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公开(公告)号：CN105134452B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201510520760.X
申请日：2015-08-24
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: F02P23/04
Abstract: 本发明提供一种采用连续、脉冲双模式激光，以靶部击穿方式产生等离子火花，从而进行点火的装置及方法。其中，装置主要具备脉冲激光发射端、连续激光发射端、燃料喷射装置、靶部、燃烧室、汽缸盖、活塞等，且激光发射端不伸入燃烧室内。根据本发明采用连续、脉冲双模式激光靶部击穿方式下的点火装置及方法，始终能够可靠地产生等离子火花对燃烧室内的燃料空气混合物进行点火，并且能够有效提高点火速度，降低点火调整难度、增加点火可靠性，增大燃烧面积、提高燃烧效率、节省燃料。
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公开(公告)号：CN103752818B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201410027410.5
申请日：2014-01-21
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于激光熔覆的含有高铬含量的铁基复合粉末，该铁基复合粉末是由Cr3C2、Cr和Fe的化合物，以及Ni、Mo、Si和B元素构成。该铁基复合粉末中各元素的质量百分比为：Cr：38～40％；C：4.2～4.5％；Ni：3～5％；Mo：0.05～0.08％；Si：0.8～1.02％；B：1.2～1.78％；其余为Fe。该铁基复合粉末的粒度介于+140目～-325目之间。该粉末含有较高含量的C、Cr元素，可有效的提高涂层的硬度，可满足和适用于碳钢、不锈钢等铁基基材的激光熔覆工艺要求，其样品熔覆层无裂纹、无宏观气孔、成分分布均匀，硬度可达到HV0.21000，是基体硬度的5倍，且高Cr含量提高了铁基复合粉末熔覆层的耐腐蚀性，可用于常温和高温耐磨和耐腐蚀的工作条件。
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公开(公告)号：CN105215007A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510628659.6
申请日：2015-09-28
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: B08B7/00
Abstract: 一种物体表面污染物清洗用的光路系统，包括：一激光器，其发出圆形光斑；一方形光斑整形器，该方形光斑整形器将圆形光斑变换成发散的方形光斑；一第一、第二透镜，其依序位于激光器的输出光路上，该第一柱透镜用于将方形光斑的一边长a方向进行准直，该第二透镜用于将方形光斑另一边长b方向进行准直；一第一、第二扫描镜，其依序位于激光器的输出光路上，该第一、第二扫描振镜用于控制清洗用扫描光斑摆动位置，控制清洗；一聚焦场镜，其位于第二扫描镜的光路上，该聚焦场镜用于将平行长方形光斑聚焦形成尺寸为百微米级的清洗用长方形光斑。本发明可实现聚焦方形光斑两边长方向不同尺寸调节，长方形聚焦光斑清洗可在减少重叠率的基础上，消除清洗盲区，提高清洗质量及清洗效率。
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公开(公告)号：CN103752818A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410027410.5
申请日：2014-01-21
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于激光熔覆的含有高铬含量的铁基复合粉末，该铁基复合粉末是由Cr3C2、Cr和Fe的化合物，以及Ni、Mo、Si和B元素构成。该铁基复合粉末中各元素的质量百分比为：Cr：38～40％；C：4.2～4.5％；Ni：3～5％；Mo：0.05～0.08％；Si：0.8～1.02％；B：1.2～1.78％；其余为Fe。该铁基复合粉末的粒度介于+140目～-325目之间。该粉末含有较高含量的C、Cr元素，可有效的提高涂层的硬度，可满足和适用于碳钢、不锈钢等铁基基材的激光熔覆工艺要求，其样品熔覆层无裂纹、无宏观气孔、成分分布均匀，硬度可达到HV0.21000，是基体硬度的5倍，且高Cr含量提高了铁基复合粉末熔覆层的耐腐蚀性，可用于常温和高温耐磨和耐腐蚀的工作条件。
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公开(公告)号：CN103695901A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310741495.9
申请日：2013-12-27
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: C23C24/10
Abstract: 本发明提供了一种消除多道激光熔覆搭接孔洞的方法。该方法通过激光功率密度与单道熔覆层宽高比关系，确定最优单道熔覆层宽高比；根据工艺参数与单道熔覆层宽高比关系式，可以计算确定所采用的工艺参数，以及搭接间距，以消除多道激光熔覆的搭接孔洞。本发明消除多道激光熔覆搭接孔洞方法不仅可以消除熔覆层中的搭接孔洞，还可以降低熔覆层开裂敏感性，提高熔覆层寿命。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111893480B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201910369694.9
申请日：2019-05-05
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: C23C24/10
Abstract: 一种用于薄板激光熔覆的工装装置及熔覆方法，包括设计制造带有热交换通道的工装底板，工装底板可以是一体或者分体装配的。将待激光熔覆薄板置于工装底板上，将压板压在薄板上，压板通过螺栓与工装底板相连，对薄板实施夹紧。激光熔覆过程为：将粉末通过送粉器送出，经送粉管连接到工装底板的进口，在出口处通过送粉管连接到激光熔覆头的粉末喷嘴上。激光熔覆过程中，激光作用于粉末与薄板基体上，形成熔覆层。薄板温度上升，并将热量传递给工装底板，工装底板上热交换通道中有载粉气体与粉末快速流动，与工装底板热交换，对工装底板起到冷却作用，从而降低了薄板熔覆过程的热量积累，减小变形量。
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公开(公告)号：CN108889728B
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201810832094.7
申请日：2018-07-25
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种激光清洗用、具有返回光监测功能的光纤输出端头，包括：石英端帽；主输出光纤，一端与石英端帽熔接；辅助探测光纤，与主输出光纤一起熔接在石英端帽的同一端或与主输出光纤包层熔接在一起；聚焦透镜，安装于辅助探测光纤的另一端，用于聚集待加工件返射的并沿辅助探测光纤传输的激光；光电探测器，安装于所述聚焦透镜的一侧焦点处，用于探测沿辅助探测光纤返回并被聚焦透镜聚集的激光量，并将返回激光转换成电信号进行监测，以缓解现有技术中进行激光加工时返回的激光束烧坏光纤激光器泵浦源，光电探测器误报警等技术问题。
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公开(公告)号：CN109226100B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201811084211.2
申请日：2018-09-17
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种用于脉冲抽运的调Q激光清洗的扫描信号控制方法，所述方法包括以下步骤：设置激光器的参数，开启脉冲抽运调Q激光器，使其发出非连续的脉冲激光；调整信号控制板参数，使锯齿波信号时间等于抽运脉宽时间，锯齿波信号占空比等于脉冲抽运占空比，调整锯齿波信号的触发延时时间，使锯齿波信号和脉冲抽运调Q激光器的抽运时间同步；通过振镜电机的非均匀周期性摆动，输出连续均匀的线形激光光斑。本发明的扫描信号控制方法可解决脉冲抽运的调Q激光由于其连发式非连续的脉冲发射模式而导致的扫描光斑分布间断不连续的问题，实现该种类型光源的激光清洗的应用。
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公开(公告)号：CN108816964B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201810984404.7
申请日：2018-08-27
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种随机激光清洗装置与方法，该装置包括：一激光器，该激光器中存在声光调Q并与声光调Q驱动电源相连，还存在激光模块并与激光模块驱动电源相连，同时激光器与一水冷机相连，用于激光器中激光模块、声光调Q和镜片的冷却；一激光清洗头，通过一传能光纤与激光器相连；一执行机构，激光清洗头安装在该执行机构上，用于控制激光清洗头的运动路径；一执行机构伺服控制系统，与执行机构相连，用于控制执行机构实现运动；一随机信号发生器，连接执行机构伺服控制系统与声光调Q驱动电源，控制激光清洗过程。通过本技术方案，可实现清洗后的工件表面无规则清洗痕迹，表面均匀，美观度较传统激光清洗高，大大提高激光清洗的实用性。
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公开(公告)号：CN109226100A
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201811084211.2
申请日：2018-09-17
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 一种用于脉冲抽运的调Q激光清洗的扫描信号控制方法，所述方法包括以下步骤：设置激光器的参数，开启脉冲抽运调Q激光器，使其发出非连续的脉冲激光；调整信号控制板参数，使锯齿波信号时间等于抽运脉宽时间，锯齿波信号占空比等于脉冲抽运占空比，调整锯齿波信号的触发延时时间，使锯齿波信号和脉冲抽运调Q激光器的抽运时间同步；通过振镜电机的非均匀周期性摆动，输出连续均匀的线形激光光斑。本发明的扫描信号控制方法可解决脉冲抽运的调Q激光由于其连发式非连续的脉冲发射模式而导致的扫描光斑分布间断不连续的问题，实现该种类型光源的激光清洗的应用。
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