510118054.9
申请日：2005-10-26
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: Y02A20/16
Abstract: 水运用计划装置(1)，其具备包括生水购入费用在内对从各水源(7A、7B)取水时的自来水管道设施(6)的水输送成本进行运算的水输送成本运算机构、基于由该水输送成本运算机构算出的水输送成本对自来水管道设施(6)的水输送量的计划值进行运算的水输送量计划值运算机构，通过该水运用计划装置(1)，拟定自来水管道设施的水运用计划。通过这样的装置，在从水质不同的多个水源取水的自来水管道设施中，可以实现对水输送或水处理等的成本可进行最小化的水运用计划的拟定。
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公开(公告)号：CN1731445A
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN200510085964.1
申请日：2005-07-21
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G06Q50/00
Abstract: 本发明提供的自来水管理系统，在由净水控制器(5)进行测量和控制的自来水设施(6)上，借助网络(4)连接管理服务器(1)和终端(2)，进而连接监控控制服务器(3)，在管理服务器(1)中记录借助自来水设施(6)的从原水(60)被净化而成的送水(69)的生成过程的处理工序信息，根据需要借助终端(2)以追踪能力画面形式进行显示。由此，本发明提供对由河川水等原水生成的自来水赋予追踪能力的自来水管理系统。
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公开(公告)号：CN1087714C
公开(公告)日：2002-07-17
申请号：CN95120816.0
申请日：1995-12-13
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明涉及在净水场或下水处理场中为去除有机物和臭气而进行的臭氧处理方法及装置。该方法中，将导向臭氧接触池之前的被处理水的一部分作为样品水抽出后注入臭氧，由此时的注入臭氧量和排臭氧浓度及溶解臭氧浓度进而样品水流量，计算出样品水的臭氧消耗量，根据该臭氧消耗量和流入臭氧接触池中的被处理水流量及臭氧吸收效率来决定注入上述被处理水中的臭氧注入量，根据该注入量进行臭氧接触池中的臭氧处理。
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公开(公告)号：CN110419009B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201880017287.5
申请日：2018-04-06
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 在序列控制和环路控制混合存在而控制器进行控制的情况下，不使传输定时、传输周期的设定繁杂化，而能够进行恰当的控制。为此，在本发明中，作为控制器，具备将储存于用于进行外部设备的控制的控制用存储器的存储于控制用存储器的控制数据拷贝到用于与监视终端侧进行传输处理的传输用存储器的拷贝处理部。基于用于控制外部设备的控制程序中的指示，执行向该传输用存储器的拷贝处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111830914A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010180999.8
申请日：2020-03-16
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G05B19/418
Abstract: 本发明提供工厂状态监视系统和工厂状态监视方法。该工厂状态监视系统不需要事前的调度，而使用运转数据，不区别稳定时或不稳定时，而能够高效地保存用于检测监视对象设备的状态变化的环境数据。本发明的工厂状态监视系统具备：环境数据测量装置，其取得监视对象设备的环境数据；监视控制装置，其控制监视对象设备，取得监视对象设备的运转数据，取得环境数据测量装置取得的环境数据，执行环境数据的预处理；数据存储部，其关联地存储环境数据测量装置取得的环境数据和监视控制装置取得的运转数据。
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公开(公告)号：CN110419009A
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201880017287.5
申请日：2018-04-06
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 在序列控制和环路控制混合存在而控制器进行控制的情况下，不使传输定时、传输周期的设定繁杂化，而能够进行恰当的控制。为此，在本发明中，作为控制器，具备将储存于用于进行外部设备的控制的控制用存储器的存储于控制用存储器的控制数据拷贝到用于与监视终端侧进行传输处理的传输用存储器的拷贝处理部。基于用于控制外部设备的控制程序中的指示，执行向该传输用存储器的拷贝处理。
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公开(公告)号：CN101671084B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN200910166765.1
申请日：2009-08-18
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明涉及一种液体处理装置，其区分适合臭氧处理的除去对象和适合后期的消毒工序的除去对象，通过各自的处理工序来达成水质目标，降低整体工序的运转成本。该液体处理装置具有注入与臭氧接触槽(2)的被处理水反应的臭氧气体的臭氧发生装置(3)、与臭氧接触槽(2)连接的流路的色度计(8)、与流路连接并具有紫外线灯的紫外线照射槽(6)或对流路注入氯剂的氯注入装置(11)、臭氧发生装置(3)、控制紫外线灯或氯注入装置(11)的控制的控制装置(9)进行输入的输入机构(10)，其中，根据来自输入机构(10)的第一水质项目的目标值和由水质计测量的第一水质项目的偏差来控制臭氧发生装置(3)的输出，基于来自输入机构(10)的第二水质项目的目标值，根据第一水质项目和紫外线照射量的关系或第一水质项目和氯剂的注入率的关系来控制紫外线灯的输出或氯注入装置(11)的氯剂的注入率。
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公开(公告)号：CN101314488A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200810099972.5
申请日：2008-05-29
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C02F1/32
Abstract: 本发明提供一种紫外线水处理方法及装置，其装置构成简单，且装置设置面积小，紫外线不被杂质遮挡，从而可以进行充分的灭活。其具有：将气体加压溶解在被处理水中的加压溶解部(8)；从流入口(4)流入通过加压溶解而增加了溶存氧浓度的被处理水的富氧化槽(3)；从富氧化槽(3)流出被处理水的流出口(5)；通过流出流路(7)与该流出口(5)连接、且对被处理水进行紫外线处理的紫外线处理槽(6)；在富氧化槽(3)内利用由回旋流生成部生成回旋流来分离被处理水和微细气泡的气液分离部(13)；以及除去在气液分离部(13)与所述微细气泡一起被分离的杂质的杂质除去部(21)。
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公开(公告)号：CN100422094C
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200610006370.1
申请日：2006-01-17
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 根据用途要求中水水质不同的情况，在切换消毒处理或改变运行控制量时，还没有使整个工序的运行成本达到最小的办法。流入下水(1)，通过固液分离、有机物/营养盐去除装置(2)进行处理，形成消毒有效成分A反应部(5)的流入水(3)。在反应部(5)，通过消毒有效成分A(18)进行处理，作为流入水(6)进入消毒有效成分B反应部(7)。在反应部(7)，通过消毒有效成分B(19)进行处理，作为处理水(8)得到中水。最佳运行操作量演算装置(13)预先给出处理水质目标值(12a、12b)。读取以下水质信息：流入水质计测器(4a、4b)，得到对应于目标值a、b的流入水质信息(10a、10b)，同样，处理水质计测器(9a、9b)得到对应于目标值a、b的处理水质信息(11a、11b)。最佳运行操作量演算装置(13)满足处理水质目标值条件，并且使整体运行成本达到最小。演算反应部(5、7)的操作量最佳值来进行控制。
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