紫外辐照辅助修饰平板膜集成反应装置

    公开(公告)号:CN216419353U

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN202123132187.5

    申请日:2021-12-14

    Abstract: 本实用新型属于膜分离技术领域,尤其涉及一种紫外辐照辅助修饰平板膜集成反应装置,包括:盖体垂直高度可调的装置外壳;设置在装置外壳两端的膜片进口、膜片出口;设置在膜片进口上方的原料添加单元;设置在膜片进口与膜片出口之间的膜片行进速度控制单元;均匀分布在膜片行进速度控制单元上方的紫外辐照光源,所述紫外辐照光源固定在装置外壳盖体上;与外部电源连接的供电单元;与供电单元电连接的温度控制单元;与紫外辐照光源电连接的工作光源数量控制单元;与装置外壳侧壁和盖体分别机械连接的光源高度控制单元。本实用新型的有益效果是:可定量添加原料,紫外辐照强度均匀且可调,能精确控制膜表面的修饰程度,实现反应过程的精细化管理。

    无氧氛围平板膜表面修饰反应系统

    公开(公告)号:CN211677205U

    公开(公告)日:2020-10-16

    申请号:CN201921716832.8

    申请日:2019-10-14

    Abstract: 本实用新型公开了一种无氧氛围平板膜表面修饰反应系统,包括依次连接的放膜装置、膜片前处理装置、无氧氛围反应器、膜片后处理装置、收膜装置以及与放膜装置连接的电控装置;所述无氧氛围反应器,包括氮气进装置管路、空气出装置管路、温度控制系统、转速控制系统、进膜口、出膜口、隔网;所述无氧氛围平板膜表面修饰反应系统设置反应器为圆柱型,最大程度增大反应器内与反应液接触的平板膜表面积,提高反应液利用率;所述无氧氛围反应器内部的底面上铆接设置固定间距的隔网,实现平板膜等同间距分布,减少反应液接触面不同导致膜表面修饰产生的差距。

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