光学片及光学片的制造方法

    公开(公告)号:CN101738651A

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200910222030.6

    申请日:2009-11-13

    Abstract: 本发明提供具有优异的耐擦伤性及硬度的光学片及该光学片的制造方法。本发明的光学片是在基材的一面侧设置了硬涂层的光学片,其特征在于,所述硬涂层包含含有反应性无机微粒及粘合剂成分的硬涂层用固化性树脂组合物的固化物,并且在所述硬涂层的与基材相反一侧的界面存在与平行于硬涂层的假想平面所成的最小角度为锐角的微细突起。本发明的光学片的制造方法的特征在于,包括:在基材的一面侧涂布含有反应性异形二氧化硅微粒及粘合剂成分的硬涂层用固化性树脂组合物,对于涂膜,在抑制反应性异形二氧化硅微粒的长轴沿假想平面的平面方向取向的同时,或在所述抑制之后,使涂膜固化形成硬涂层及微细突起的工序。

    硬涂膜
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101790695A

    公开(公告)日:2010-07-28

    申请号:CN200880102759.3

    申请日:2008-08-08

    Abstract: 本发明提供一种耐擦伤性优异的硬涂膜及耐皂化性的硬涂膜。在第一方面的硬涂膜中,硬涂层包含含有平均粒径为5nm以上且30nm以下的反应性无机微粒A的固化性树脂组合物的固化物,在该硬涂层的与透明基材膜相反一侧的接触面及其附近的表层区域具有局部存在有上述反应性无机微粒A的表层。另一方面,在第二方面的硬涂膜中,硬涂层包含含有平均粒径为30nm以上且100nm以下的反应性无机微粒A的固化性树脂组合物的固化物,在该硬涂层的厚度方向具有上述反应性无机微粒A的密度分布,并且在该硬涂层的与透明基材膜侧相反一侧的接触面中,上述反应性无机微粒A的密度最低,且在该硬涂层的透明基材膜侧接触面或其附近,上述反应性无机微粒A的密度最高。

    光学片材和光学片材的制造方法

    公开(公告)号:CN101738650A

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200910221741.1

    申请日:2009-11-16

    CPC classification number: G02B1/14 C08J7/047 G02B1/105 Y10T428/259

    Abstract: 本发明提供具有优良的耐擦伤性和硬度的光学片材以及该光学片材的制造方法。本发明的光学片材是在基材的一侧设有硬质涂层的光学片材,其特征在于,上述硬质涂层由含有反应性异形二氧化硅微粒和粘合剂成分的硬质涂层用固化性树脂组合物的固化物构成,在硬质涂层的与基材相反的一侧的界面,存在形成特定的3维配置的异形二氧化硅微粒。本发明的光学片材的制造方法的特征在于,其包含以下的工序:在基材的一侧涂敷含有反应性异形二氧化硅微粒和粘合剂成分的硬质涂层用固化性树脂组合物,在涂膜中,在对反应性异形二氧化硅微粒的长轴沿假想平面的平面方向进行取向的情况进行抑制的同时,或抑制后,使涂膜固化从而形成硬质涂层。

    硬涂膜及硬涂层用固化性树脂组合物

    公开(公告)号:CN101722691B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN200910206098.5

    申请日:2009-10-21

    Abstract: 本发明提供一种即使进行薄膜化也可以形成高硬度的硬涂层及/或耐擦伤性及硬度优异的硬涂层的硬涂层用固化性树脂组合物及使用有该固化性树脂组合物的硬涂膜。所述硬涂膜在透明基材膜的一面侧设有硬涂层,其特征在于,在所述硬涂层中,该硬涂层的基体交联,且含有与该基体交联键合的3~100个平均1次粒径为1~100nm的二氧化硅微粒凝聚而成的凝聚体,该凝聚体的至少一部分含有通过无机的化学键键合3~20个平均1次粒径为1~100nm的二氧化硅微粒而形成的异形二氧化硅微粒。优选硬涂层还含有二氧化硅微粒。

    硬涂膜及硬涂层用固化性树脂组合物

    公开(公告)号:CN101722691A

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200910206098.5

    申请日:2009-10-21

    Abstract: 本发明提供一种即使进行薄膜化也可以形成高硬度的硬涂层及/或耐擦伤性及硬度优异的硬涂层的硬涂层用固化性树脂组合物及使用有该固化性树脂组合物的硬涂膜。所述硬涂膜在透明基材膜的一面侧设有硬涂层,其特征在于,在所述硬涂层中,该硬涂层的基体交联,且含有与该基体交联键合的3~100个平均1次粒径为1~100nm的二氧化硅微粒凝聚而成的凝聚体,该凝聚体的至少一部分含有通过无机的化学键键合3~20个平均1次粒径为1~100nm的二氧化硅微粒而形成的异形二氧化硅微粒。优选硬涂层还含有二氧化硅微粒。

    光学片材和光学片材的制造方法

    公开(公告)号:CN102789006B

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201210216517.5

    申请日:2009-11-16

    CPC classification number: G02B1/14 C08J7/047 G02B1/105 Y10T428/259

    Abstract: 本发明提供具有优良的耐擦伤性和硬度的光学片材以及该光学片材的制造方法。本发明的光学片材是在基材的一侧设有硬质涂层的光学片材,其特征在于,上述硬质涂层由含有反应性异形二氧化硅微粒和粘合剂成分的硬质涂层用固化性树脂组合物的固化物构成,在硬质涂层的与基材相反的一侧的界面,存在形成特定的3维配置的异形二氧化硅微粒。本发明的光学片材的制造方法的特征在于,其包含以下的工序:在基材的一侧涂敷含有反应性异形二氧化硅微粒和粘合剂成分的硬质涂层用固化性树脂组合物,在涂膜中,在对反应性异形二氧化硅微粒的长轴沿假想平面的平面方向进行取向的情况进行抑制的同时,或抑制后,使涂膜固化从而形成硬质涂层。

    光学薄膜以及显示面板
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102576095B

    公开(公告)日:2014-07-23

    申请号:CN201080045188.1

    申请日:2010-10-13

    Abstract: 本发明的课题在于提供具有高抗反射性,且具备硬度及耐擦伤性优异的低折射率层的低成本光学薄膜。一种光学薄膜,其特征在于,在光透过性基材的一面侧具备膜厚d的低折射率层,其中该低折射率层含有平均初级粒径为10~100nm的中空粒子、及分散平均粒径1~20nm且为该膜厚d的一半以下的实心粒子,在该低折射率层的膜厚方向的断面且层平面方向的宽500nm的区域中,至少1个该中空粒子被该低折射率层的固化树脂所被覆且与该低折射率层的与光透过性基材相反一侧的界面接触,该实心粒子占有该中空粒子接触的部分以外的该界面的50%以上范围,且偏在于从该界面至膜厚方向的该实心粒子的2个分散平均粒径为止的深度中。还提供具备该光学薄膜的偏振片、显示面板、显示器。

    光学片材和光学片材的制造方法

    公开(公告)号:CN102789006A

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201210216517.5

    申请日:2009-11-16

    CPC classification number: G02B1/14 C08J7/047 G02B1/105 Y10T428/259

    Abstract: 本发明提供具有优良的耐擦伤性和硬度的光学片材以及该光学片材的制造方法。本发明的光学片材是在基材的一侧设有硬质涂层的光学片材,其特征在于,上述硬质涂层由含有反应性异形二氧化硅微粒和粘合剂成分的硬质涂层用固化性树脂组合物的固化物构成,在硬质涂层的与基材相反的一侧的界面,存在形成特定的3维配置的异形二氧化硅微粒。本发明的光学片材的制造方法的特征在于,其包含以下的工序:在基材的一侧涂敷含有反应性异形二氧化硅微粒和粘合剂成分的硬质涂层用固化性树脂组合物,在涂膜中,在对反应性异形二氧化硅微粒的长轴沿假想平面的平面方向进行取向的情况进行抑制的同时,或抑制后,使涂膜固化从而形成硬质涂层。

    光学薄膜以及显示面板
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102576095A

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN201080045188.1

    申请日:2010-10-13

    Abstract: 本发明的课题在于提供具有高抗反射性,且具备硬度及耐擦伤性优异的低折射率层的低成本光学薄膜。一种光学薄膜,其特征在于,在光透过性基材的一面侧具备膜厚d的低折射率层,其中该低折射率层含有平均初级粒径为10~100nm的中空粒子、及分散平均粒径1~20nm且为该膜厚d的一半以下的实心粒子,在该低折射率层的膜厚方向的断面且层平面方向的宽500nm的区域中,至少1个该中空粒子被该低折射率层的固化树脂所被覆且与该低折射率层的与光透过性基材相反一侧的界面接触,该实心粒子占有该中空粒子接触的部分以外的该界面的50%以上范围,且偏在于从该界面至膜厚方向的该实心粒子的2个分散平均粒径为止的深度中。还提供具备该光学薄膜的偏振片、显示面板、显示器。

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