石英晶片研磨的高精度频率统计校准方法

    公开(公告)号:CN108663569B

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN201810466469.2

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本发明公开了石英晶片研磨的高精度频率统计校准方法,包括研磨过程频率统计和机器校准;所述机器校准包括仪器校准、机台校准和用户校准;所述研磨过程频率统计用以保证频率统计的精确性,从而保证同一批料散差小,一致性高,所述机器校准用以保证仪器频率的准确性,从而使频率统计数据能真实反应研磨机的研磨能力;本发明提供了一种通过增加仪器校准来保障机器本身的无误,并通过机台校准和用户校准用于保证测频精度;实现了同一批料盘间散差小,且当达到目标频率时精准停机,保证了仪器间的一致性。

    基于波形匹配的石英晶片研磨控制方法

    公开(公告)号:CN108614153B

    公开(公告)日:2020-07-07

    申请号:CN201810502284.2

    申请日:2016-01-22

    Abstract: 本发明公开了基于波形匹配的石英晶片研磨控制方法,能在石英晶片研磨过程中稳定实时地测量从5M到70MHZ的频率;本系统可以显示晶片研磨生产过程中的各种状态并提出建议,在线测频过程中实时监控石英晶片研磨状态,若出现异常情况实时关停研磨机,防止超频事件的发生,用户可根据触摸屏上显示的这些状态有效提高生产效率;加入“跳频约束策略”彻底解决ALC系统“在某些频段发生测频值跳变”的问题;提供晶片研磨实时平均频率、研磨速率和散差等多样化统计参数,为更换研磨砂和维修研磨盘面提供科学依据,解决ALC系统“无法监控研磨机状态”的缺陷。

    一种湿法涂胶的合成革卷边在线检测装置及方法

    公开(公告)号:CN110376211A

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201910726981.0

    申请日:2019-08-07

    Abstract: 一种湿法涂胶的合成革卷边在线检测装置及方法,包括支撑杆、支撑杆底盘、横杆一、横杆二、背光源、短杆、支杆、正面光源、采图模块、报警灯、工控机以及电气控制柜;所述支撑杆设置于支撑底盘,支撑底盘设置于地面,支撑杆竖立于检测点左右两侧;所述横杆一设置于支撑杆之间;所述背光源设置于横杆一上;所述短杆设置于支撑杆,短杆与支撑杆之间设置支杆;所述横杆二设置于短杆之间;所述采图模块、正面光源以及报警灯设置于横杆二;所述工控机与电气控制柜设置于支撑杆,工控机与采图模块以及正面光源电性连接;本发明通过机器代替人工,避免了人工检查可能存在漏检或是发现问题不及时的情况发生,保证了生产布匹的质量。

    石英晶片抛光研磨在线测频系统

    公开(公告)号:CN110187175A

    公开(公告)日:2019-08-30

    申请号:CN201910608688.4

    申请日:2019-07-08

    Abstract: 本发明公开了一种石英晶片抛光研磨在线测频系统,包括DDS信号模块、射频功率放大模块、π网络接口电路模块、阻抗匹配模块、信号处理模块、MCU控制系统模块和用于为以上模块提供工作电压的电源模块,所述DDS信号模块根据MCU控制系统模块发出指定的扫频指令产生指定频率范围和扫频速度,输出功率的正弦扫频信号,经过射频功率放大模块把DDS信号模块产生的谐振信号进行功率放大,功率放大后的信号连接到π网络接口电路模块,正弦扫频信号通过π网络作用在晶片上使其产生机械振动,同时晶片的机械振动又产生交变电场,当外加的正选扫频信号频率为某一特定值的时候,振幅明显增大,当产生振幅明显增大的信号时,再去捕获有效信号。

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