公开(公告)号：CN111009485B

公开(公告)日：2024-08-27

申请号：CN201910931482.5

申请日：2019-09-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森拓也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/66

Abstract: 本发明提供一种基板仓库、基板处理系统和基板检查方法，不使生产量降低地确定出半导体器件制造时的不良原因。一种基板仓库，用于保管保存有基板的容器，所述基板仓库具备：搬入部，其用于在从外部搬入所述容器时载置该容器；搬出部，其用于在向外部搬出所述容器时载置该容器；等待部，其用于载置等待向外部搬出的所述容器；功能部，其包括检查部，所述检查部进行检查所述基板的处理；交接部，其用于在所述功能部与所述容器之间交接基板时载置该容器；容器搬送机构，其用于在该基板仓库内搬送所述容器；以及基板搬送机构，其用于在所述功能部与载置于所述交接部的所述容器之间搬送基板。

公开(公告)号：CN110838453B

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN201910747666.6

申请日：2019-08-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森拓也

IPC: H01L21/66

Abstract: 本发明提供处理条件修正方法和基片处理系统，在摄像装置少的基片处理系统中能够不损害生产率地对处理条件进行适当修正。处理条件修正方法包括：监视用拍摄步骤，在一连串处理开始前和结束后拍摄各基片；装置确定步骤，基于监视用拍摄步骤的拍摄结果和处理装置的信息确定推断为存在异常的处理装置；异常判断用拍摄步骤，在规定的处理条件下对检查用基片进行确定出的处理装置的单位处理，在进行单位处理前后拍摄该检查用基片；异常有无判断步骤，基于异常判断用拍摄步骤的拍摄结果判断确定出的处理装置中实际有无异常；和处理条件修正步骤，基于异常判断用拍摄步骤中的拍摄结果对判断为实际存在异常的处理装置的单位处理的处理条件进行修正。

公开(公告)号：CN113013054A

公开(公告)日：2021-06-22

申请号：CN202011456717.9

申请日：2020-12-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森拓也 ,  黑岩庆造

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供热处理装置，其无论基板的翘曲的大小如何，都能够在面内均匀地进行对该基板的热处理。热处理装置，其对基板进行热处理，该热处理装置具有：热处理板，在其上表面载置基板，对被载置的该基板进行加热或冷却；以及变形自如的导热构件，至少其外周面的热导率比所述热处理板的上表面附近的气氛的热导率高，且该导热构件设为覆盖该热处理板的上表面并介于该上表面和晶圆(W)之间，所述导热构件在向所述热处理板的上表面推压基板的力的作用下变形为与该基板的形状对应的形状。

公开(公告)号：CN110838453A

公开(公告)日：2020-02-25

申请号：CN201910747666.6

申请日：2019-08-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森拓也

IPC: H01L21/66

Abstract: 本发明提供处理条件修正方法和基片处理系统，在摄像装置少的基片处理系统中能够不损害生产率地对处理条件进行适当修正。处理条件修正方法包括：监视用拍摄步骤，在一连串处理开始前和结束后拍摄各基片；装置确定步骤，基于监视用拍摄步骤的拍摄结果和处理装置的信息确定推断为存在异常的处理装置；异常判断用拍摄步骤，在规定的处理条件下对检查用基片进行确定出的处理装置的单位处理，在进行单位处理前后拍摄该检查用基片；异常有无判断步骤，基于异常判断用拍摄步骤的拍摄结果判断确定出的处理装置中实际有无异常；和处理条件修正步骤，基于异常判断用拍摄步骤中的拍摄结果对判断为实际存在异常的处理装置的单位处理的处理条件进行修正。

公开(公告)号：CN107533016A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680026816.9

申请日：2016-05-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森拓也 ,  早川诚

IPC: G01N21/956 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

Abstract: 具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统的基板的检查方法，拍摄用处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从该第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从第一基板图像抽取的特征量对应的检查方案，拍摄用处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于检查方案和第二基板图像，判断基板有无缺陷。

公开(公告)号：CN100550298C

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：CN03820283.2

申请日：2003-08-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森拓也

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/708 ,  G03F7/70975

Abstract: 本发明的目的在于更安全地对涂敷显影处理装置进行远程操作并进行维修。本发明是基板处理装置的维修系统，具备：远程操作装置，通过通信网络将远程操作信息发送给基板处理装置一边，对基板处理装置提供远程操作信息，由此从远距离的地方来操作基板处理装置；以及通信控制装置，接收被发送给基板处理装置一边的上述远程操作信息，对上述基板处理装置提供该远程操作信息，上述通信控制装置只在有对于远程操作的基板处理装置一边的操作人员的许可设定的情况下，才对基板处理装置提供上述远程操作信息，将远程操作的上述许可设定分成多个阶段。