公开(公告)号：CN102051665B

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN201110000137.3

申请日：2011-01-04

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 储向峰 ,  董永平 ,  张王兵 ,  孙文起

IPC: C25F3/22

Abstract: 本发明公开一种用于硬盘NiP的电化学机械抛光的抛光液，该抛光液的组成及其质量百分比是：酸：1-10％；钾盐：0.5-1％；络合剂：0.1-2％、表面活性剂：0.01-0.1％；pH调节剂KOH：1-5％；其余为水。其中酸是柠檬酸、乳酸中的一种或两种酸的混合物；钾盐是氯化钾或硝酸钾；络合剂是乙二胺或氨水或EDTA；表面活性剂是十二烷基硫酸铵、十二烷基苯磺酸铵、TX-10、NP-5、NP-9中的一种。用pH调节剂KOH将抛光液的pH值调节至5.0-6.0。本发明的抛光液中不含磨料粒子，可以在低压力(0.3-0.5psi)下进行抛光，抛光后NiP基板的表面缺陷少，有可能取代目前的化学机械抛光技术对NiP基板进行抛光。

公开(公告)号：CN102051665A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201110000137.3

申请日：2011-01-04

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 储向峰 ,  董永平 ,  张王兵 ,  孙文起

IPC: C25F3/22

Abstract: 本发明公开一种用于硬盘NiP的电化学机械抛光的抛光液，该抛光液的组成及其质量百分比是：酸：1-10％；钾盐：0.5-1％；络合剂：0.1-2％、表面活性剂：0.01-0.1％；pH调节剂KOH：1-5％；其余为水。其中酸是柠檬酸、乳酸中的一种或两种酸的混合物；钾盐是氯化钾或硝酸钾；络合剂是乙二胺或氨水或EDTA；表面活性剂是十二烷基硫酸铵、十二烷基苯磺酸铵、TX-10、NP-5、NP-9中的一种。用pH调节剂KOH将抛光液的pH值调节至5.0-6.0。本发明的抛光液中不含磨料粒子，可以在低压力(0.3-0.5psi)下进行抛光，抛光后NiP基板的表面缺陷少，有可能取代目前的化学机械抛光技术对NiP基板进行抛光。

公开(公告)号：CN102121127A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN201110000136.9

申请日：2011-01-04

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 储向峰 ,  董永平 ,  张王兵 ,  陈同云 ,  孙文起

IPC: C25F3/22 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明公开一种集成电路铜互连中铜的电化学机械抛光液，抛光液中含有水、酸、钾盐、抑制剂、络合剂、表面活性剂、分散剂和pH调节剂等。其中酸是柠檬酸、乳酸中的一种或两种酸的混合物，质量百分比是1-10％；抑制剂是尿酸，其质量百分比是0.01-0.1％。本发明的抛光液中不含磨料粒子，可以在低压力(0.5psi)下进行抛光，抛光后铜的表明缺陷少，有可能取代目前的化学机械抛光技术对铜互连中铜进行抛光。本发明中使用尿酸作为抑制剂，柠檬酸和乳酸作为酸，可以减小对环境的污染。

公开(公告)号：CN102357359A

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN201110345605.0

申请日：2011-11-05

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 储向峰 ,  杨帆 ,  周影 ,  陈同云 ,  董永平 ,  孙文起 ,  张王兵

IPC: B01J23/30 ,  B01D53/86 ,  B01D53/56

Abstract: 本发明公开了一种脱硝催化剂的制备方法。该方法包括以下步骤：（1）以钛白粉厂的中间产品偏钛酸为原料，分别用稀硝酸、稀氨水、去离子水洗涤除去其杂质离子，制得偏钛酸浆料；（2）在上述偏钛酸浆料中依次加入钨酸铵、钼酸铵和偏钒酸铵，然后将上述混合物用超声波打浆，用酸调节浆料的pH至4.0～6.5；（3）将上述混合浆料静置、烘干得到催化剂粉体；（4）用模具将上述催化剂粉体压制成型制成蜂窝状，在200～600oC热处理4～10小时后即得到本发明脱硝催化剂。本发明制备脱硝催化剂的方法成本低、工艺简单且提高了NO的转化率。本发明的脱硝催化剂在350oC反应温度时，可使电厂烟气成分中NO转化率达到97%以上。