公开(公告)号：CN108250950B

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201810043204.1

申请日：2018-01-17

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 张王兵 ,  宫艺璇 ,  赵万鑫 ,  周清浩

IPC: C23C22/05

Abstract: 本发明公开了一种亲水高耐蚀型钢铁表面硅烷化处理剂及其合成方法，属于金属表面预处理技术领域。该硅烷化处理剂，所含组分及体积比为:硅烷溶液40％‑50％，合成配合剤40％‑50％，缓冲体系10％‑20％。该硅烷化处理剂经硅烷水解、苯胺乳液聚合等步骤合成得到。其使用方法为：将处理件经碱洗除油酸洗除锈，室温下将本发明硅烷化处理剂对之进行喷淋或浸渍，烘干即可。形成的硅烷膜经SEM观察可知膜表面光滑致密；使用测试极化曲线法对比表征硅烷膜防腐性能，可知处理后的试样腐蚀电位明显左移，防腐能力显著提升。本发明硅烷化处理剂不含有毒有害物质，绿色环保，可显著提高钢铁基体对涂料的附着力。

公开(公告)号：CN105543865B

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201511000367.4

申请日：2015-12-25

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 杨新安 ,  葛磊 ,  张王兵

IPC: C23G1/08

Abstract: 本发明公开了一种400系列不锈钢退火线材催化酸洗液及酸洗方法，属于钢铁表面处理技术领域。该酸洗液各组成物质质量比例如下：98％的浓硫酸10‑18％、氟化钠2.0‑4.0％、过硫酸钾3.0‑5.0％、EDTA 1.0‑1.5％、乌洛托品0.1‑0.3％、氯化钠0.3‑0.5％、十二烷基硫酸钠0.05‑0.1％、其余为水。所述酸洗方法为：将配制好的酸洗液注入酸洗槽中，将不锈钢退火线材直接浸入酸洗液中进行酸洗；酸洗温度为60‑80℃，酸洗时间为30‑50分钟；酸洗结束之后，取出不锈钢退火线材，用水冲洗即可。本发明能够高效去除400系列不锈钢表面的氧化铁皮，且成本低廉。

公开(公告)号：CN108250950A

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201810043204.1

申请日：2018-01-17

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 张王兵 ,  宫艺璇 ,  赵万鑫 ,  周清浩

IPC: C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  C09D179/02 ,  C09D5/08

Abstract: 本发明公开了一种亲水高耐蚀型钢铁表面硅烷化处理剂及其合成方法，属于金属表面预处理技术领域。该硅烷化处理剂，所含组分及体积比为:硅烷溶液40％‑50％，合成配合剤40％‑50％，缓冲体系10％‑20％。该硅烷化处理剂经硅烷水解、苯胺乳液聚合等步骤合成得到。其使用方法为：将处理件经碱洗除油酸洗除锈，室温下将本发明硅烷化处理剂对之进行喷淋或浸渍，烘干即可。形成的硅烷膜经SEM观察可知膜表面光滑致密；使用测试极化曲线法对比表征硅烷膜防腐性能，可知处理后的试样腐蚀电位明显左移，防腐能力显著提升。本发明硅烷化处理剂不含有毒有害物质，绿色环保，可显著提高钢铁基体对涂料的附着力。

公开(公告)号：CN102528648A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201210029288.6

申请日：2012-02-10

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 储向峰 ,  乔红斌 ,  董永平 ,  张王兵 ,  陈同云 ,  汤丽娟 ,  朱小华

IPC: B24B37/24 ,  B24D3/28

Abstract: 本发明提供一种制备金刚石-高分子复合磨料的制备方法，复合磨粒的内核为通过机械粉碎法，爆炸合成法或静压法制备得到的金刚石粉体，其粒径范围在1～100nm，上述粉体作为内核通过硅烷偶联剂改性形成中间过渡层，最后用环氧树脂和聚丙烯酸酯接枝包覆得到复合磨料，其中硅烷偶联剂的质量为纳米粒子质量的0.2％～2％；所述的环氧树脂和聚丙烯酸酯的质量为无机纳米粒子质量的0.2％～2％。磨料和抛光垫基体的配伍性提高，可以根据不同的抛光垫基体选取不同高分子处理的纳米金刚石复合磨料。通过在金刚石磨料表面引入基团，提高了金刚石磨料与抛光垫基体之间的结合力，减少金刚石磨料脱落，并防止在抛光过程中金刚石磨料脱落造成加工工件的表面损伤。

公开(公告)号：CN102051665A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201110000137.3

申请日：2011-01-04

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 储向峰 ,  董永平 ,  张王兵 ,  孙文起

IPC: C25F3/22

Abstract: 本发明公开一种用于硬盘NiP的电化学机械抛光的抛光液，该抛光液的组成及其质量百分比是：酸：1-10％；钾盐：0.5-1％；络合剂：0.1-2％、表面活性剂：0.01-0.1％；pH调节剂KOH：1-5％；其余为水。其中酸是柠檬酸、乳酸中的一种或两种酸的混合物；钾盐是氯化钾或硝酸钾；络合剂是乙二胺或氨水或EDTA；表面活性剂是十二烷基硫酸铵、十二烷基苯磺酸铵、TX-10、NP-5、NP-9中的一种。用pH调节剂KOH将抛光液的pH值调节至5.0-6.0。本发明的抛光液中不含磨料粒子，可以在低压力(0.3-0.5psi)下进行抛光，抛光后NiP基板的表面缺陷少，有可能取代目前的化学机械抛光技术对NiP基板进行抛光。