-
公开(公告)号:CN103165722A
公开(公告)日:2013-06-19
申请号:CN201310101906.8
申请日:2013-03-27
Applicant: 上海空间电源研究所
IPC: H01L31/075 , H01L31/0352
CPC classification number: Y02E10/50
Abstract: 本发明公开了一种微晶硅薄膜太阳电池,该太阳电池包含从下到上依次设置的柔性衬底、背反射电极、N型非晶硅掺杂层、微晶硅本征吸收层、P型非晶硅轻掺杂层、P型非晶硅掺杂层以及透明导电薄膜;P型非晶硅轻掺杂层的带隙为1.5eV~1.9eV;该P型非晶硅轻掺杂层的厚度为1nm~20nm。P型非晶硅轻掺杂层通过等离子体增强化学气相沉积设备来制备,反应气体为硅烷、氢气及硼烷。本发明提供的微晶硅薄膜太阳电池,能够有效地改善本征吸收层与P型非晶硅掺杂层之间的能带和界面失配,有利于载流子的输出和收集,从而提高电池的转换效率。
-
公开(公告)号:CN103077981A
公开(公告)日:2013-05-01
申请号:CN201110331873.7
申请日:2011-10-26
Applicant: 上海空间电源研究所
IPC: H01L31/0352 , H01L31/076 , H01L31/20
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及光伏太阳电池,公开了一种柔性衬底硅基多结叠层薄膜太阳电池,包括在金属箔或聚酯膜柔性衬底上依次沉积的背反射电极、微晶硅(μc-Si:H)或非晶硅锗(a-SiGe:H)底电池、非晶硅(a-Si:H)顶电池、透明导电薄膜、金属栅线;其中,底电池和顶电池间采用复合隧穿结进行电学连接。本发明还公开了该电池的制造方法,包括:溅射沉积背反射电极、沉积微晶硅或非晶硅锗底电池、沉积非晶硅顶电池、溅射沉积ITO、SnO2·F、ZnO:Al、ZnO:Ga等透明导电薄膜、电化学钝化、制备金属栅线等步骤。本发明提高了电池转化效率和大面积均匀性,获得高效率和高功率重量比等有益效果,同时制备工艺简单,可实现规模化生产。
-
公开(公告)号:CN102148280A
公开(公告)日:2011-08-10
申请号:CN201010108650.X
申请日:2010-02-10
Applicant: 上海空间电源研究所
IPC: H01L31/075 , H01L31/028 , H01L31/20
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种新型硅基底异质结太阳电池。本发明在N型单晶硅或多晶硅片的背面蒸发Ag背电极,在硅片的正面(电池的受光面)依次沉积本征非晶硅(i-a-Si:H),P型纳米硅(p-nc-Si:H),P型重掺杂的非晶硅(p+-a-Si:H),超薄的本征非晶硅(i-a-Si:H),最后在其上溅射一层ITO透明导电薄膜,丝网印刷Ag栅线电极。本发明具有上述新型结构的太阳电池,比普通的硅太阳电池成本低,降低了普通非晶硅太阳电池的光致衰退,具有更好的长期使用稳定性,光吸收能力强,光电转换效率高。在AM1.5,100mW/cm2的标准模拟光强下,效率达到了17.2%。
-
-