公开(公告)号：CN103733318A

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201280040387.2

申请日：2012-08-08

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 前平谦 ,  铃木大地 ,  真濑江理子 ,  不破耕

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: B01J3/006 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/32715 ,  H01L21/6831

Abstract: 提供一种真空处理装置以及真空处理方法，能够在进行等离子处理时强力吸附保持绝缘性基板。真空处理装置（1）具有：接地的真空槽（11），与真空槽（11）相连的真空排气装置（19），配置在真空槽（11）内部的吸附装置（40），对设在吸附装置（40）上的单极（3）外加输出电压的吸附用电源（16），向真空槽（11）内导入等离子生成气体的等离子生成气体导入装置（21），以及使等离子生成气体为等离子的等离子生成部（20），将处理对象物（6）配置在吸附装置（40）上，当通过吸附用电源（16）对单极（3）外加输出电圧时，在真空槽内（11）内生成等离子，并且当将处理对象物（6）吸附在吸附装置上时，通过等离子进行处理，其中，处理对象物（6）使用绝缘性基板，吸附用电源（16）向单极（3）输出正电圧和负电圧周期地变化的输出电圧。

公开(公告)号：CN1179407C

公开(公告)日：2004-12-08

申请号：CN00810884.6

申请日：2000-05-25

Applicant: 东陶机器株式会社 ,  株式会社爱发科

Inventor： 北林彻夫 ,  堀裕明 ,  内村健志 ,  建野范昭 ,  不破耕 ,  前平谦

IPC: H01L21/68 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00

CPC classification number: B23Q3/15 ,  B23Q3/154 ,  H01L21/6833 ,  H02N13/00

Abstract: 根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。