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公开(公告)号:CN107340688B
公开(公告)日:2022-05-06
申请号:CN201710233535.7
申请日:2017-04-11
Applicant: 东友精细化工有限公司
IPC: G03F7/11
Abstract: 本发明提供一种硬掩模用组合物,其通过包含含有选自由特定化学式组成的组中的至少一种重复单元的聚合物和溶剂,从而能够形成具有优异的耐热性、高温耐热性及涂覆均匀性的抗蚀剂下层膜(硬掩模)。更详细而言,所述聚合物包含选自由下述化学式1‑1和化学式1‑2组成的组中的至少一种重复单元,下述化学式1‑1中,Ar1及Ar2各自独立地为碳原子数6~20的芳香族烃基,或者Ar1为氢原子且Ar2为碳原子数1~25的烃基,Ar1和Ar2可彼此连结而形成5~7元环,n为1~3的整数;下述化学式1‑2中,Ar3为4~20的亚芳基。
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公开(公告)号:CN109143782B
公开(公告)日:2022-02-08
申请号:CN201810482174.4
申请日:2018-05-18
Applicant: 东友精细化工有限公司 , 崔相俊
Abstract: 本发明提供硬掩模用组合物及图案形成方法,所述硬掩模用组合物包含:具有来源于碳原子数6~40的芳香族化合物的芳香族单元与来源于含有脂肪族不饱和基团的缩醛化合物的脂肪族不饱和单元结合而成的重复单元的聚合物、及溶剂。通过使用硬掩模用组合物,能够形成耐热性、耐蚀刻性、涂布性同时提高了的硬掩模。
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公开(公告)号:CN108227386A
公开(公告)日:2018-06-29
申请号:CN201711340198.8
申请日:2017-12-14
Applicant: 东友精细化工有限公司
IPC: G03F7/11
Abstract: 本发明提供一种硬掩模用组合物,该硬掩模用组合物包含下述化学式1所表示聚合物和溶剂,下述化学式1所表示聚合物包含含有芘系单元和咔唑系单元中的至少一种的第一单元、以及含有甲苯基或联苯基的第二单元。由该硬掩模用组合物能够形成耐蚀刻性、溶解性和平坦性同时提高的硬掩模。化学式1中,Ar1表示所述第一单元,Ar2表示所述第二单元,n为2~100的整数。化学式1
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公开(公告)号:CN107526253A
公开(公告)日:2017-12-29
申请号:CN201710413831.5
申请日:2017-06-05
Applicant: 东友精细化工有限公司
IPC: G03F7/11
CPC classification number: G03F7/11
Abstract: 本发明提供一种硬掩模用组合物,其包含含有选自由下述化学式1-1和1-2组成的组中的至少一种重复单元的共聚物和溶剂。下述化学式1-1中,Ar1和Ar2各自独立地为碳原子数6~30的二价芳烃基,R1为碳原子数1~6的烷基或碳原子数6~35的芳基,Ar1、Ar2和R1各自独立地可被碳原子数1~6的烷基、羟基、甲氧基或苯基进一步取代,n为1~190的整数;下述化学式1-2中,Ar1和Ar2各自独立地为碳原子数6~30的二价芳烃基,R2为氢原子或碳原子数1~6的烷基,Ar1和Ar2各自独立地可被碳原子数1~6的烷基、羟基、甲氧基或苯基进一步取代,n为1~190的整数。
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