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公开(公告)号：CN114700873A
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202210241441.5
申请日：2022-03-11
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本发明属于抛光设备技术领域，且公开了集成臭氧发生装置的化学机械抛光机和抛光液供应装置，包括抛光机大盘，所述抛光机大盘的顶端固定安装有固定顶板，所述抛光机大盘的顶面固定安装有抛光垫，所述固定顶板的中部活动连接有旋转轴。本发明通过抛光液进入固定盒内后推动扇叶旋转，进而带动延伸轴转动，延伸轴在旋转时带动传动轮一转动，通过传动带传动连接传动轮一和传动轮二带动驱动轮三转动，通过驱动带传动连接驱动轮三和驱动轮一，可以带动旋转轴旋转，进而带动晶圆在抛光垫上旋转，进而对晶圆进行抛光处理，在驱动晶圆运动时不需要设置驱动电机，从而降低了装置运行时的噪音，并且减少了装置的使用成本。
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公开(公告)号：CN114603486A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202210231962.2
申请日：2022-03-09
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本发明提供一种可以防止抛光液吸入晶片背面的真空吸盘，其结构包括：固定座、固定孔、真空吸盘、抽气端、UV薄膜、吸附通路，其特征在于：固定座贯穿于固定孔中心，真空吸盘中心与固定孔为一体并与固定座进行固定连接，抽气端嵌入于真空吸盘上端，UV薄膜则覆盖于真空吸盘的上端并与抽气端相通；本发明由真空吸盘外增加一个新的一圈真空吸附通路，在晶片和真空吸盘之间设置一个UV膜，新的通路可以吸住UV膜，UV膜一面被真空吸住，另一面具有粘结力，使其能够粘接住晶片，并且新增加的通路具有相对较大的宽度，使得UV膜发生了弯曲，这个弯曲可以阻止抛光液进入小孔，同时UV膜通过UV照射后就不具有粘结力，从而实现晶片与UV膜的脱离。
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公开(公告)号：CN114571366A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210231986.8
申请日：2022-03-09
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Abstract: 本发明提供一种具有超声波清洁功能的抛光液供应系统，其结构包括管路、容器、定位座、电机、超声波振子，管路插入于容器的侧方下端部位，本发明由容器所进一步改进后，其可在容器进行养护时先向容器内部注入相应的纯水，再者利用超声波振子的超声波功能，达到两者相互搭配使其能够利用超声波与纯水的加持下能够将内部结晶进行快速剥落，同时腔体下端两侧辅助块可使结晶剥落后进行集中在中心点当中，进而能够防止结晶掉落处于零碎分散状态，并且根据所新增的清刷架构能在超声波振子运作过程不断在外壳内壁当中进行上下循环运动，使其能进一步的将内壁进行清刷，加快结晶的掉落速度以及进一步的提升腔体内的洁净程度，减少养护时长。
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公开(公告)号：CN112171506A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN201910594766.X
申请日：2019-07-03
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B24B37/30
Abstract: 本发明提供了一种适用于半导体晶片单面抛光加工的环状陶瓷载盘，属于半导体材料加工技术领域，包括承载组件，所述承载组件包括陶瓷载盘、吸盘和圆形槽，所述陶瓷载盘上表面开设有圆形槽，所述圆形槽和所述陶瓷载盘固定连接，所述圆形槽上表面设置有所述吸盘，所述吸盘和所述圆形槽的内侧壁可拆卸连接，通过设置所述圆形槽和所述吸盘，使得晶片放入到所述圆形槽中，所述吸盘的吸力将晶片固定在所述圆形槽内，从而解决了现有技术的半导体晶片贴附于陶瓷载盘上，在切割过程中容易造成晶片偏离，使得切割精度不达标从而给操作人员带来不必要麻烦的问题。
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公开(公告)号：CN109277942A
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201811254296.4
申请日：2018-10-26
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本发明公开了一种工作环工位自动切换单面研磨机，包括工作台、以及设置在所述工作台上的工作环组件，所述工作环组件包括旋转盘、设置在所述旋转盘上的若干工作环、以及与用于定位工作环的外导轮；所述旋转盘安装在工作台的中间位置，在旋转盘下方的工作台内安装有电机，电机的输出端与旋转盘连接固定，且可驱动旋转盘以旋转盘的中心为原点转动；在所述工作台的外边沿位置设有若干外导轮，所述外导轮包括基座、转向杆和导向轮，基座固定安装在工作台上，转向杆的一端与设置在基座的轴承连接，所述导向轮安装在转向杆的另一端。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104087405A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201410309990.7
申请日：2014-07-02
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: C10M173/02
Abstract: 本发明为用于手机触摸屏面板双面减薄加工的冷却液及其配制方法，其特征在于所述冷却液的组成及质量百分配比为：去离子水94～98%；扁平状氧化铝研磨粉ZWA-15 1～2%；低粘度研磨液悬浮添加剂CHALLENGE543-HT 1～4%。其配制方法包括：在冷却液桶中按质量百分配比加入水，叶轮转速1000～1500RPM；开启搅拌器并按配比缓慢加入扁平状氧化铝研磨粉ZWA-15，搅拌4～8分钟，确保ZWA-15颗粒充分分散；按分配比加入低粘度研磨液悬浮添加剂CHALLENGE543-HT并持续高速搅拌4～10分钟；关闭搅拌器或维持搅拌器在50rpm转速，配制的冷却液呈均匀粘稠状。
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公开(公告)号：CN119381299A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202411735770.0
申请日：2024-11-29
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/677 , B08B1/12 , B08B1/30 , B08B3/02
Abstract: 本发明涉及一种用于半导体晶圆传送设备的洗刷装置及半导体晶圆工艺系统，包括机架部件、旋转部件、洗刷部件、清洗液供应部件和控制部件。其优点在于，通过在机架部件上设置旋转部件，可使得旋转部件可对陶瓷载盘进行固定并带动陶瓷载盘旋转，使得旋转部件可配合洗刷部件对陶瓷载盘上的晶圆进行清洗；通过在机架部件上设置洗刷部件，洗刷部件可在机架部件上升降，并使得洗刷部件可对陶瓷载盘上的晶圆进行洗刷；通过在机架部件上设置清洗液供部件，清洗液供应部件可向洗刷部件输送清洗液，使得清洗液供应部件可向陶瓷载盘喷洒清洗液，从而使得洗刷部件可结合清洗液对陶瓷载盘上的晶圆进行清洗，提升陶瓷载盘上的晶圆的清洗效果。
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公开(公告)号：CN116945020A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202311164235.X
申请日：2023-09-08
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本发明公开一种碳化硅晶片自动抛光生产线，属于芯片制作技术领域，包括碳面抛光环形产线和硅面抛光环形产线，碳面抛光环形产线与硅面抛光环形产线具有共用产线段，碳面抛光环形产线包括共用产线段和碳面抛光段，硅面抛光环形产线包括共用产线段和硅面抛光段，碳面抛光段包括碳面化学机械粗抛机，硅面抛光段包括硅面化学机械粗抛机和硅面化学机械精抛机，共用产线段包括顺次设置的贴蜡机、机械抛光机以及晶片刷洗机。本发明将碳面抛光环形产线与硅面抛光环形产线设置共用产线段，能够对各工位进行合理布置，提高工序衔接的顺畅程度，降低贴蜡机、机械抛光机以及晶片刷洗机等设备的停机率，提高利用效率，进而提高产线整体的利用效率和生产效率。
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公开(公告)号：CN107127674B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201710553653.6
申请日：2017-07-08
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 一种用于半导体晶片抛光的陶瓷载盘，在所述陶瓷载盘与抛光布贴合面上开有导液槽，该导液槽使得抛光液在陶瓷载盘的导液槽中自由流动。陶瓷载盘中贴晶片区域高于抛光液导液槽，贴晶片区域直径略大于晶片直径，贴晶片以外区域部分或全部低于贴晶片区域的高度。
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公开(公告)号：CN111843833A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010821725.2
申请日：2020-08-15
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本发明公开了一种第三代半导体干冰降温系统，其结构包括研磨机主体和推送装置，本发明通过在干冰箱左侧设置了推送装置，在电动推杆运行下，将导杆推动并在连接杆作用下，实现推杆的右移活动，然后随着推杆的右移，就可带动推动板来将储存箱内部储存的干冰，推动到干冰箱内部，从而实现干冰自动推送的优点，通过在干冰箱左侧下端设置了密封机构，在推动板进行推送活动时，进料口处会将密封板推动到收取槽内部，而当完成推送活动后，扭簧回弹，使密封板重新复位，来将进料口密封，从而达到了对未使用干冰保温的优点，通过压缩泵运行，压缩空气，出来的冷却气体驱动虹吸喷雾喷头，并于内部抛光液接触实现冷却，进而实现半导体的快速降温。
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