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公开(公告)号：CN103234509B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201310116695.5
申请日：2013-04-07
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01C1/00
Abstract: 本发明提供了一种测量两条光束之间夹角的光束夹角测量装置，其特征在于，包括：本体；复数个入光感应部，位于本体侧壁的一侧，用于与相交点重合并且接收两条光束的穿射；入光采集部，用于采集两条光束在入光感应部上形成的两个入光点；复数个感光档位部，位于与复数个入光感应部对向另一侧，复数个感光档位部与复数个入光感应部匹配设置；感光采集部，用于采集两条光束在感光档位部上形成的两个感光点；存储部；控制部，用于判断入光点的数量并且当两个入光点重合时控制感光采集部采集感光点否则发送报警命令；计算部；报警部；显示部；以及调节架，使两条光束来入射任意一个入光感应部，其中，两个光束所形成的平面与侧壁相垂直。
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公开(公告)号：CN103424995B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201310222013.9
申请日：2013-06-05
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明主要提供了光刻胶厚度对滤光片的影响，并对其进行了优化。其特征在于：在波导层上方进行衍射光栅的制作，光刻胶在曝光显影过程中，由于曝光时间以及显影时间的影响，使得最后全息方法制作的光栅的槽深并不是实际匀胶的厚度，所以在导模层和衍射光栅层还存在一层没有感光的光刻胶层，而这直接影响到实际制作滤光片的带宽以及峰值位置。该方法实现了未成功曝光显影光刻胶对滤光片反射产生的调制作用。不仅对实际制备过程中匀胶厚度极限有指导作用，也能够根据此结果中未显影光刻胶优化厚度来调整其他后期滤光片的工艺参数。本发明实施方便可用于滤光片的制作以及生物传感等领域。
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公开(公告)号：CN103234509A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310116695.5
申请日：2013-04-07
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01C1/00
Abstract: 本发明提供了一种测量两条光束之间夹角的光束夹角测量装置，其特征在于，包括：本体；复数个入光感应部，位于本体侧壁的一侧，用于与相交点重合并且接收两条光束的穿射；入光采集部，用于采集两条光束在入光感应部上形成的两个入光点；复数个感光档位部，位于与复数个入光感应部对向另一侧，复数个感光档位部与复数个入光感应部匹配设置；感光采集部，用于采集两条光束在感光档位部上形成的两个感光点；存储部；控制部，用于判断入光点的数量并且当两个入光点重合时控制感光采集部采集感光点否则发送报警命令；计算部；报警部；显示部；以及调节架，使两条光束来入射任意一个入光感应部，其中，两个光束所形成的平面与侧壁相垂直。
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公开(公告)号：CN102866445A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210388282.8
申请日：2012-10-15
Applicant: 上海理工大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种凹面闪耀光栅的设计方法，对于给定半径为R的凹面基片，通过在基片上刻划设定角度和间距的刻槽，得到凹面闪耀光栅，所述的入射光为点光源发出的球面波，点光源位于罗兰圆上；设计刻槽面的角度，使得入射光线与所有的刻槽面保持垂直；设计刻槽的间距，使得相邻刻槽的光程差为指定波长的整数倍；利用自由曲面加工仪在凹面基片上逐条刻划出相应角度及间距的刻槽，得到所需的凹面闪耀光栅。设计出的凹面光栅会对指定波长λ具有显著的闪耀增强效果，实施方便，只涉及到初等数学的计算，不需要专业的光学设计软件，设计的凹面闪耀光栅可广泛应用于光谱分析仪器、光学探测及光学测量等技术领域。
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公开(公告)号：CN101697020B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200910207563.7
申请日：2009-10-20
Applicant: 上海理工大学
IPC: G02B5/20
Abstract: 一种双通道光谱能量调谐滤光片，用电子蒸发法在基底层镀上一层厚度为160nm的均匀二氧化铪膜层，用旋涂法在二氧化铪膜层上镀上一层厚度为227nm的光刻胶并烘干，再在光刻胶层上用曝光和显影技术制作高低折射率材料为光刻胶和入射媒质的光栅，即得到双通道光谱能量调谐滤光片。通过调节方位角可以实现在双通道调谐反射光谱能量。本发明实施方便、窄带光谱，可广泛应用于光学仪器、光学探测、光学测量及生物医学等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102507144A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201110297963.9
申请日：2011-09-30
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 一种紫外传感增强膜变频效率的测试方法，A)变频效率定义为薄膜表面发生波长转换的紫外光子数与入射到薄膜的紫外光子数之比：B)计算薄膜表面入射紫外修正光子数C)计算出立体角修正数SA＝2πr(1-cosθ)；D)计算出样品表面发生波长转换的紫外光子E)将Photonsemitted和Photonsincident代入公式(1)求得变频效率CE。本发明通过采用直接对功率进行测量的方式，省去了光电转换这一环节，有效的克服现有技术对紫外增强膜变频效率测试方法测量精度不高的弊端，本发明技术方案基于对准确性、操作性、稳定性等方面进行综合性技术考虑，所采用的测试方法，不仅大大减小了误差，有效提高了测量的准确性，而且操作方便，稳定性强。
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公开(公告)号：CN101819927B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN201010146042.8
申请日：2010-04-13
Applicant: 上海理工大学
IPC: H01L21/268 , H01L21/3065 , B28D5/00 , B23K26/12
Abstract: 一种微纳结构硅材料的制备系统，特点是：反射镜、连续可调衰减片、光快门、透镜和三维调整台固定在光学平台上，不锈钢长腔真空室安装在三维调整台上，不锈钢长腔真空室前端有窗片，其内部的后表面粘贴有硅片，外部与真空室充气管道连接，所述管道上设置有两个微调阀，光快门通过导线与脉冲计数器连接。通过连续可调衰减片调节入射激光功率，配合使用脉冲计数器准确控制蚀刻的脉冲数量，并利用微调阀门调节真空室内气体压强，最终实现各种不同形貌的微纳结构硅材料的形成。本发明生产工艺简单，操作便捷，所得微纳结构的硅材料具有跨度超过2500nm的吸收光谱，且反射率低于10％。
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公开(公告)号：CN101900844A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010169360.6
申请日：2010-05-07
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开了一种闪耀凸面光栅的反应离子束蚀刻方法，包括以下步骤：步骤一、凸面光栅掩模石英基片的放置；步骤二、若凸面光栅掩模石英基片的球半径为R，要制成的闪耀凸面光栅的闪耀角为θ，则将离子束方向与光栅顶点处刻线所在平面成θ角；步骤三、制作蚀刻狭缝；步骤四、狭缝的放置；步骤五、蚀刻凸面光栅。本发明的技术方案是采用分段蚀刻法，也就是对槽形为正弦型的凸面光栅掩模石英基片进行分段离子束蚀刻，使得蚀刻后的闪耀凸面光栅的闪耀角理论相对误差为0.1。
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公开(公告)号：CN100501491C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200510024377.1
申请日：2005-03-14
Applicant: 上海理工大学
IPC: G02B17/06
Abstract: 本发明公开了一种同心三反射镜光学系统“无”像差环视场设计方法，其步骤是：给定同心三反射镜系统；使凸面反射镜半径r大于等于凹面反射镜半径R的一半；将凹面反射镜半径R和凸面反射镜半径r代入公式：见右下式，则可计算出“无”像差环视场的半径h。与传统的运用光学计算机辅助设计软件设计相比具有以下优点：计算十分简单并且只要初等数学计算就可以解决，不需要光学计算机设计软件，不需要光学设计专业知识。
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