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公开(公告)号：CN114779591A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202210717492.0
申请日：2022-06-23
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨光刻方法，该方法基于苯偶酰光引发剂基态与三重态的光谱吸收特性，利用一束材料基态吸收范围波长的激光束与另一束材料三重态吸收范围波长的激光束共同作用于材料中，通过控制两者的能量实现双色双步吸收效应，并且结合两者的相对位移控制，从而获得小于衍射极限的刻写线宽。本发明将提供一种亚百纳米精度刻写精度与快速刻写能力的超分辨纳米激光直写方法，使三维光刻直写技术具有高速、超分辨、复杂结构刻写能力的优点。
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公开(公告)号：CN114415482B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210324232.7
申请日：2022-03-30
Abstract: 本发明公开了一种基于振镜的超分辨激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：获取待刻写数据和基于振镜的超分辨激光直写系统的单次扫描范围；根据所述单次扫描范围，将所述待刻写数据分割为若干个子数据；根据全局坐标系，对所述子数据进行旋转，得到旋转数据；获取振镜的X极性和Y极性；根据所述X极性和Y极性，对所述旋转数据进行翻转，得到翻转数据；对所述翻转数据之间的拼接重合区域进行拟合，得到刻写数据；根据所述刻写数据，利用基于振镜的超分辨激光直写系统进行刻写。该方法解决振镜与全局坐标系之间存在角度偏差、振镜X/Y轴向与全局坐标轴向不一致和拼接刻写均匀性不一致的问题。
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公开(公告)号：CN113985708A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202111247035.1
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置。本发明利用空间光调制器产生多束刻写光与多束抑制光，抑制光与刻写光在空间上重合形成调制后的多光束。利用像旋转器对调制后的多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明通过引入抑制光，相较于现有双光子并行激光直写具有更高的分辨率。并通过不同的扫描策略，解决了现有系统由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。
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公开(公告)号：CN112666804A
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN202110049599.8
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置，该装置主要包含两路光：一路光通过偏振分束器产生偏振方向两两相同的四光束，四光束在物镜焦平面重叠，进行振幅和强度叠加后产生干涉点阵，点阵暗斑用作抑制涡旋光阵列；另一路光通过数字微镜器件DMD产生激发光点阵，并投影到物镜焦平面上和抑制涡旋光阵列重合，在大视场中可得到万束量级以上边缘光抑制阵列，可用于高通量超分辨的双光子直写。
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公开(公告)号：CN113960892B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202111248690.9
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置，本发明装置利用像旋转器对多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明基于上述五种不同扫描策略，有效解决了现有并行激光直写由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。本发明针对不同应用，使用不同扫描策略，实现扫描速度与扫描质量的双重提升。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113960891B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202111248686.2
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，首先基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；基于抑制光空间光调制器产生抑制用多光束空心光斑；然后将多光束实心光斑与多光束空心光斑合束产生调制后的多光束光斑；再基于多通道声光调制器输出刻写波形，位移台匀速移动直到完成一整列区域刻写，关闭光开关，位移台进行一次步进移动；直到所有图形刻写完成。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。同时，基于边缘光抑制原理获得超分辨效果，提升了现有双光子激光直写光刻的刻写精度。
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公开(公告)号：CN114019765B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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公开(公告)号：CN116652393A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310572478.0
申请日：2023-05-18
IPC: B23K26/362 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/082 , G06T3/00
Abstract: 本申请涉及一种三维激光刻写方法、装置、计算机设备和系统。所述方法包括：依次获取刻写对象每层对应的二维灰度图；基于所述二维灰度图获取每个刻写点的刻写图像数据；依次控制位移台移动至每行所述刻写点对应的起始位置并控制所述位移台按照指定程序移动，在所述位移台到达指定位置时，控制数字微镜基于对应的所述刻写点的所述刻写图像数据进行并行激光刻写操作。通过本申请，解决了相关技术中刻写效率较低，并且刻写质量较差的技术问题，通过移动位移台去除了拼接步骤，并通过数字微镜并行进行激光刻写，进而提高了激光刻写的效率和质量。
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公开(公告)号：CN116572533A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310259330.1
申请日：2023-03-13
IPC: B29C64/386 , B29C64/268 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的三维阵列打印系统的激光直写打印方法，包括：基于最大刻写长度刻写的直线中选取粗细均匀且连续的线段，作为转镜的有效刻写长度；根据预设打印参数和有效刻写长度，计算获得打印平台的单次移动距离；根据预设打印参数，有效刻写长度以及单次移动距离，生成一个或多个连续垂直分布于转镜扫描平面的二维刻写数据文件；根据预设的刻写功率，二维刻写数据文件输入至三维阵列打印系统中，通过刻写激光对打印平台上的刻写材料进行循环输出，获得所述三维结构对应的阵列打印件。本发明还提供了一种激光直写打印方法。本发明提供的方法可以有效解决实际三维刻写过程中耗时过长的问题。
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公开(公告)号：CN116564361A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310266267.4
申请日：2023-03-13
IPC: G11B7/0045 , G03F7/20 , G11B7/126 , G11B7/1353
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的高速刻录系统的光存储方法，所述光存储方法基于高速刻录系统实现，包括：一、编码包括数据信息和刻录坐标的待存储数据，获得对应的二进制编码；二、调整二进制编码，获得存储编码；三、校准高速数字输出卡和确定刻录基底面；四、根据存储编码生成对应的光强波形数据并存入校准好的高速数字输出卡中；五、校准物镜与刻录基底面之间的光学球差，控制刻录激光进行y轴方向的刻录操作；六、调节物镜焦距的偏移量，并重复步骤五，直至完成z轴方向上所有存储编码的刻录，获得三维体存储数据。本发明还提供了一种光存储装置。本发明提供的方法解决了现有技术中数据存储时间过长的问题，提高了刻录的成功率和精确性。
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