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公开(公告)号：CN115685686A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202110844841.0
申请日：2021-07-26
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州大学 , 盐城维旺科技有限公司
Abstract: 本发明涉及的曝光系统，用以在工件上曝光三维结构，曝光系统沿激光束前进方向依次设置有发射激光束的激光器、用以对激光束的光斑进行变倍扩束的扩束镜、限制激光束的光阑、偏转激光束方向的振镜、以及保证激光束垂直出射的场镜组，振镜包括用以反射激光束的反射片，反射片可旋转以扩大激光束出射的范围，激光束出射的范围为3mm*3mm‑15mm*15mm，曝光系统在光阑作用下，能够在工件上形成三维结构，振镜中的反射片能够可旋转以扩大激光束出射的范围，使得工件和曝光系统在不发生相对移动的情况下，就能曝光多个单元，大大地提高了曝光速率和工件加工效率。
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公开(公告)号：CN114147957A
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202010930423.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/255 , B29C64/245 , B29C64/282 , B29C64/286 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02 , G02B27/09
Abstract: 本发明公开了一种基于投影曝光技术的3D打印系统，包括用于存储液体感光树脂且底部为透明玻璃的物料存储装置、用于曝光感光树脂以形成所需产品的打印设备、实现打印设备相对于物料存储装置的运动平台，打印设备包括光学机构，光学机构设置在透明玻璃的下方，光学机构沿光路传播路径依序包括点光源、将点光源扩束为面光源并整形为平行面光源的整形扩束镜组、用于上载图像的数字微镜元件、将整形后的平行光进行微缩的二级微缩透镜组和将微缩后的光投射至感光树脂上的投影物镜，以及将图像上传至数字微镜元件上的数据处理机构。本发明还公开了一种3D打印的方法，该方法通过上述的基于投影曝光技术的3D打印系统实现。通过上述结构，提升了打印的精度。
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公开(公告)号：CN111427237A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201910024456.4
申请日：2019-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种大面积纳米光刻系统，包括工件台、位置反馈系统、干涉光学系统和控制系统，工件台上设有待光刻的光刻基片；位置反馈系统用于测量和计算工件台的误差；干涉光学系统用于产生干涉曝光场，对光刻基片进行干涉光刻，干涉光学系统包括衍射光学器件；控制系统分别与该工件台、该位置反馈系统和该干涉光学系统电性连接；该控制系统控制该衍射光学器件的运动，用以补偿该工件台的误差。本发明的大面积纳米光刻系统能达到大面积纳米结构高精度制备。本发明还涉及一种大面积纳米光刻方法。
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公开(公告)号：CN111123613A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811297782.4
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，该电致变色显示面板包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，所述电致变色像素阵列包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，所述电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层，所述黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极，所述彩色结构层设置在黑色结构层一侧。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色，又能显示其他颜色，其显示颜色丰富，且结构简单，易于制备，节约了生产成本、提高了产品质量。
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公开(公告)号：CN111123611A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811292878.1
申请日：2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸，包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板，所述电致变色像素阵列包括若干阵列排布，独立控制的电致变色单元，所述电致变色单元包括依次设置的第一电极、电致变色像素层和第二电极；所述第一电极具有与所述第二电极相对的第一相对面，所述第二电极具有与所述第一电极相对的第二相对面，所述第一相对面和/或第二相对面上设有不平整面。该电致变色显示面板及电子纸将电致变色像素阵列设置在第一基板和第二基板之间，并在电致变色像素阵列中的电极上设有不平整面，使两电极之间的电场的分布更均匀，从而加强其导电性效果、加快变色层的变色效果，且结构简单，易于制备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106646884B
公开(公告)日：2020-03-20
申请号：CN201611270016.X
申请日：2016-12-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种大视场投影物镜，包括分光器件、中继透镜组、分光组件。所述中继透镜组包含：非球面透镜组和一片纳米透镜，本发明在光学系统中引入设有衍射面的纳米透镜，用纳米透镜代替双胶合透镜可降低系统的重量。将本发明设计的投影物镜，与DMD、LCD或LCOS显示器件以及相应照明光源配合使用，将显示器件反射的光束收集在出瞳处，出瞳在投影结构外部，和后续的纳米波导镜片匹配，构建的三维显示装置，特别是近眼三维显示装置，具有显示大视场、高像质、光利用效率高特点。
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公开(公告)号：CN110795970A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201810871071.7
申请日：2018-08-02
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及生物特征识别技术，特别涉及用于获取指纹图像的装置、包含该装置的触摸屏和包含该触摸屏的移动终端。按照本发明一个方面的用于获取指纹图像的装置包含：导光板；设置于所述导光板下方的光源；设置于所述导光板与所述光源之间的光学变换单元，其配置为将从所述光源出射的光束变换为准直光束和当所述导光板的上表面未有物体覆盖时，使所述准直光束在所述导光板内部发生全反射；设置于所述导光板下方的成像单元，其配置为对从所述导光板出射的光束进行成像；以及设置于所述成像单元的成像位置处的图像采集单元。
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公开(公告)号：CN110531527A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201810560628.5
申请日：2018-05-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明涉及显示技术，特别涉及用于实现裸眼三维显示的装置。按照本发明一个方面的三维显示装置包含：背光板，其配置为将光源发出的光束转换为第一准直光束；位于所述第一准直光束传播方向上的空间光调制器，其配置为通过振幅调制方式将多视角混合图像信息加载到所述第一准直光束上以形成第二准直光束；以及位于所述第二准直光束传播方向上的正透镜组，其配置为将所述第二准直光束所承载图像中的不同视角的图像投射至各自对应的观察位置。
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公开(公告)号：CN109932869A
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201711375723.X
申请日：2017-12-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种数字光刻方法，包括以下步骤：包括以下步骤：S1：生成三维形貌数据；S2：沿着竖直方向将三维形貌数据分切成N层二维矢量图数据；S3：将二维矢量图数据转换成二维数字化像素图像；S4：将二维数字化像素图像分割成n条等间距的基础长条带图像数据；S5：根据分切层数N，分割的条数n，对分割后的基础长条带图像数据重组，形成新的长条带图像数据；以及S6：将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻。本发明的数字光刻方法能够方便地形成大尺寸微结构形貌的光学薄膜。本发明还涉及一种数字光刻系统。
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公开(公告)号：CN106842606B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201710222207.7
申请日：2017-04-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
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