公开(公告)号：CN115434804A

公开(公告)日：2022-12-06

申请号：CN202210594012.6

申请日：2022-05-27

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·B·库尔 ,  A·A·曼奇尼 ,  B·A·纳加拉

IPC: F02B77/04

Abstract: 设置成与烃流体接触的部件以及制备该部件的接触表面的方法。该部件可以包括壁，该壁具有被设置为与烃流体接触的接触表面。接触表面由包含金属M的金属形成，其中，M选自镍(Ni)、钯(Pd)和铂(Pt)。包含磷(P)的金属‑配体络合物位于接触表面上。制备部件的接触表面的方法可以包括用包含磷(P)配体的金属‑配体络合物前体对所述接触表面进行处理。

公开(公告)号：CN109868447B

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN201711250097.1

申请日：2017-12-01

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 徐悟生 ,  周宏 ,  钟大龙 ,  L·C·迪亚尔 ,  L·B·库尔

IPC: C23C10/20

Abstract: 通过以下步骤修改制品的表面：在第一温度使初始表面渗铝以形成第一渗铝层以及次层，移除该第一渗铝层的至少一部分，在第二温度使该次层渗铝以形成第二渗铝层，以及最后移除该第二渗铝层的至少一部分以形成经处理表面。该第二温度低于该第一温度，并且该经处理表面的粗糙度小于该初始表面的粗糙度。

公开(公告)号：CN110165840A

公开(公告)日：2019-08-23

申请号：CN201811515952.1

申请日：2018-12-12

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·B·库尔 ,  M·邹 ,  W·张 ,  S·科拉 ,  C·克拉珀 ,  F·约翰逊 ,  S·布雷什

IPC: H02K15/00 ,  H02K1/02 ,  C25D11/02

Abstract: 本公开提供一种方法，其包括：在磁性金属体的一个或多个受保护部分上形成一个或多个氧化物阻挡层；以及通过将具有形成于其上的所述一个或多个氧化物阻挡层的所述磁性金属体暴露于氮中来将所述磁性金属体的一个或多个未受保护部分转变成较小磁性材料。所述磁性金属体中位于所述一个或多个氧化物阻挡层下方的一个或多个受保护部分不转变成所述较小磁性材料。所述方法可以用于形成层叠式电动机的一个或多个层。本公开还涉及用所述方法形成的电动机。

公开(公告)号：CN109868447A

公开(公告)日：2019-06-11

申请号：CN201711250097.1

申请日：2017-12-01

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 徐悟生 ,  周宏 ,  钟大龙 ,  L·C·迪亚尔 ,  L·B·库尔

IPC: C23C10/20

Abstract: 通过以下步骤修改制品的表面：在第一温度使初始表面渗铝以形成第一渗铝层以及次层，移除该第一渗铝层的至少一部分，在第二温度使该次层渗铝以形成第二渗铝层，以及最后移除该第二渗铝层的至少一部分以形成经处理表面。该第二温度低于该第一温度，并且该经处理表面的粗糙度小于该初始表面的粗糙度。

公开(公告)号：CN102758651B

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201210143170.6

申请日：2012-04-27

Applicant: 通用电气公司

Inventor： R·B·雷贝克 ,  R·B·罗林 ,  S·A·韦弗 ,  R·S·班克 ,  D·M·利普金 ,  J·B·麦德莫特 ,  L·B·库尔 ,  A·M·里特

IPC: F01D5/18 ,  F01D5/28 ,  F02C7/18

CPC classification number: F01D25/08 ,  B81B1/002 ,  C23C4/02 ,  C23C4/073 ,  C23C4/18 ,  C23C14/028 ,  C23C14/16 ,  C23C14/5873 ,  F01D5/184 ,  F01D5/187 ,  F05D2230/10 ,  F05D2230/90 ,  F05D2260/202 ,  F05D2260/203 ,  Y02T50/672 ,  Y02T50/676 ,  Y10T29/49339 ,  Y10T29/49341 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/24562 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/2462

Abstract: 本发明涉及构件和使用多种填充剂制造涂覆构件的方法。具体而言，提供的是使用多种填充剂来制造涂覆构件(100)的方法。一种方法包括在基底(110)的外表面(112)中形成一个或更多凹槽(132)。每个凹槽均具有基部(134)并至少部分地沿该基底的外表面延伸。该方法还包括将牺牲性填充剂(32)设置在凹槽(多个)内，将永久性填充剂(33)设置在牺牲性填充剂(32)上，将涂层(150)设置在基底的至少一部分和永久性填充剂上，以及从凹槽(多个)去除第一牺牲性填充剂，以限定用于冷却该构件的一个或更多通道(130)。本发明还提供的是一种带有永久性填充剂(33)的构件(100)。

公开(公告)号：CN101985748B

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201010246496.2

申请日：2010-07-28

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·B·库尔 ,  E·焦尔尼 ,  D·M·格雷 ,  F·索尔博 ,  S·A·泰舍

IPC: C23C18/32 ,  B05D7/14

CPC classification number: C23C18/1601 ,  C23C18/1689 ,  C23C18/36 ,  Y10T428/249994

Abstract: 本发明涉及无电金属镀层中小孔的密封，具体而言，提供了一种用于密封无电金属镀层中的小孔的方法，所述方法包括：(a)用无电金属镀层对衬底进行涂敷以提供包括与衬底的表面接触的无电金属镀层的已涂敷物品，所述无电金属镀层的特征在于存在允许衬底和环境之间的流体连通的小孔缺陷；(b)在无电金属镀层上应用一层可固化的环氧密封剂，并填充小孔缺陷；(c)固化可固化的环氧密封剂以提供固化后的环氧外敷层；以及(d)除去固化后的环氧外敷层的大部分以提供包括基本没有允许衬底和环境之间的流体连通的小孔缺陷的无电金属镀层的物品。

公开(公告)号：CN101012565B

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN200610171744.5

申请日：2006-12-29

Applicant: 通用电气公司

Inventor： L·B·库尔 ,  S·F·鲁特科夫斯基

IPC: C23G1/02

CPC classification number: C23F1/44 ,  C23F1/02 ,  C23F1/16 ,  F01D5/005

Abstract: 一种化学剥离基底(10)的外表面上的金属镀层而不腐蚀由基底(10)内的内通道(18)限定的内表面的方法。盖方法步骤包括在内通道(18)内淀积可热分解的具有75℃以上熔化温度的蜡(20)从而掩蔽基底(10)的内表面，然后用水溶液处理该基底(10)，该水溶液包含分子式HXAF6的酸，式中A是硅、锗、钛、铝、或镓，而x具有1至6的值。该水溶液是处于蜡(20)的溶化温度以下的温度并基本上从基底(10)的外表面剥离金属镀层，同时该蜡(20)基本上不与水溶液反应并防止该水溶液与基底(10)的内表面接触。此后，加热基底(10)以热分解蜡(20)而不产生危险的副产品。

公开(公告)号：CN102758651A

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN201210143170.6

申请日：2012-04-27

Applicant: 通用电气公司

Inventor： R·B·雷贝克 ,  R·B·罗林 ,  S·A·韦弗 ,  R·S·班克 ,  D·M·利普金 ,  J·B·麦德莫特 ,  L·B·库尔 ,  A·M·里特

IPC: F01D5/18 ,  F01D5/28 ,  F02C7/18

CPC classification number: F01D25/08 ,  B81B1/002 ,  C23C4/02 ,  C23C4/073 ,  C23C4/18 ,  C23C14/028 ,  C23C14/16 ,  C23C14/5873 ,  F01D5/184 ,  F01D5/187 ,  F05D2230/10 ,  F05D2230/90 ,  F05D2260/202 ,  F05D2260/203 ,  Y02T50/672 ,  Y02T50/676 ,  Y10T29/49339 ,  Y10T29/49341 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/24562 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/2462

Abstract: 本发明涉及构件和使用多种填充剂制造涂覆构件的方法。具体而言，提供的是使用多种填充剂来制造涂覆构件(100)的方法。一种方法包括在基底(110)的外表面(112)中形成一个或更多凹槽(132)。每个凹槽均具有基部(134)并至少部分地沿该基底的外表面延伸。该方法还包括将牺牲性填充剂(32)设置在凹槽(多个)内，将永久性填充剂(33)设置在牺牲性填充剂(32)上，将涂层(150)设置在基底的至少一部分和永久性填充剂上，以及从凹槽(多个)去除第一牺牲性填充剂，以限定用于冷却该构件的一个或更多通道(130)。本发明还提供的是一种带有永久性填充剂(33)的构件(100)。

公开(公告)号：CN102260519A

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：CN201010192512.4

申请日：2010-05-31

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 王世忠 ,  彭文庆 ,  傅琪佳 ,  邓志刚 ,  吴召平 ,  林川 ,  古彦飞 ,  张晓 ,  L·B·库尔

IPC: C10G9/16 ,  C10G9/18

CPC classification number: C10G9/203 ,  B01J19/0026 ,  B01J19/02 ,  B01J19/2425 ,  B01J23/002 ,  B01J2219/00245 ,  B01J2219/0218 ,  B01J2219/0263 ,  B01J2219/0286 ,  C04B35/505 ,  C04B35/62222 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3248 ,  C04B2235/79 ,  C07C4/04 ,  C10G9/16 ,  C10G9/18 ,  C10G9/36 ,  C10G2300/1033 ,  C10G2300/1044 ,  C10G2300/1059 ,  C10G2300/107 ,  C10G2300/1074 ,  C10G2300/1077 ,  C10G2300/1081 ,  C10G2300/807 ,  C10G2400/20

Abstract: 烃类裂解方法包括：提供蒸汽和烃类；将蒸汽和烃类输入接触烃类的表面含有化学式为AaBbCcDdO3-δ的钙钛矿材料的反应装置，其中0＜a＜1.2，0≤b≤1.2，0.9＜a+b≤1.2，0＜c＜1.2，0≤d≤1.2，0.9＜c+d≤1.2，-0.5＜δ＜0.5；A从钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)及其组合选取；B从锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、铷(Rb)及其组合选取；C从铈(Ce)、锆(Zr)、锑(Sb)、镨(Pr)、钛(Ti)、铬(Cr)、锰(Mn)、铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、镓(Ga)、锡(Sn)、铽(Tb)及其组合选取；D从镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)、钪(Sc)、钛(Ti)、钒(V)、铬(Cr)、锰(Mn)、铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、铜(Cu)、锌(Zn)、钇(Y)、锆(Zr)、铌(Nb)、钼(Mo)、锝(Tc)、钌(Ru)、铑(Rh)、钯(Pd)、银(Ag)、镉(Cd)、铪(Hf)、钽(Ta)、钨(W)、铼(Re)、锇(Os)、铱(Ir)、铂(Pt)、金(Au)、镓(Ga)、铟(In)、锡(Sn)、锑(Sb)及其组合选取。

公开(公告)号：CN102191490A

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN201110054043.4

申请日：2011-02-23

Applicant: 通用电气公司

Inventor： F·索波 ,  L·B·库尔 ,  W·C·布鲁克斯 ,  M·吉安诺滋 ,  E·吉奥尼 ,  T·兰塞克 ,  S·A·特索伊 ,  D·M·格雷 ,  T·C·库蒂斯

IPC: C23C18/36

CPC classification number: C23C18/32 ,  Y10T428/12944 ,  Y10T428/31678

Abstract: 本发明提供一种制备无电镀镍涂层组合物的方法，所述方法包括(a)用无电镀镍涂层涂覆基体，以提供经涂覆基体；和(b)使经涂覆基体经历加热方案，所述加热方案包括加热到约550℃至约700℃温度，保持约7至约30小时。本发明还提供由所述方法制成的制品。