公开(公告)号：CN101410729A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200780011351.0

申请日：2007-03-30

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 堀尾智之 ,  上野健治

IPC: G02B1/10 ,  B32B7/02 ,  B32B27/30 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/14 ,  G02B1/105 ,  G02B1/16 ,  G02B1/18 ,  Y10T428/24983 ,  Y10T428/31507 ,  Y10T428/31551 ,  Y10T428/31721 ,  Y10T428/31725 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31855

Abstract: 本发明提供一种光学层积体，该光学层积体能够有效抑制或防止干涉条纹的产生，同时显示出较高的表面硬度。该光学层积体是在透光性基材上至少形成(1)与上述基材邻接的硬膜层A和(2)硬膜层B而构成的层积体，其特征在于，上述基材和硬膜层A之间实质上不存在界面。

公开(公告)号：CN101155683A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200680011082.3

申请日：2006-03-29

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 堀尾智之

IPC: B32B7/02 ,  G02B1/10 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B1/14 ,  G02B1/105 ,  G02B1/116 ,  G02B1/16 ,  G02B1/18 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0278 ,  G02B27/0006 ,  G02F1/133502

Abstract: 本发明公开了一种通过消除光透过性基材与硬涂层的界面，从而有效防止界面反射和干涉条纹发生的光学叠层体。本发明的光学叠层体，在光透过性基材上具有硬涂层，上述硬涂层由树脂、防污染剂、和对上述光透过性基材具有浸透性(膨胀性·溶解性)的浸透性溶剂形成，由此使得上述光透过性基材与上述硬涂层的界面不存在。

公开(公告)号：CN117388969A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202311461461.4

申请日：2019-12-27

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 矶岛征一 ,  野村崇尚 ,  堀尾智之 ,  七海真 ,  堀井佳奈 ,  书间祐介 ,  黑田刚志

IPC: G02B5/22 ,  G02B5/30 ,  G02B1/14 ,  H10K50/80

Abstract: 提供一种光学膜、偏振片、图像显示装置。该光学膜的功能层包含含有氮原子的紫外线吸收剂，功能层的膜厚为1μm以上10μm以下，在功能层中，通过飞行时间型二次离子质谱法测定功能层的深度方向的二次离子的强度时，厚度0.3μm的第2区域中的紫外线吸收剂来源的二次离子的强度相对于厚度0.3μm的第1区域中的紫外线吸收剂来源的二次离子的强度之比为1.1以上4.0以下，厚度0.3μm的第3区域中的紫外线吸收剂来源的二次离子的强度相对于第2区域中的紫外线吸收剂来源的二次离子的强度之比为1.2以上4.0以下，第1区域包含功能层的表面，第2区域包含在功能层的深度方向上将功能层等分的等分线，第3区域包含功能层的背面。

公开(公告)号：CN115570910A

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN202211367048.7

申请日：2020-03-27

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 宫田凉平 ,  松井清隆 ,  松田芳成 ,  植田润 ,  篠原诚司 ,  堀尾智之 ,  小堺达也 ,  铃木翔

IPC: B44C1/17 ,  B32B7/06

Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。

公开(公告)号：CN113227856A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980086534.1

申请日：2019-12-27

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 矶岛征一 ,  野村崇尚 ,  堀尾智之 ,  七海真 ,  堀井佳奈 ,  书间祐介 ,  黑田刚志

IPC: G02B5/30 ,  B32B7/023 ,  B32B27/18 ,  G02B1/14 ,  G02B5/22 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02

Abstract: 提供一种能够实现薄型化且能够提高第1功能层与第2功能层的密合性的光学膜、具备这种光学膜的偏振片和图像显示装置。根据本发明的一个方式，提供光学膜(10)，该光学膜(10)依次具备透光性基材(11)、第1功能层(12)和第2功能层(13)，其中，第1功能层(12)和第2功能层(13)中的至少任一者包含紫外线吸收剂，该光学膜(10)还具备混合层(14)，该混合层(14)设置于第1功能层(12)与第2功能层(13)之间并与第1功能层(12)和第2功能层(13)相邻、并且包含第1功能层(12)的成分和第2功能层(13)的成分，第1功能层(12)、第2功能层(13)和混合层(14)的总膜厚为1μm以上10μm以下，混合层(14)的膜厚相对于第1功能层(12)、第2功能层(13)和混合层(14)的总膜厚的比例为0.6％以上40％以下。

公开(公告)号：CN103460079B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201280017337.2

申请日：2012-04-12

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 林真理子 ,  堀尾智之

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/14

CPC classification number: G02B1/14 ,  G02B1/105 ,  G02B1/11 ,  G02B1/111 ,  G02B2207/107

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防反射膜，其具有充分的表面硬度与均匀的表面，同时还具备低折射率层的折射率足够低的低折射率层，具有优异的防反射性能。本发明的防反射膜为在透光性基材之上形成了硬涂层、在上述硬涂层之上形成了低折射率层的防反射膜，该防反射膜的特征在于：上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸类树脂、中空二氧化硅微粒、反应性二氧化硅微粒和防污剂；并且上述低折射率层中的反应性二氧化硅微粒偏在于上述硬涂层侧的界面附近和/或与上述硬涂层相反的一侧的界面附近。

公开(公告)号：CN103299217B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201280004568.X

申请日：2012-01-16

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 林真理子 ,  堀尾智之 ,  西村佳泰 ,  猪俣裕哉 ,  中村启志 ,  用木麻友

IPC: G02B1/111 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B1/111 ,  C03C21/002 ,  C08J5/18 ,  C08J5/24 ,  C08J2300/20 ,  C08J2333/08 ,  C08K5/523 ,  C08L1/10 ,  C08L63/00 ,  C08L2205/02 ,  G02B1/04 ,  G02B5/3033 ,  G02B5/305 ,  G02B27/0006 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/133502

Abstract: 本发明涉及一种防反射膜，其为在透光性基材之上具有硬涂层与低折射率层的防反射膜，该防反射膜的特征在于：上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸类树脂、中空二氧化硅微粒、反应性二氧化硅微粒和两种防污剂；上述中空二氧化硅微粒的平均粒径为40nm～80nm，相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂的配比(中空二氧化硅微粒的含量/(甲基)丙烯酸类树脂的含量)为0.9～1.4；相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂100质量份，上述反应性二氧化硅的含量为5质量份～60质量份；上述防污剂含有由氟系化合物形成的防污剂与由氟-硅酮系化合物形成的防污剂。

公开(公告)号：CN102789006B

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201210216517.5

申请日：2009-11-16

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 堀尾智之 ,  本田诚 ,  田崎启子 ,  黑田刚志 ,  岛野绘美 ,  山本佳奈

IPC: G02B1/14 ,  C08J7/04

CPC classification number: G02B1/14 ,  C08J7/047 ,  G02B1/105 ,  Y10T428/259

Abstract: 本发明提供具有优良的耐擦伤性和硬度的光学片材以及该光学片材的制造方法。本发明的光学片材是在基材的一侧设有硬质涂层的光学片材，其特征在于，上述硬质涂层由含有反应性异形二氧化硅微粒和粘合剂成分的硬质涂层用固化性树脂组合物的固化物构成，在硬质涂层的与基材相反的一侧的界面，存在形成特定的3维配置的异形二氧化硅微粒。本发明的光学片材的制造方法的特征在于，其包含以下的工序：在基材的一侧涂敷含有反应性异形二氧化硅微粒和粘合剂成分的硬质涂层用固化性树脂组合物，在涂膜中，在对反应性异形二氧化硅微粒的长轴沿假想平面的平面方向进行取向的情况进行抑制的同时，或抑制后，使涂膜固化从而形成硬质涂层。

公开(公告)号：CN103635834B

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201280033030.1

申请日：2012-08-30

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 正木麻友 ,  堀尾智之 ,  林真理子

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/16 ,  B32B23/08 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  C08J7/04 ,  G02B1/11 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: B32B23/08 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  B32B2307/21 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/418 ,  B32B2307/42 ,  B32B2457/20 ,  C08J7/042 ,  C08J2301/02 ,  C08J2475/04 ,  G02B1/105 ,  G02B1/16 ,  G02B2207/121

Abstract: 本发明提供即使通过碱水溶液进行皂化处理、配合有抗静电剂的硬涂层的抗静电性能也不会受损害、能够保持抗静电性、透明性的、具有耐皂化性的抗静电性硬涂膜，和使用该抗静电性硬涂膜的偏振片、图像显示装置。抗静电性硬涂膜10，其设置在三乙酸纤维素的透明基材膜1上的硬涂层2，作为抗静电剂含有分子量1000～5万的高分子型季铵盐，作为与其组合的树脂成分，使用下述式［1］所表示的、具有异氰脲酸骨架的、(甲基)丙烯酰基Ac为15官能度的聚氨酯类多官能度丙烯酸酯类化合物。硬涂层上也可以具有低折射率层3。(式中，R是二季戊四醇残基)。

公开(公告)号：CN104530331A

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201410753543.0

申请日：2011-07-12

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 山本佳奈 ,  堀尾智之

IPC: C08F290/06 ,  B32B23/08 ,  B32B23/20 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  G02B1/16 ,  G02B5/30

CPC classification number: G02B5/305 ,  B32B23/20 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  B32B2307/21 ,  B32B2307/418 ,  B32B2307/42 ,  B32B2307/732 ,  B32B2551/00 ,  C08F290/067 ,  C08L2201/04 ,  C09D151/08 ,  G02B2207/121

Abstract: 本发明提供一种可形成抗静电性充分、且与邻接的HC层的密接性优异的抗静电层的抗静电层用固化性树脂组合物及具有该抗静电层的光学薄膜。本发明公开一种抗静电层用固化性树脂组合物，其特征在于包含(A)抗静电剂；(B)在1个分子中具有2个以上的光固化性基，且分子量为900以下的多官能单体；以及(C)在1个分子中具有6个以上的(甲基)丙烯酰基，且重均分子量为1000～11000的聚氨酯丙烯酸酯；所述(A)相对于该(A)、(B)及(C)的总量的比例为1～30质量％，且所述(C)相对于该(B)及(C)的总量的比例为1～40质量％。另外，本发明公开一种光学薄膜，其在TAC基材的一侧，从TAC基材侧开始设置由该抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成的膜厚为1～5μm的抗静电层及硬涂层。