公开(公告)号：CN107526252B

公开(公告)日：2022-01-25

申请号：CN201710353841.4

申请日：2017-05-18

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  梁敦植

IPC: G03F7/11

Abstract: 本发明提供一种硬掩模用组合物，更详细而言，通过包含含有下述化学式1所表示的重复单元的共聚物和溶剂，从而能够形成耐热性及平坦性优异的抗蚀剂下层膜(硬掩模)。下述化学式1中，Ar为碳原子数6～35的三价芳烃基，R为氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～18的芳基，所述V为乙烯基、乙炔基、或被乙烯基或乙炔基取代的苯基，所述X为氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数6～18的芳基或碳原子数4～16的杂芳基，所述Ar、R、V和X各自独立地可被碳原子数1～6的烷基、羟基、甲氧基或苯基进一步取代，n为1～190的整数。

公开(公告)号：CN108628102B

公开(公告)日：2021-07-27

申请号：CN201810200722.X

申请日：2018-03-12

Applicant: 东友精细化工有限公司 ,  崔相俊

Inventor： 梁敦植 ,  梁振锡 ,  朴根永 ,  崔汉永 ,  崔相俊

IPC: G03F7/11

Abstract: 本发明提供一种硬掩模用组合物，其包含芘系连接化合物与含有羟基的芳香族化合物的聚合物、及溶剂。由硬掩模用组合物能够形成耐蚀刻性、溶解性和平坦性同时提高了的硬掩模。

公开(公告)号：CN105938294B

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201610122336.4

申请日：2016-03-03

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 全吉敏 ,  金圣彬 ,  梁敦植

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  C08F212/12 ,  C08F220/06 ,  C08F232/08 ,  C08F220/32

Abstract: 本发明涉及负型感光性树脂组合物，更具体地，涉及负型感光性树脂组合物，其通过包含具有环氧基或氧杂环丁烷基的碱可溶性树脂；具有环氧基的酚醛清漆低聚物系固化剂；和三官能以上的多官能硫醇化合物，能够制造具有显著改善的耐化学性、即使蚀刻剂处理以后仍具有优异的密合力、不产生表面损伤、膜收缩的图案。

公开(公告)号：CN110066533A

公开(公告)日：2019-07-30

申请号：CN201910025174.6

申请日：2019-01-10

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  琴中韩 ,  梁敦植

IPC: C09D1/00 ,  C09D7/63

Abstract: 用于形成绝缘层的组合物，包括二氧化硅溶胶、致孔剂和热酸发生剂。使用该组合物可形成具有高弹性和低k特性的绝缘层。

公开(公告)号：CN109143782A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201810482174.4

申请日：2018-05-18

Applicant: 东友精细化工有限公司 ,  崔相俊

Inventor： 梁敦植 ,  金烔永 ,  李殷相 ,  崔汉永 ,  崔相俊

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供硬掩模用组合物及图案形成方法，所述硬掩模用组合物包含：具有来源于碳原子数6～40的芳香族化合物的芳香族单元与来源于含有脂肪族不饱和基团的缩醛化合物的脂肪族不饱和单元结合而成的重复单元的聚合物、及溶剂。通过使用硬掩模用组合物，能够形成耐热性、耐蚀刻性、涂布性同时提高了的硬掩模。

公开(公告)号：CN109143781A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201810469998.8

申请日：2018-05-16

Applicant: 东友精细化工有限公司 ,  崔相俊

Inventor： 崔汉永 ,  梁敦植 ,  李殷相 ,  崔相俊

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供硬掩模用组合物及图案形成方法，所述硬掩模用组合物包含：含有咔唑单元与芴单元结合而成的重复单元的聚合物、以及溶剂。使用硬掩模用组合物可以形成耐蚀刻性得到提高的硬掩模。

公开(公告)号：CN108508702A

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201810130570.0

申请日：2018-02-08

Applicant: 东友精细化工有限公司 ,  崔相俊

Inventor： 梁敦植 ,  梁振锡 ,  朴根永 ,  崔汉永 ,  崔相俊

IPC: G03F7/11

CPC classification number: G03F7/11

Abstract: 本发明提供一种硬掩模用组合物，其通过包含含有下述化学式1的重复单元的聚合物及溶剂，从而能够形成平坦性、溶解性和耐蚀刻性同时提高的硬掩模。化学式1中，Ar1和Ar2各自独立地为苯二基或萘二基，Ar3和Ar4各自独立地为苯基或萘基，Ar1、Ar2、Ar3和Ar4的氢原子各自独立地可以被羟基取代，选自由Ar1、Ar2、Ar3和Ar4组成的组中的至少两个可以将彼此的氢原子取代而连接形成环，n为1～200的整数。化学式1

公开(公告)号：CN107526252A

公开(公告)日：2017-12-29

申请号：CN201710353841.4

申请日：2017-05-18

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 崔汉永 ,  梁敦植

IPC: G03F7/11

CPC classification number: G03F7/11

Abstract: 本发明提供一种硬掩模用组合物，更详细而言，通过包含含有下述化学式1所表示的重复单元的共聚物和溶剂，从而能够形成耐热性及平坦性优异的抗蚀剂下层膜(硬掩模)。下述化学式1中，Ar为碳原子数6～35的三价芳烃基，R为氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～18的芳基，所述V为乙烯基、乙炔基、或被乙烯基或乙炔基取代的苯基，所述X为氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数6～18的芳基或碳原子数4～16的杂芳基，所述Ar、R、V和X各自独立地可被碳原子数1～6的烷基、羟基、甲氧基或苯基进一步取代，n为1～190的整数。

公开(公告)号：CN105938299A

公开(公告)日：2016-09-14

申请号：CN201610127206.X

申请日：2016-03-07

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 任玟柱 ,  崔硕均 ,  梁敦植

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供化学增幅型感光性树脂组合物及由其制造的绝缘膜。本发明涉及化学增幅型感光性树脂组合物和由其制造的绝缘膜，该化学增幅型感光性树脂组合物通过包含：包括(a‑1)酚性羟基或羧基的至少一部分用酸分解性基团保护的树脂、(a‑2)含有环氧基的丙烯酸系树脂和(a‑3)含有氧杂环丁烷基的丙烯酸系树脂的(A)粘结剂树脂、(B)光致产酸剂、和(C)溶剂，从而可得到显影性优异、具有改善的感度、图案的透过度和斜度以及经时稳定性得以确保的绝缘膜。

公开(公告)号：CN105867069A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201610084773.1

申请日：2016-02-14

Applicant: 东友精细化工有限公司

Inventor： 全志珉 ,  金圣彬 ,  梁敦植

IPC: G03F7/038

Abstract: 本发明涉及可以低温固化、对于基板的密合性、耐化学性优异的负型感光性树脂组合物、使用其形成的光固化图案和包含所述图案的图像显示装置。