公开(公告)号：CN3652230D

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200630131108.0

申请日：2006-06-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 齐藤哲也 ,  五味久 ,  掛川崇

Abstract: 1.本外观设计产品是在半导体基板上进行成膜处理时所使用的气

公开(公告)号：CN3652229D

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200630131106.1

申请日：2006-06-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 齐藤哲也 ,  五味久 ,  掛川崇

Abstract: 右视图与左视图对称，故省略右视图。