紫外线照射装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105452172A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201480044545.0

    申请日:2014-03-12

    Abstract: 实施方式的紫外线照射装置(10)具有:主体部(22),其配置有向已流入的被处理水(W)照射紫外线的紫外线照射管(16-1~16-3);流入管(12),其使被处理水向主体部的内部流入;以及流出管(14),其使被处理水从主体部流出,以能够使沿着主体部的内壁流动的被处理水形成涡流(FR)的方式配置流入管以及流出管,因此,能够使从紫外线灯发出的全部紫外线不产生余缺地向被处理水照射,在水的种类、水量发生变化的情况下也能够进行充分的紫外线处理。

    紫外线照射系统
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102674501B

    公开(公告)日:2014-06-25

    申请号:CN201210070972.9

    申请日:2012-03-16

    Abstract: 一种紫外线照射系统,包括:紫外线照射装置,具有多个紫外线灯,向所流入的处理水照射紫外线,排出照射了紫外线的处理水;流量计,测量通过紫外线照射装置的处理水的流量;以及紫外线照射量监视控制装置,进行紫外线照射装置的紫外线照射量的监视和紫外线灯的输出控制。多个紫外线灯包括第1紫外线灯和多个第2紫外线灯。紫外线照射装置包括:第1测量头,测量从第1紫外线灯发出的紫外线的强度;和多个第2测量头,分别测量从多个紫外线灯发出的紫外线的强度。并且,第1紫外线灯与第1测量头之间的距离被设定为,由第1测量头测量的紫外线强度与第1紫外线灯的输出控制值为100%时由第1测量头测量的紫外线强度之比和换算等效紫外线照射量的关系成为一个一次函数直线。

    紫外线照射装置
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102674500B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201210070721.0

    申请日:2012-03-16

    CPC classification number: C02F1/325 C02F1/283 C02F1/52 C02F1/76 C02F2201/3223

    Abstract: 紫外线照射装置具有:紫外线照射水槽,具有处理水的给水口和处理水的排水口;保护管,被配置于紫外线照射水槽内,贯通紫外线照射水槽的两端;紫外线灯,被配置于保护管内,通过大于等于10kHz且小于等于10MHz的高频放电点亮来向上述处理水照射紫外线;保护罩,被分别设于紫外线照射水槽的两端,遮挡紫外线和电磁波;电子镇流器(10),被配置于上述保护罩;以及供电线,将上述紫外线灯与上述电子镇流器(10)电连接。紫外线照射水槽以及保护罩分别由比电导率与相对磁导率之积为1以上的导电性材料构成,且紫外线照射水槽以及保护罩的厚度分别为流过紫外线灯的高频电流的频率下的表皮深度的3倍以上。

    水处理系统
    25.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101164914B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN200710152915.4

    申请日:2005-04-22

    Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化,进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水,排出已处理的处理水的处理槽;将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置;测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段;使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率,根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系,算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段;按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率,控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。

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