一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法

    公开(公告)号:CN115000203A

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210697039.8

    申请日:2022-06-20

    Abstract: 本发明公开了一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法,该制备方法将纳秒激光辅助水射流近无损伤加工和飞秒激光扫描相结合,通过将纳秒激光辅助水射流近无损伤加工技术和超短脉冲飞秒激光“冷”加工技术相结合,可有效降低单晶硅激光制绒过程中的重铸层现象和热裂纹引起的亚表面损伤;同时通过调整纳秒激光辅助水射流工艺参数和飞秒激光工艺参数可以对微米尺度框架结构和纳米尺度结构分别进行灵活的修改,可以在一个微纳双尺度混合结构中同时实现几何陷光效应和有效介质效应,减少表面反射。

    一种用于薄壁微小孔的微应力磨料流体研抛方法

    公开(公告)号:CN113084693A

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN202110377233.3

    申请日:2021-04-08

    Applicant: 山东大学

    Abstract: 本发明涉及机械加工微细研抛加工技术领域,尤其是一种适用于薄壁小孔的微应力研抛方法。在超精密机床上实施,是将带有表面纹理研磨头的研磨棒装夹到超精密机床上,偏置放入被加工的薄壁微小孔腔内,进行研抛加工;在启动研磨棒转动时,保持偏置量S情况下绕薄壁微小孔的中心公转;并在研磨棒对薄壁微小孔内腔进行研抛加工的部位,加入含有磨料粒子的液体磨料实施加工。研磨棒高速回转带动磨料流体流动,在楔形流场空间形成动压磨料流体层,使磨料粒子冲蚀微小孔壁面,实现冲蚀抛光作用。由于研磨头与薄壁微小孔孔壁不接触,对孔壁面实现无变形精密研抛。研磨头的表面纹理使磨料的动能有效增加,提高了材料去除率,有效提高了加工质量和效率。

    一种用于磨料水射流设备的对刀装置及对刀方法

    公开(公告)号:CN112809558B

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202110251748.9

    申请日:2021-03-08

    Applicant: 山东大学

    Abstract: 本公开提供了一种用于磨料水射流设备的对刀装置及对刀方法,属于加工制造技术领域,该装置包括可拆卸地安装在水射流切割设备的喷射口上的固定件,所述固定件内设有光源,所述固定件沿着喷射口喷射的方向依次连接凹凸镜、凸透镜,凹透镜、凸透镜同轴放置,光源发射的光能够垂直穿过凹透镜和凸透镜,所述凹透镜能够沿着喷射的方向移动。通过该装置可以便于操作人员确定加工的起点以及确定射流和工件接触面的大小和形状。

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