公开(公告)号：CN1521805A

公开(公告)日：2004-08-18

申请号：CN200410031210.3

申请日：2004-02-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木康晴 ,  长池宏史 ,  守屋刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  C23F4/00

CPC classification number: H01J37/32642 ,  H01J37/32706 ,  H01L21/67069

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置、环形部件以及等离子体处理方法，利用等离子体进行处理，当执行相互不同的多个处理时实现装置公用化，在多个装置中执行相同处理时易统一装置之间的等离子体状态，利用由绝缘材料构成的环形部件环绕处理容器内的被处理基板，在此环形部件内设置用于调整等离子体源区的电极，构成为例如在对被处理基板执行第一处理时对该电极施加第一直流电压、在执行第二处理时对该电极施加第二直流电压，此时，由于对应于执行每一处理或相同处理的各装置通过施加合适的直流电压就可统一等离子体的状态，所以可实现装置公用化，并易对等离子体状态进行调整。