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公开(公告)号：CN114323355A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202210251300.1
申请日：2022-03-15
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及电容薄膜规技术领域，具体提供了用于电容薄膜规的压力测量系统、方法及电容薄膜规，其包括：膜片；陶瓷基体,设置在膜片一侧；固定电极组，设置在陶瓷基体靠近膜片的端面上，用于根据其与膜片的距离生成测量电容信息；多个形变检测电极，设置在陶瓷基体上，且圆周阵列在固定电极组外侧，分别用于根据其与膜片的距离生成对应的检测电容信息；控制器，与固定电极组和形变检测电极电性连接，用于获取检测电容信息，还用于根据检测电容信息检测膜片形变是否均匀，还用于在膜片形变均匀时，获取测量电容信息并根据测量电容信息计算压力值；有效地提高了用于电容薄膜规的压力测量系统测量压力的稳定性、准确性和可靠性。
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公开(公告)号：CN117192199A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311440420.7
申请日：2023-11-01
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本公开涉及一种微小薄膜电容信号采集方法、装置、设备及介质，该方法包括：采集微小薄膜电容的电压信号；对所述电压信号进行数字化处理，得到数字信号；通过训练完毕的校准模型对所述数字信号进行校准，得到目标数字信号；将所述目标数字信号转换成目标模拟信号，所述目标模拟信号为微小薄膜电容信号。本公开通过采集微小薄膜电容的电压信号；对电压信号进行数字化处理，得到数字信号；通过训练完毕的校准模型对所述数字信号进行校准，得到目标数字信号，在信号处理过程中有效消除薄膜电容传感器产生的误差，将目标数字信号转换成目标模拟信号，目标模拟信号为微小薄膜电容信号，提高了微小薄膜电容信号的采集精度。
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公开(公告)号：CN117148709A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202311441738.7
申请日：2023-11-01
Applicant: 季华实验室
IPC: G05B11/42
Abstract: 本申请涉及真空蝶阀技术领域，具体提供了一种真空蝶阀控制方法、系统、电子设备及存储介质，该方法包括以下步骤：获取腔室内的实际气压信息，腔室与真空蝶阀连接；基于预先建立的曲线算法模型根据实际气压信息获取对应的实际阀门位置信息，并基于曲线算法模型根据预设的目标气压信息获取对应的目标阀门位置信息；基于PID控制根据实际阀门位置信息和目标阀门位置信息对真空蝶阀的阀门位置进行调整，以使实际阀门位置信息与目标阀门位置信息相同；该方法能够根据腔室内的气压自适应调节真空蝶阀的阀门位置，从而有效地提高真空蝶阀的调节效率和调节精度。
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公开(公告)号：CN116429317B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310683461.2
申请日：2023-06-09
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及生物组织工程技术领域，具体而言，涉及一种电容薄膜真空计传感器及其制作方法和电容薄膜真空计，该制作方法包括：制备壳体和膜片，壳体底部有第一凸环，膜片顶部有第二凸环，第一凸环的外径与第二凸环的内径相等；在壳体下表面镀第一金属膜，第一金属膜位于第一凸环的内侧，在膜片上表面镀第二金属膜，第二金属膜位于第二凸环的内侧；将壳体扣合在膜片上，使第一凸环与第二凸环配合，并旋压壳体使壳体固定在膜片上，得到电容薄膜真空计传感器，该方式可减少在电容薄膜真空计传感器制作过程中产生不必要的应力，从而保证电容薄膜真空计传感器的性能。
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公开(公告)号：CN116306058B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310608061.5
申请日：2023-05-26
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F111/10 , G06F119/02
Abstract: 本申请属于分析坩埚热应力技术领域，公开了一种坩埚热应力的影响分析方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取坩埚的第一结构参数和加热物料的第二结构参数，通过仿真软件，构建对应的内置物料模型的坩埚模型，确定坩埚模型和物料模型为黏附接触关系，并设置坩埚模型和物料模型的材料参数、塑性节点和热膨胀条件，确定热膨胀应变数据的计算方程，基于上述条件和数据，结合预设的温度条件、预设的模型划分条件和预设的求解器设置，计算不同情况下坩埚模型的热应力分布数据，得到不同情况对于坩埚热应力的影响分析结果数据，通过设置黏附接触关系并添加塑性节点，模拟不同情况的热应力分析，提高了分析坩埚热应力的效率和准确度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116429317A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310683461.2
申请日：2023-06-09
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及生物组织工程技术领域，具体而言，涉及一种电容薄膜真空计传感器及其制作方法和电容薄膜真空计，该制作方法包括：制备壳体和膜片，壳体底部有第一凸环，膜片顶部有第二凸环，第一凸环的外径与第二凸环的内径相等；在壳体下表面镀第一金属膜，第一金属膜位于第一凸环的内侧，在膜片上表面镀第二金属膜，第二金属膜位于第二凸环的内侧；将壳体扣合在膜片上，使第一凸环与第二凸环配合，并旋压壳体使壳体固定在膜片上，得到电容薄膜真空计传感器，该方式可减少在电容薄膜真空计传感器制作过程中产生不必要的应力，从而保证电容薄膜真空计传感器的性能。
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公开(公告)号：CN114659706B
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202210544153.7
申请日：2022-05-19
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于真空计量技术领域，公开了一种真空度检测方法、装置、电子设备、存储介质及系统，通过获取内环电容产生的第一电压信号和外环电容产生的第二电压信号；分别对所述第一电压信号和所述第二电压信号进行峰值检测处理，得到第一峰值信号和第二峰值信号；对所述第一峰值信号和所述第二峰值信号进行差分处理，得到电压差值信号；对所述电压差值信号进行计算处理，得到真空度检测结果，其中差分处理可以减少信号干扰，提高检测精度，从而保证真空度检测结果的可靠性。
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公开(公告)号：CN114323363B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210251301.6
申请日：2022-03-15
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于压力传感器技术领域，公开了一种电容式真空压力传感器，包括具有容置腔的壳体，还包括感压膜片及固定电极，感压膜片与固定电极均为圆筒形状，感压膜片设置在容置腔内，感压膜片的两端分别连接容置腔的顶部和底部，感压膜片将容置腔分为测量腔及参考腔，固定电极设置在参考腔内，固定电极与感压膜片组成可变电容器。本申请的电容式真空压力传感器将感压膜片和固定电极均设计为圆筒形状，与现有技术中同等体积的电容薄膜真空计相比，基础电容值得到增大，有效提高了电容式真空压力传感器的灵敏度和精度，降低了电容信号的处理难度。
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公开(公告)号：CN114544065A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210422504.7
申请日：2022-04-21
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及电容薄膜规技术领域，具体提供了电容薄膜规、压力测量方法、系统、电子设备及存储介质，应用在压力测量系统中，压力测量系统包括膜片、陶瓷基体、固定电极和多个第一测量电极，固定电极用于根据其与膜片的距离生成第一测量电容信息，第一测量电极圆周阵列在固定电极外侧，多个第一测量电极分别用于根据其与膜片的距离生成对应的第二测量电容信息，压力测量方法包括以下步骤：获取第一测量电容信息和第二测量电容信息；根据不同位置的第一测量电极生成的第二测量电容信息检测膜片形变是否均匀，并根据第一测量电容信息和若干个第二测量电容信息计算压力值；该方法能够实现自适应校正测量被测气体的压力值。
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公开(公告)号：CN114323363A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202210251301.6
申请日：2022-03-15
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于压力传感器技术领域，公开了一种电容式真空压力传感器，包括具有容置腔的壳体，还包括感压膜片及固定电极，感压膜片与固定电极均为圆筒形状，感压膜片设置在容置腔内，感压膜片的两端分别连接容置腔的顶部和底部，感压膜片将容置腔分为测量腔及参考腔，固定电极设置在参考腔内，固定电极与感压膜片组成可变电容器。本申请的电容式真空压力传感器将感压膜片和固定电极均设计为圆筒形状，与现有技术中同等体积的电容薄膜真空计相比，基础电容值得到增大，有效提高了电容式真空压力传感器的灵敏度和精度，降低了电容信号的处理难度。
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