光刻胶成膜树脂及其制备方法

    公开(公告)号:CN102890418A

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201210379544.4

    申请日:2012-09-29

    摘要: 本发明公开了一种光刻胶成膜树脂及其制备方法,属于微电子加工领域,为解决现有技术中以酚醛树脂作为光刻胶成膜树脂时,玻璃化转变温度较低,不适于高温加工的问题而设计。一种光刻胶成膜树脂,由式(1)所示的单体A、式(2)所示的单体B和式(3)所示的单体C聚合而成;其中,所述单体A的物质的量的百分比为20%-60%;所述单体B的物质的量的百分比为20%-60%;所述单体C的物质的量的百分比为10%-60%;所述n为1-10的整数。

    集成彩膜的阵列基板及其制造方法和液晶显示器

    公开(公告)号:CN102749752A

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:CN201210189873.2

    申请日:2012-06-08

    发明人: 刘翔 薛建设

    IPC分类号: G02F1/1335 G02B5/20

    CPC分类号: G02F1/133553 G02F1/133512

    摘要: 本发明的实施例提供一种集成彩膜的阵列基板及其制造方法和液晶显示器。其中,集成彩膜的阵列基板包括:包括阵列基板主板,形成于所述阵列基板主板上的黑矩阵以及彩色滤光膜,所述集成彩膜的阵列基板还包括形成于所述彩色滤光膜之间的反光层,所述反光层位于所述黑矩阵之上。采用该集成彩膜的阵列基板的液晶显示器,在高光强的环境下仍具有较佳的可视性。

    一种光刻方法和设备
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102722084A

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:CN201110080114.8

    申请日:2011-03-31

    发明人: 周伟峰 薛建设

    IPC分类号: G03F7/16

    CPC分类号: G03F7/16

    摘要: 本发明公开了一种光刻方法和设备,方法包括:对基板上将要进行光刻胶涂覆的表面的边缘位置进行疏水处理;对经过疏水处理的基板表面涂覆亲水性光刻胶。通过本发明,能够大大减少边缘除胶过程中溶剂的用量,从而降低生产成本,提高产能。

    一种电润湿显示器
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102692703A

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201110147804.0

    申请日:2011-06-02

    IPC分类号: G02B26/02 G09G3/34

    摘要: 本发明提供了一种电润湿显示器,包括:第一基板、相对设置在所述第一基板下方的一第二基板、多个隔绝墙、第一流体及第二流体;所述多个隔绝墙呈格状设置在所述第二基板上,用以界定多个像素单元;所述第一流体填充在相邻隔绝墙所形成的格状空间中,所述第一流体不透光,并与所述第二流体互不相溶,所述第二流体透光并具有导电性或极性,其填充在所述第一流体与所述第一基板之间;并且,针对每个像素单元分别设置有一着色层,所述着色层具有预定的颜色,且所述着色层位于所述第一流体和所述第二基板之间。按照本发明,可以实现电润湿显示器的全彩色显示效果。

    一种有机薄膜晶体管阵列基板的制作方法

    公开(公告)号:CN102683593A

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201210088843.2

    申请日:2012-03-29

    IPC分类号: H01L51/40

    CPC分类号: H01L27/283 H01L27/1288

    摘要: 本发明提供一种有机薄膜晶体管阵列基板的制作方法,包括以下步骤:通过构图工艺分别形成包括栅电极、栅线、绝缘层、有机半导体层、阻挡层、源电极、漏电极以及数据线的图形,其中,所述有机半导体层和阻挡层的图形通过一次构图工艺形成。本发明所述有机薄膜晶体管阵列基板的制作方法与现有技术相比,能够进一步减少构图工艺次数,即只需采用四次构图工艺,因而提高了生产效率,降低了生产成本。