半导体器件
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102479788A

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN201110380839.9

    申请日:2011-11-25

    Abstract: 一种半导体器件,包括半导体衬底(101,210,301,401),其具有第一表面和第二表面。所述半导体衬底具有元件区(30,330,430),所述元件区(30,330,430)包括IGBT区(Xi)和邻近所述IGBT区设置的二极管区(Xf)。在所述IGBT区中形成IGBT元件(100)。在所述二极管区中形成二极管元件(20)。第一导电类型的重掺杂区(40,208,340,440)位于所述元件区周围的所述第一表面侧上。第一导电类型的吸收区(22,222,322,422,522)位于所述元件区周围的所述第二表面侧上。第二导电类型的第三半导体区(523)位于所述元件区周围的所述第二表面侧上。

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