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公开(公告)号:CN1734350A
公开(公告)日:2006-02-15
申请号:CN200510098086.7
申请日:2005-06-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L51/052 , C08L63/00 , G03F7/027 , G03F7/038 , H01L51/0052 , C08L2666/02
Abstract: 在此公开了一种用于形成有机绝缘膜的光构图组合物,其中包含:(i)一种含有功能基的单体;(ii)一种在光照下产生酸或自由基的引发剂和(iii)一种有机或无机聚合物。更进一步公开了使用该组合物形成有机绝缘膜图案的方法。根据本发明,由于有机绝缘膜无需任何光致抗蚀剂处理就能简单地构图,故简化了整体的工序,最终能够通过全湿工艺制得具有高电荷迁移率的有机薄膜晶体管。
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公开(公告)号:CN1500715A
公开(公告)日:2004-06-02
申请号:CN200310104313.3
申请日:2003-10-24
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B82Y30/00 , B82Y10/00 , G03F7/0392 , G03F7/165 , G03F7/168 , G03F7/40 , Y10S977/842
Abstract: 本发明公开了一种形成碳纳米管图形的方法,它包括用光刻法在表面处理的基质上形成图形,利用化学自组装工艺在其上层压碳纳米管,从而形成单层或多层结构的碳纳米管。根据该方法,可很容易在如玻璃、硅晶片或塑料上形成碳纳米管图形,单层或多层碳纳米管图形。因此,该方法可用于构成具有高导电率的碳纳米管层图形。因此可用于制造能量贮存器的工艺中,例如,太阳能电池和电池组、平板显示屏、晶体管、化学和生物的传感器、半导体装置,等等。
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