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公开(公告)号：CN1175124C
公开(公告)日：2004-11-10
申请号：CN02133101.4
申请日：2002-09-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/48
Abstract: 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理方法及装置，它涉及一种对圆球体和复杂形状的机械零件进行均匀强化处理的方法和装置。该方法运用金属等离子体浸没离子注入与沉积技术，并使工件在10～60KV的高电位下匀速自转。该装置包含有多功能等离子体浸没离子注入装置、强流阴极弧金属等离子体源B、以及高电压慢速旋转靶台。高电压慢速旋转靶台的工件旋转装置(1)由一固定不动的固定盘(1-1)和绕垂直的中心轴线转动的动盘(1-2)组成。在固定盘(1-1)上开有与被处理工件K相吻合的通孔(1-3)，动盘(1-2)的上面与被处理工件K相接触。该方法和设备解决了现有技术和设备难以对球形工件表面进行均匀强化处理的问题。
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公开(公告)号：CN1414135A
公开(公告)日：2003-04-30
申请号：CN02133101.4
申请日：2002-09-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/48
Abstract: 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理方法及装置，它涉及一种对圆球体和复杂形状的机械零件进行均匀强化处理的方法和装置。该方法运用金属等离子体浸没离子注入与沉积技术，并使工件在10～60KV的高电位下匀速自转。该装置包含有多功能等离子体浸没离子注入装置、强流阴极弧金属等离子体源B、以及高电压慢速旋转靶台。高电压慢速旋转靶台的工件旋转装置(1)由一固定不动的固定盘(1－1)和绕垂直的中心轴线转动的动盘(1－2)组成。在固定盘(1－1)上开有与被处理工件K相吻合的通孔(1－3)，动盘(1－2)的上面与被处理工件K相接触。该方法和设备解决了现有技术和设备难以对球形工件表面进行均匀强化处理的问题。
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公开(公告)号：CN109811324B
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201910194342.4
申请日：2019-03-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法,涉及制备掺杂类薄膜的领域,为了解决现有制备掺杂类薄膜技术在放电过程易相互干扰，易出现靶中毒现象，薄膜的成分难以自由调节，沉积效率较低且易引入杂质的问题。本发明的装置采用双直流电源，通过控制电源U1和电源U2的电压值控制薄膜的掺杂含量。本发明适用于制备掺杂类薄膜。
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公开(公告)号：CN109811324A
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201910194342.4
申请日：2019-03-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法,涉及制备掺杂类薄膜的领域,为了解决现有制备掺杂类薄膜技术在放电过程易相互干扰，易出现靶中毒现象，薄膜的成分难以自由调节，沉积效率较低且易引入杂质的问题。本发明的装置采用双直流电源，通过控制电源U1和电源U2的电压值控制薄膜的掺杂含量。本发明适用于制备掺杂类薄膜。
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公开(公告)号：CN107561609A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710724368.6
申请日：2017-08-22
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种复制制造Wolter-I型反射镜的工艺，其工艺流程为：复制所用的精密芯轴制造→PVD工艺涂敷DLC膜层→PVD工艺涂敷金膜反射层→电铸镜壳→对镜壳表面修整→利用脱模装置在低温制冷室内将反射镜从芯轴上释放→清洗反射镜表面。本发明在复制金膜和芯轴表面之间涂敷DLC作为脱膜层，可以有效防止脱模过程中金膜的破损，有利于复制金膜从芯轴上顺利脱下；镀金膜时在芯轴回转表面和两个端面同时进行，防止电铸过程中电铸镍从芯轴端面金膜与芯轴表面之间渗入；延长电铸时间，可以提高镜壳的强度，防止变形，而且易于脱壳、运输和安装；在低温室内通过辅助脱壳装置使芯轴与镜壳分离，避免了反射镜制造成本增加和健康危害。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104264120B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201410583267.8
申请日：2014-10-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/48
Abstract: 一种用于轴承内外套圈批量处理的离子注入方法，本发明涉及离子注入批量处理轴承内外套圈的方法，它为了解决现有采用全方位离子注入法处理内外套圈效率低的问题。离子注入方法：一、清洗轴承内套圈；二、轴承内套圈置于双轴式对滚轮之间，相邻轴承内套圈彼此之间紧密接触，打开高压脉冲电源进行溅射清洗；三、向真空室中通入N2气，进行N离子注入；四、清洗轴承外套圈；五、轴承外套圈置于双轴式对滚轮之间，相邻轴承外套圈之间留有间隙，打开高压脉冲电源进行溅射清洗；六、向真空室中通入N2，进行N离子注入处理。通过本发明轴承内外套圈批量处理方法得到的轴承内外套圈剂量分布均匀，一次性处理数量多，提高了离子注入的效率。
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公开(公告)号：CN104988468A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201510446323.8
申请日：2015-07-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种绝缘材料金属等离子体浸没离子注入与沉积装置及使用其进行注入与沉积的方法，它涉及一种离子注入处理装置和方法。本发明的目的是要解决现有对绝缘材料进行金属等离子体浸没离子注入时无法实现绝缘材料表面积累电荷的中和，当表面累积电荷量增加一定程度时可能产生“打火”现象，严重时会使设备损坏的问题。装置包括气体等离子体源、金属栅网、高压靶台、被处理绝缘工件、负高压脉冲源、磁导管、金属阴极弧等离子体源和真空室。方法：向真空室内通入氩气，打开气体等离子体源，将气体等离子体源的功率调节至200W～400W，设定工作参数，启动，即完成注入与沉积的方法。本发明适用于在绝缘材料表面进行大面积金属离子注入与沉积。
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公开(公告)号：CN104966655A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201510357767.4
申请日：2015-06-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种环形碳纤维阴极及其制备方法，它涉及一种阴极及其制备方法。本发明的目的是要解决现有碳纤维阴极为平面形式阴极，无法对复杂工件表面进行均匀的辐照改性处理的问题。装置包括屏蔽环、螺孔、电极、环形内绝缘环、导电环和碳纤维束；所述的电极的内部设有环形内绝缘环，电极的上下两端均设有导电环；环形内绝缘环和导电环的上下两端均设有屏蔽环；碳纤维束的一端焊接在电极的通孔中，碳纤维束的另一端穿出环形内绝缘环的通孔。制备方法：一、制备环形内绝缘环和电极；二、制备碳纤维束；三、将电极和导电环固定，将电极和环形内绝缘环固定；四、将屏蔽环固定在环形内绝缘环和导电环的表面上。本发明可获得一种环形碳纤维阴极。
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公开(公告)号：CN104342629A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410583301.1
申请日：2014-10-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/48
CPC classification number: C23C14/48
Abstract: 一种提高轴承寿命的全方位离子注入方法，它涉及一种提高轴承寿命的方法。本发明的目的是要解决现有轴承存在寿命短，表层硬度低的问题，而提供一种提高轴承寿命的全方位离子注入方法。方法：一、超声清洗；二、将超声清洗后的轴承内圈放入到真空室中；三、轴承内圈外表面氮离子注入；四、将超声清洗后的轴承外圈放入到真空室中；五、轴承外圈内表面氮离子注入，完成轴承全方位离子注入。本发明可提高轴承的表层硬度1倍～2倍，轴承的寿命提高了2.8倍～3.5倍。本发明可获得一种提高轴承寿命的全方位离子注入方法。
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公开(公告)号：CN104195515A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201410418382.X
申请日：2014-08-22
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/35
Abstract: 一种高功率双极脉冲磁控溅射方法，涉及一种双极脉冲磁控溅射方法。本发明的目的是为了解决现有的高功率单级磁控溅射电荷积累而产生的打火的技术问题。本发明的一种高功率双极脉冲磁控溅射方法是按以下步骤进行：一、安装设备；二、设置电源参数；三、预溅射；四、溅射。本发明优点：本发明方法即可有效的抑制靶的打火现象，提高溅射效率，又可获得高致密性和高结合力的薄膜。本发明应用于磁控溅射领域。
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