碳化硅粉末及其制备方法
    33.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109790035A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201780061294.0

    申请日:2017-10-24

    Abstract: 本发明涉及一种使用超多孔球形二氧化硅气凝胶作为二氧化硅原料的超纯碳化硅的制备方法,其中,相对于碳原料的反应区域增加,使得能够低温合成碳化硅,可以均匀地控制碳化硅粉末的尺寸和形状以制备超纯碳化硅,通过使用低成本的水玻璃制备二氧化硅气凝胶粒子,可以提高碳化硅合成的经济效率和生产率,因此,预期可以提供通过本发明的制备方法制备的碳化硅粉末作为制备碳化硅烧结体和单晶(晶锭)的最佳原料。

    制造微透镜阵列的装置和方法

    公开(公告)号:CN102186659B

    公开(公告)日:2014-02-19

    申请号:CN201080001282.7

    申请日:2010-06-03

    CPC classification number: B29D11/00365 B29D11/00298 G02B3/0031

    Abstract: 一种用于制造微透镜阵列的装置,其中通过调节真空室内的真空度而形成微透镜阵列,可以很容易地制造具有各种标准的透镜。所述装置包括:真空室,其中包括真空空间;真空单元,其用于在所述真空室内形成真空;上架,其设置于所述真空室内,且所述上架的下表面安装有基板;升降机,其用于升降所述上架;下架,其设置于所述上架下方;靠模样板,其设置于所述下架上,并且在所述靠模样板的上表面上包括多个模压槽;以及加热器,其安装于所述靠模样板的一侧,用于加热所述靠模样板。

    改进的倾斜入射角沉积装置、使用它制造非反射性光学薄膜的方法以及非反射性光学薄膜

    公开(公告)号:CN102439488B

    公开(公告)日:2014-01-29

    申请号:CN200980159449.X

    申请日:2009-12-07

    CPC classification number: G02B1/118 C23C14/044 C23C14/225 C23C14/564

    Abstract: 本发明公开一种制造非反射性光学薄膜的方法。根据本发明,该方法包括:第一步,将玻璃基底安装在与腔室内形成的支撑杆连接的支撑板上;第二步,垂直移动支撑杆,使得玻璃基底可以与地面平行;第三步,使用沉积材料在玻璃基底上沉积第一折射层;第四步,移动支撑杆,使得沉积有第一折射层的玻璃基底可以具有一定的入射角度;第五步,利用用于增大孔隙度的过滤层,在玻璃基底上沉积折射率比第一折射层小的第二折射层,过滤层位于玻璃基底的下方区域并且增大朝向玻璃基底移动的沉积材料的孔隙度;第六步,从玻璃基底的下方区域移除用于增大孔隙度的过滤层,并且垂直移动支撑杆,使得沉积有第一折射层和第二折射层的玻璃基底可以与地面平行;和第七步,重复第三步至第五步一次,其中第一折射层和第二折射层可以由相同的沉积材料沉积形成。

    改进的倾斜入射角沉积装置、使用它制造非反射性光学薄膜的方法以及非反射性光学薄膜

    公开(公告)号:CN102439488A

    公开(公告)日:2012-05-02

    申请号:CN200980159449.X

    申请日:2009-12-07

    CPC classification number: G02B1/118 C23C14/044 C23C14/225 C23C14/564

    Abstract: 本发明公开一种制造非反射性光学薄膜的方法。根据本发明,该方法包括:第一步,将玻璃基底安装在与腔室内形成的支撑杆连接的支撑板上;第二步,垂直移动支撑杆,使得玻璃基底可以与地面平行;第三步,使用沉积材料在玻璃基底上沉积第一折射层;第四步,移动支撑杆,使得沉积有第一折射层的玻璃基底可以具有一定的入射角度;第五步,利用用于增大孔隙度的过滤层,在玻璃基底上沉积折射率比第一折射层小的第二折射层,过滤层位于玻璃基底的下方区域并且增大朝向玻璃基底移动的沉积材料的孔隙度;第六步,从玻璃基底的下方区域移除用于增大孔隙度的过滤层,并且垂直移动支撑杆,使得沉积有第一折射层和第二折射层的玻璃基底可以与地面平行;和第七步,重复第三步至第五步一次,其中第一折射层和第二折射层可以由相同的沉积材料沉积形成。

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