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公开(公告)号:CN112226728A
公开(公告)日:2021-01-15
申请号:CN202011102664.0
申请日:2020-10-15
Applicant: 厦门理工学院
Abstract: 本发明属于钨制品制备领域,涉及一种具有耐氧化涂层的钨制品及其制备方法。该方法包括:将钨制品基体浸入酸性电解液中并在氩气保护下于15~20V的电解压力下电解2~3分钟,电解液中含有10~15vt%氢氟酸、15~20vt%硝酸且余量为水,超声波清洗后烘干,之后埋入涂层渗料中并依次在700~750℃下保温5~10小时和在900~1000℃保温3~8小时,涂层渗料中含有15~20wt%铝粉、5~10wt%硼粉、2~5wt%氯化铵、2~5wt%氟化钠且余量为氧化铝粉,全程通入氩气保护。采用本发明提供的方法能够显著提高钨制品的抗氧化性,同时能够保持钨制品的强度和硬度,并可防止金属钨制品的变形,保持其精度。
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公开(公告)号:CN105861981B
公开(公告)日:2019-05-28
申请号:CN201610272296.1
申请日:2016-04-28
Applicant: 厦门理工学院
Abstract: 一种铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法,包括以下步骤:S1,将基体表面抛光处理,所述基体包括铌、铌合金或其组合;S2,将抛光后的基体埋入包埋渗剂中反应,其中包埋温度为200‑300℃,保温时间为1‑10h,所述包埋渗剂包括均匀分散的WCl6粉、活化剂和Al2O3粉,且所述包埋渗剂中WCl6粉的比例为25‑55wt.%;S3,保温结束后,清洗包埋后的基体并真空干燥。本发明采用包埋法,将基体放入WCl6的包埋渗剂中,基体与包埋渗剂在200℃‑300℃发生扩散反应,无需采用高温或加压的方法获得涂层,降低了对设备的要求,适合规模化生产。
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公开(公告)号:CN105931791B
公开(公告)日:2019-01-22
申请号:CN201610234579.7
申请日:2016-04-15
Applicant: 厦门理工学院
Abstract: 本发明公开一种采用粉末冶金工艺制备Fe‑50%Co系软磁合金的方法,包括:S1,将羰基铁粉、钴粉以及Fe3P粉末混合均匀,其中:Co含量为50wt%,P含量为0.2~1.2wt%,余量为Fe;S2,将步骤S1所获得的混合物与粘结剂在135~145℃混炼获得具有流变性能的喂料,其中,所述混合物与所述粘结剂的体积比为50~60:50~40;S3,将步骤S2所获得的喂料在注射成形机上采用注射成形技术制备出预定形状的Fe‑50%Co系坯体;S4,脱除所述Fe‑50%Co系坯体中的粘结剂;S5,将步骤S4中所获得的产物在900℃‑1100℃下烧结2‑8小时。本发明还涉及一种由上述方法获得的Fe‑50%Co系软磁合金。
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公开(公告)号:CN105349936B
公开(公告)日:2018-08-14
申请号:CN201510763332.X
申请日:2015-11-11
Applicant: 厦门理工学院
Abstract: 本发明公开了一种金属钨表面WAl4‑AlN‑Al2O3高温绝缘涂层及其制备方法,该方法首先在氨气气氛中,利用氨解渗氮法在钨表面制备氮化钨层;然后在惰性气体或氢气的保护下,通过包埋铝化在钨表面制备一层WAl4‑AlN层;最后将WAl4‑AlN层氧化,使其在钨材料表面形成WAl4‑AlN‑Al2O3绝缘层。本发明在金属钨表面制备WAl4‑AlN‑Al2O3高温绝缘涂层材料工艺简单,生产成本低,具有良好的电绝缘性能,可作为聚变堆中钨包层材料的绝缘涂层。
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公开(公告)号:CN107986326A
公开(公告)日:2018-05-04
申请号:CN201711234361.2
申请日:2017-11-30
Applicant: 厦门理工学院
IPC: C01G23/053 , B01J21/06 , B82Y40/00
CPC classification number: C01G23/053 , B01J21/063 , B01J35/004 , B82Y40/00 , C01P2004/30
Abstract: 本发明提供一种钛酸蚀废液和废旧钛材的回收方法,涉及环保技术领域。将废旧钛材置于钛酸蚀废液中,加热,得到絮凝状沉淀物;然后进行分离、干燥得到干燥产物;干燥产物在400-850℃条件下热处理0.5-15h,得到纳米二氧化钛。将废旧钛材和钛酸蚀废液同时进行再利用,制备成价值更高的纳米TiO2粉体材料,工艺简单,无需消耗大量的氨水等中和剂,成本低,兼具经济效益和社会效益。
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公开(公告)号:CN105861981A
公开(公告)日:2016-08-17
申请号:CN201610272296.1
申请日:2016-04-28
Applicant: 厦门理工学院
Abstract: 一种铌或铌合金表面低温制备钨功能涂层的方法,包括以下步骤:S1,将基体表面抛光处理,所述基体包括铌、铌合金或其组合;S2,将抛光后的基体埋入包埋渗剂中反应,其中包埋温度为200?300℃,保温时间为1?10h,所述包埋渗剂包括均匀分散的WCl6粉、活化剂和Al2O3粉,且所述包埋渗剂中WCl6粉的比例为25?55wt.%;S3,保温结束后,清洗包埋后的基体并真空干燥。本发明采用包埋法,将基体放入WCl6的包埋渗剂中,基体与包埋渗剂在200℃?300℃发生扩散反应,无需采用高温或加压的方法获得涂层,降低了对设备的要求,适合规模化生产。
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公开(公告)号:CN105714243A
公开(公告)日:2016-06-29
申请号:CN201610272362.5
申请日:2016-04-28
Applicant: 厦门理工学院
IPC: C23C10/36
CPC classification number: C23C10/36
Abstract: 一种低温下制备钽表面钨功能涂层的方法,包括以下步骤:S1,将基体表面抛光处理,所述基体包括钽、钽合金或其组合;S2,将抛光后的基体埋入包埋渗剂中反应,其中包埋温度为240?280℃,保温时间为1?8h,所述包埋渗剂包括均匀分散的WCl6粉、活化剂和Al2O3粉,且所述包埋渗剂中WCl6粉的比例为30?50wt.%;S3,保温结束后,清洗包埋后的基体并真空干燥。本发明采用包埋法,基体与包埋渗剂在240?280℃发生扩散反应,从而制得钨功能涂层。基体与钨功能涂层结合好,具有功能涂层均匀致密的优点,且无需采用高温或加压的方法获得涂层,降低了对设备的要求,适合规模化生产。
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公开(公告)号:CN105349936A
公开(公告)日:2016-02-24
申请号:CN201510763332.X
申请日:2015-11-11
Applicant: 厦门理工学院
Abstract: 本发明公开了一种金属钨表面WAl4-AlN-Al2O3高温绝缘涂层及其制备方法,该方法首先在氨气气氛中,利用氨解渗氮法在钨表面制备氮化钨层;然后在惰性气体或氢气的保护下,通过包埋铝化在钨表面制备一层WAl4-AlN层;最后将WAl4-AlN层氧化,使其在钨材料表面形成WAl4-AlN-Al2O3绝缘层。本发明在金属钨表面制备WAl4-AlN-Al2O3高温绝缘涂层材料工艺简单,生产成本低,具有良好的电绝缘性能,可作为聚变堆中钨包层材料的绝缘涂层。
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公开(公告)号:CN104962857A
公开(公告)日:2015-10-07
申请号:CN201510441949.X
申请日:2015-07-24
Applicant: 厦门理工学院
Abstract: 本发明公开了一种可在大气中使用的涂层钼发热体及其制备方法,选择掺钾钼作为发热体基体材料,并按尺寸和形状要求进行加工,随后对发热体基体进行表面抛光、预处理,最后对发热体基体表面进行元素扩散反应制备出涂层钼发热体,其制备工艺流程为:掺钾/镧钼基体→基体加工→抛光、预处理→高温扩散反应→涂层钼发热体。该制备的涂层钼发热体,解决了钼发热体不能在有氧环境使用的问题,且制备工艺简单,成本低,易于工业化生产。
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