多自由度超低频精密隔振系统

    公开(公告)号:CN1477319A

    公开(公告)日:2004-02-25

    申请号:CN03111605.1

    申请日:2003-05-01

    Abstract: 多自由度超低频精密隔振系统,它涉及一种机械式隔振系统。它由水平隔振装置(A)、垂直隔振装置(B)、水平设置的隔板(C)、位于隔板(C)上方水平设置的台面板(D)组成,至少三个垂直隔振装置(B)支撑在隔板(C)的下面,在隔板(C)的上面设有至少三个水平隔振装置(A),水平隔振装置(A)支撑在台面板(D)的下面。它解决了现有隔振系统存在的固有频率较高、机动性能低、适应能力差的问题。本发明为精密工程领域设计研制一套廉价、可靠、机动性能好、适应能力强、隔振能力优于空气弹簧的超低频多自由度隔振系统。其垂直方向和水平方向的固有频率皆<0.5Hz,阻尼比>0.1。

    一种光学零件加工与检测一体化制造装置及制造方法

    公开(公告)号:CN102303224A

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN201110145033.1

    申请日:2011-05-31

    Abstract: 一种光学零件加工与检测一体化制造装置及制造方法,属于光学零件加工领域,本发明为解决现有光学零件加工大多采用离线测量方式,加工效率低;现有的光学零件加工设备无法满足在线测量的要求的问题。本发明的工件主轴、刀具主轴和剪切干涉仪安装在加工机床的工作台面上,工件主轴上安装工件,刀具主轴通过摆臂及刀架安装刀具,数控系统驱动刀具主轴旋转,带动刀具对工件进行加工,剪切干涉仪发出的检测光束的光轴与工件主轴的中心线在同一直线上,剪切干涉仪发出检测光束至工件,剪切干涉仪采集检测光束返回的图像信息发送给测量信息处理系统,测量信息处理系统根据获取工件表面的面形误差信息,并发送给数控系统,数控系统对工件进行补偿加工。

    一种适合于金刚石刀具制造的热-机耦合刃磨工艺

    公开(公告)号:CN101659020A

    公开(公告)日:2010-03-03

    申请号:CN200910072872.8

    申请日:2009-09-14

    Abstract: 一种适合于金刚石刀具制造的热-机耦合刃磨工艺,它涉及一种适合于金刚石刀具制造的刃磨工艺。本发明解决了现有的金刚石刀具的机械刃磨工艺无法解决金刚石刀具刃口锋利度优于10nm的问题。本发明的方法步骤为:调节金刚石刀具刃磨机床平衡;钢制研磨盘工作表面经过精车成形后热处理,并精细抛光,达到镜面效果;对研磨机床主轴系统进行精细动平衡;装卡金刚石刀具,刀体卡具调水平;打开气源,开启金刚石刀具刃磨机床电源,调节机床主轴转速;调整前刀面刃磨方向为易磨方向,调节刀具前角;在研磨速度为33.96m/s、研磨压力为5.95N、研磨时间为5min的条件下刃磨刀具。本发明具有刃磨工艺简单、成本低、效率高的特点,可刃磨出优于10nm刃口锋利度的金刚石刀具。

    原位纳米拉伸实验测量检测装置

    公开(公告)号:CN101285747A

    公开(公告)日:2008-10-15

    申请号:CN200810064383.3

    申请日:2008-04-25

    Abstract: 原位纳米拉伸实验测量检测装置,它涉及一种拉伸实验测量检测装置。本发明解决了现有的机械性能的测量及微观形貌的检测是独立的、分离的两个过程的问题。本发明的步进电机(1)的输出轴与联轴器(2)固接,机架底板(4)上固装有导轨(7),导轨(7)上安装有左车架组(42)和右车架组(43),左右旋丝杠(8)的两端分别与联轴器(2)和轴承座(21)连接,力传感器(18)的左右端面分别与右夹具连接块(14)和力传感器保持架(19)固接,读数装置(44)安装在机架底板(4)上,拉伸测量装置(41)固装在检测装置的工作台(46)上。本发明促进了需要对样品在受力状态下微观形貌变化进行动态观察的研究领域的进一步发展,对纳米复合功能材料的机械性能的测量及微观形貌的检测具有重要的理论意义和良好的应用前景。

    常压等离子体抛光方法

    公开(公告)号:CN101032802A

    公开(公告)日:2007-09-12

    申请号:CN200710072022.9

    申请日:2007-04-11

    Abstract: 常压等离子体抛光方法,它涉及一种抛光方法。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法存在的不足及在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、易产生表层及亚表层损伤、表面清洗困难等问题。本发明的方法主要是,等离子体气体与反应气体的体积比为4∶1~1000∶1;启动射频电源,逐步施加功率,控制反射功率为零,初始有效功率为180~240瓦,常用功率为400~1200瓦,最高功率可加至1500瓦。本发明可在常压下通过等离子体化学反应实现超光滑表面加工,不需要真空室,可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的十倍,并且无表面损伤、无亚表层损伤、无表面污染,抛光工件的表面粗糙度小于1nm Ra。

    非线性压杆弹簧装置
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1936357A

    公开(公告)日:2007-03-28

    申请号:CN200610150921.1

    申请日:2006-10-19

    Abstract: 一种非线性压杆弹簧装置,涉及一种弹簧装置。本发明解决了目前的弹簧装置不适用于低频环境,尤其是2Hz以下的情况,它包括弹簧外套、上端盖、压杆、导向滑块和导向槽,弹簧外套是带底的圆筒状的非线性压杆弹簧装置的外壳;上端盖是与弹簧外套底面平行、间隙配合嵌入到弹簧外套内,其上部中央带有突起的圆盘;压杆沿上端盖圆周均匀分布、垂直于弹簧外套的底面、两端分别固定安装在弹簧外套的底部和上端盖的下表面上;导向槽是在弹簧外套的内侧壁的上部均匀分布垂直开的若干个凹槽;导向滑块分别与所述若干个导向槽的位置对应固定安装在上端盖的侧壁上、并且分别嵌入安装在所述的导向槽中。本发明可以广泛的应用在低频或超低频隔振环境中需要弹性支承的地方。

    常压等离子体抛光装置

    公开(公告)号:CN1876320A

    公开(公告)日:2006-12-13

    申请号:CN200610010296.0

    申请日:2006-07-17

    Abstract: 常压等离子体抛光装置,它涉及一种抛光装置。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法存在的不足及在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、易产生表层及亚表层损伤、表面清洗困难等问题。本发明的主要部件包括:密封工作舱(51)、等离子体炬(53)、第一联动系统(52)、第二联动系统(57)、第一流量控制器(60)、第二流量控制器(65)、反应气体瓶(61)、等离子体气体瓶(62)、气体回收处理装置(63),等离子体炬(53)安装在第一联动系统(52)上。本发明可在常压下通过等离子体化学反应实现超光滑表面加工,不需要真空室,可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的十倍,并且无表面损伤、无亚表层损伤、无表面污染。

    用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬

    公开(公告)号:CN1864921A

    公开(公告)日:2006-11-22

    申请号:CN200610010156.3

    申请日:2006-06-14

    Abstract: 用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬,它涉及一种等离子体抛光设备。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、容易产生表层及亚表层损伤和现有的平行板式等离子体抛光方法中存在的加工痕迹难以消除,以及感应耦合式等离子体炬存在的内炬管易腐蚀,成本高,系统的维护性不好等问题。本发明阴极(6)的外壁与外套(9)的内壁之间形成水冷环形空间(13),阳极水冷导管(1)设置在阳极(5)的内腔(16)内。本发明不需要真空室,本发明加工效率约是传统抛光方法的10倍。不会像真空等离子体那样对超光滑表面造成表面损伤、亚表层损伤和表面污染,实现了光学零件的高效率高质量加工。

    微机械零件三维加工方法
    39.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1279414C

    公开(公告)日:2006-10-11

    申请号:CN200410013615.4

    申请日:2004-03-15

    Abstract: 微机械零件三维加工方法,它属于一种超精密加工方法。现有诸多微机械零件的加工方法存在只能加工准三维结构等弊端。本发明两种方法都需结合现有的微机械零件三维加工装置来实现:依次设置扫描探针显微镜等的工作参数,将样品放在三维工作台上,通过控制工作台X、Y向运动开始加工第一个图形;当加工完第一个图形后抬起探针,工作台作二维移动后开始加工下一个图形,直到加工完所有的图形。另一种方法是,三维工作台按预先设置的值在X、Y、Z向移动,一次加工完全部图形后,通过扫描陶管作收缩运动抬起探针,结束加工。本发明方法可以进行真正的三维加工,去除量在纳米量级,对表面的破坏极小,它可以应用于MEMS器件、掩膜和微小模具的制造。

    用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬

    公开(公告)号:CN2917929Y

    公开(公告)日:2007-07-04

    申请号:CN200620021020.8

    申请日:2006-06-14

    Abstract: 用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬,它涉及一种常压等离子体抛光设备。本实用新型的目的是为解决常规的机械式研抛方法在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、容易产生表层及亚表层损伤和内炬管易腐蚀,成本高,系统的维护性不好,等离子体火焰外形难以控制等问题。本实用新型阴极(6)的外壁与外套(9)的内壁之间形成水冷环形空间(13),阳极水冷导管(1)设置在阳极(5)的内腔(16)内。本实用新型不需要真空室,其等离子体火焰的外形可根据需要更换不同的端部盖板加以控制,有利于控制加工轨迹的重复性。不会像真空等离子体那样对超光滑表面造成表面损伤、亚表层损伤和表面污染,实现了光学零件的高效率高质量加工。

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