研磨组合物及其制造方法、以及研磨方法

    公开(公告)号:CN107743515A

    公开(公告)日:2018-02-27

    申请号:CN201680033515.9

    申请日:2016-05-06

    CPC classification number: B24B37/00 C09K3/14 H01L21/304

    Abstract: 本发明是一种研磨组合物,其包含二氧化锆作为磨粒,所述研磨组合物的特征在于,pH值是11.0以上且未满12.5;前述二氧化锆中所包含的钠、镁、铝、钾、钙、钛、铬、铁、锰、镍、铜、锌、铅及钴的元素浓度各自未满1ppm。由此,提供一种研磨组合物,其可生产性良好地获得一种半导体基板,所述半导体基板不仅内周部的平坦性高,外周部的平坦性也高,并且由金属杂质所造成的污染少。

    量子点的制造方法
    36.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115362238B

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202180026031.2

    申请日:2021-03-02

    Abstract: 本发明提供一种量子点的制造方法,所述量子点为结晶性纳米颗粒荧光体,所述制造方法中,使用含有彼此不同的元素的第一前驱体溶液及第二前驱体溶液,将第二前驱体溶液制成气溶胶并向已加热的第一前驱体溶液进行喷雾、或者将第一前驱体溶液及第二前驱体溶液分别制成气溶胶并向已加热的溶剂进行喷雾,由此使第一前驱体溶液与第二前驱体溶液进行反应,合成含有彼此不同的元素的核颗粒。由此,提供一种能够在大规模的合成中抑制量子点的粒径的不均匀性及伴随于此的发射波长的分布的增大的量子点的制造方法。

    核壳型量子点及核壳型量子点的制造方法

    公开(公告)号:CN117242588A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202280030593.9

    申请日:2022-03-24

    Abstract: 本发明为一种核壳型量子点,该核壳型量子点具备:由含有S、Se或Te中的至少一种与Zn的第II‑VI族元素构成的半导体纳米晶体核;及包覆所述半导体纳米晶体核且包含由第II‑VI族元素构成的单层或多层的壳层的半导体纳米晶体壳,所述壳层中的至少一层为含有Mg的壳层。由此,提供量子产率、荧光发光效率得以提高且发光的半峰全宽窄的核壳型量子点及该核壳型量子点的制造方法。

    量子点的表面处理方法及表面处理装置

    公开(公告)号:CN116547232A

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202180080828.0

    申请日:2021-11-30

    Abstract: 本发明涉及一种量子点的表面处理方法,其将包含具有配位性取代基及反应性取代基的配体通过所述配位性取代基配位于表面的量子点与有机硅化合物的溶液连续地供给至由透射光的材料构成的反应管道的同时,对所述反应管道照射光,使所述有机硅化合物与所述反应性取代基进行光聚合反应,从而利用所述有机硅化合物覆盖所述量子点的表面。由此,即使在使用大量的溶液进行表面处理时,也能够稳定地利用有机硅化合物进行量子点的表面覆盖,从而能够得到生产率高且稳定性优异的量子点,从而还提供一种可提供可靠性高的波长转换材料的量子点的表面处理方法。

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