一种同时获取薄膜厚度与折射率的标准干涉片拟合法

    公开(公告)号:CN105157585B

    公开(公告)日:2017-10-13

    申请号:CN201510606559.3

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种同时获取薄膜折射率与厚度的双标准干涉片拟合法,它只需将待测薄膜镀制在两种镀有一层已经形成干涉但不同折射率薄膜的标准干涉片上,即可通过同时拟合两种标准干涉片镀膜前后的透(或反)射光谱,同时精确地获取待测薄膜的厚度与折射率,膜厚测量极限高达1nm,相对于传统方法30nm测量极限具有很大提高。另外,该方法由于同时对两种标准干涉片进行拟合,可以极大地减小测试系统的误差,显著降低对测试系统性能的要求和成本。而且,本发明方法适用于镀膜系统的在线检测与监控,可以在工业生产或者科学研究中推广使用。

    一种红外窄带辐射源及其制备方法

    公开(公告)号:CN106768352A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611059137.X

    申请日:2016-11-25

    Abstract: 本发明公开了一种红外窄带辐射源及其制备方法。该辐射源由多层膜结构组成,包括金属层、介质腔层和介质布拉格反射镜。介质腔层厚度和介质布拉格反射镜的厚度可以调节红外窄带辐射源的辐射中心波长。膜系的制备方法可以采用磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发、热蒸发、脉冲激光沉积、原子层沉积等其中的一种或者多种组合。这种红外窄带辐射源具有高辐射率,峰值辐射率接近100%,Q因子可达140以上、单色性好等突出性能优势,并且结构简单、易于大面积制备、波长可调、可制备在柔性衬底上等一系列优点,在红外窄带光源、气敏探测器、光电特征标识和新型红外光谱仪上有良好的应用前景。

    一种调节二氧化钒薄膜相变温度的方法

    公开(公告)号:CN104261873B

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201410341407.0

    申请日:2014-07-17

    Abstract: 本发明提出了一种调节二氧化钒薄膜相变温度的方法。对金属钒或低价态钒氧化物薄膜进行真空条件下通氧退火,通过改变退火过程中氧气分压来调节生成的二氧化钒薄膜的相变温度。这种调节相变的方式不依赖于衬底,既可以在晶体衬底上实现,也可以在非晶衬底上实现,是一种非常简单有效的二氧化钒薄膜相变温度调节方法,灵活性强、操作简便、成本低廉,并可与其它相变温度调节方法兼容和共同使用。

    一种同时获取薄膜厚度与折射率的标准干涉片拟合法

    公开(公告)号:CN105157585A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201510606559.3

    申请日:2015-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种同时获取薄膜折射率与厚度的双标准干涉片拟合法,它只需将待测薄膜镀制在两种镀有一层已经形成干涉但不同折射率薄膜的标准干涉片上,即可通过同时拟合两种标准干涉片镀膜前后的透(或反)射光谱,同时精确地获取待测薄膜的厚度与折射率,膜厚测量极限高达1nm,相对于传统方法30nm测量极限具有很大提高。另外,该方法由于同时对两种标准干涉片进行拟合,可以极大地减小测试系统的误差,显著降低对测试系统性能的要求和成本。而且,本发明方法适用于镀膜系统的在线检测与监控,可以在工业生产或者科学研究中推广使用。

    Ti合金氮化物选择性吸收膜系及其制备方法

    公开(公告)号:CN103383155A

    公开(公告)日:2013-11-06

    申请号:CN201310251610.4

    申请日:2013-06-21

    CPC classification number: Y02E10/40 Y02P80/24

    Abstract: 本发明公开了一种Ti合金氮化物选择性吸收膜系。该吸收膜系包括:金属衬底、在衬底上依次沉积的Ti合金氮化物选择性吸收膜层、减反射介质膜层、SiO2保护膜层。本发明的吸收膜系对太阳能的吸收率大于97%,发射率小于3%,具有光热转换效率高和集热效率好的特点。本发明的吸收膜系在保持高吸收率和低发射率的前提下,通过调节Ti合金成份可以满足太阳能热水器、太阳能空调等光热产品的多样化和个性化需求。由于本发明Ti合金氮化物选择性吸收膜系结构简单,不涉及氧元素沉积问题,具有制备工艺简单、使用靶材数量少的特点,因此可以极大提高生产效率,降低工业大规模生产的成本,对太阳能选择性吸热膜领域的发展有着十分重要的意义。

    一种低成本颜色可调的低辐射窗槛墙膜系及其制备方法

    公开(公告)号:CN103243885A

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201310148800.3

    申请日:2013-04-26

    Abstract: 本发明公开了一种低成本颜色可调的低辐射窗槛墙膜系及其制备方法。该膜系自透明基底向上依次包括镀制在透明基底上的下层氮化硅薄膜、可见光吸收薄膜、金属薄膜以及上层氮化硅保护膜。本发明的膜系在可见光范围对太阳光的平均反射率在5%~30%,而辐射率小于10%。同时本发明的膜系在保持对可见光低反射、红外低辐射率前提下,还具有外观颜色可按需求进行调节的特点,丰富多彩的外观颜色可更好地实现了窗槛墙对建筑的美化效果。由于采用了上、下层氮化硅保护膜夹心结构,本发明的膜系还具备可钢化特性。本发明的颜色可调的低辐射窗槛墙膜系可直接通过工业化磁控溅射制备方法在大面积透明基底上连续镀制,易于实现低成本、大规模工业化生产。

Patent Agency Ranking