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公开(公告)号：CN1807318A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200510112206.4
申请日：2005-12-29
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明涉及一种玻璃基片表面自组装聚电解质—稀土纳米薄膜的制备方法，采用表面经过强氧化剂处理的玻璃基片作为基底材料，将基片重复交替浸入带正电的聚二烯丙基二甲基氯化氨溶液和带负电的聚苯乙烯磺酸钠溶液中，在基片表面组装多层聚电解质薄膜，最后将表面附有带负电的聚电解质薄膜的基片置入由乙醇、稀土化合物、乙二胺四乙酸、氯化铵、尿素、硝酸配制的稀土自组装溶液中，获得聚电解质－稀土自组装纳米薄膜。本发明工艺方法简单，在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩、耐磨和抗粘着作用。
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公开(公告)号：CN1736925A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510027734.X
申请日：2005-07-14
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种玻璃基片表面制备磺酸基硅烷－稀土纳米复合薄膜的方法，在羟基化的玻璃基片表面用自组装法制备磺酸基硅烷薄膜，用溶胶－凝胶法在其表面制备含有稀土元素的薄膜。将玻璃基片浸于Pirahan溶液，90℃下处理1小时，清洗干燥后浸入巯基硅烷溶液，静置6～8小时取出冲洗，用氮气吹干置于硝酸溶液，得到表面附有磺酸基硅烷薄膜的玻璃基片，再将其置入由稀土化合物、钛酸盐、乙醇、二乙醇胺、二甲基甲酰胺组成的溶胶溶液中静置后提拉，干燥，或重复上述操作制备多层薄膜；把样品放入马弗炉，缓慢升温至500℃，在炉内自然冷却至室温即得到稀土纳米复合薄膜。本发明工艺方法简单，在玻璃基片表面制备的稀土复合薄膜有明显减摩、耐磨作用。
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公开(公告)号：CN1226217C
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN200310108927.9
申请日：2003-11-27
Applicant: 上海交通大学
IPC: C03C17/00 , C03C17/22 , C04B35/622
Abstract: 一种玻璃基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法。属于薄膜制备领域。本发明用Pirahan溶液H2SO4∶H2O2体积比＝70∶30，于室温下处理30min，再用去离子水淋洗，放在防尘装置内在烘箱中干燥，将处理后的玻璃基片浸入配置好的稀土改性剂中，静置8小时，取出后，用去离子水冲洗后，在室温中晾干后置于烘箱，于120摄氏度保温1个小时，即获得稀土自组装纳米薄膜，其中稀土改性剂的组分重量百分比为：乙醇：60%～80%，稀土化合物：4.5%～7%，乙二胺四乙酸：1%～4%，氯化铵：2%～5%，尿素：15-25%，硝酸：0.5%～1.5%。本发明工艺方法简单，在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩作用和抗磨损性能。
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公开(公告)号：CN1654393A
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN200510023463.0
申请日：2005-01-20
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种玻璃基片表面制备巯基硅烷—稀土纳米复合薄膜的方法，采用表面经过羟基化的玻璃基片作为基底材料，在其表面采用自组装方法制备巯基硅烷—稀土纳米薄膜，首先将玻璃基片浸于Pirahan溶液中，于室温下处理1小时，清洗、干燥后，浸入巯基硅烷溶液中，静置6～8小时后取出，冲洗后用氮气吹干置于由稀土化合物、乙醇、乙二胺四乙酸、氯化铵、尿素及硝酸组成的稀土自组装溶液中进行组装，即获得巯基硅烷—稀土自组装纳米薄膜。本发明工艺方法简单，在玻璃基片表面制备的稀土自组装薄膜有明显减摩、耐磨作用。
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公开(公告)号：CN1544697A
公开(公告)日：2004-11-10
申请号：CN200310108925.X
申请日：2003-11-27
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种溶胶—凝胶法稀土纳米膜的制备方法，属于薄膜制备领域。本发明对单晶硅片进行预处理，将单晶硅片浸泡在王水中，使用电炉加热王水，在室温中自然冷却，将单晶硅片取出，用去离子水反复冲洗，放入干燥皿中干燥；或者采用羟基化对玻璃基片进行预处理，用Pirahan溶液于室温下处理，再用大量去离子水淋洗、干燥；将处理后的基片浸入配置好的溶胶溶液，静置后提拉，然后在干燥器中静置，放入烘箱中干燥，或者重复上述操作准备多层薄膜；把覆有薄膜的单晶硅片或玻璃基片放入马弗炉保温，缓慢升温至500℃，保温在炉内自然冷却至室温即可得到稀土纳米薄膜。本发明可以将摩擦系数从无膜时的0.5降低到0.2，具有十分明显的减摩作用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1544372A
公开(公告)日：2004-11-10
申请号：CN200310108927.9
申请日：2003-11-27
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种玻璃基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法。属于薄膜制备领域。本发明采用羟基化进行玻璃基片的预处理，用Pirahan溶液H2SO4∶H2O2体积比＝70∶30，于室温下处理30min，再用去离子水淋洗，放在防尘装置内在烘箱中干燥，将处理后的玻璃基片浸入配置好的稀土改性剂中，静置8小时，取出后，用去离子水冲洗后，在室温中晾干后置于烘箱，于120摄氏度保温1个小时，即获得稀土自组装纳米薄膜，其中稀土改性剂的组分重量百分比为：乙醇含量：60％～80％，稀土化合物：4.5％～7％，乙二胺四乙酸：1％～4％，氯化铵：2％～5％，尿素：15％～25％，硝酸：0.5％～1.5％。本发明工艺方法简单，在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩作用和抗磨损性能。
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公开(公告)号：CN106547695B
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201610947172.9
申请日：2016-10-26
IPC: G06F11/36
Abstract: 本发明公开了一种规模软件的测试系统及方法，该测试系统包括：向量生成模块，用于针对被测对象采用功能驱动和随机测试的方法生成测试向量；监测模块，用于根据所述生成测试向量，监测所述被测对象的测试目标集的路径覆盖率，并在监测到所述测试目标集的路径覆盖率达到临界状态时，搜索并获取所述被测对象的测试目标集未被覆盖的路径；以及，模型计算模块，用于根据所述测试目标集未被覆盖的路径建立数学模型，对所述数学模型求解获得所述测试目标集未被覆盖的路径的测试向量。本发明提供一种简洁的测试向量集构建方案，能够提高测试目标集的覆盖率，且提高测试可靠性和测试效率。
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公开(公告)号：CN100366562C
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200510112206.4
申请日：2005-12-29
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明涉及一种玻璃基片表面自组装聚电解质-稀土纳米薄膜的制备方法，采用表面经过强氧化剂处理的玻璃基片作为基底材料，将基片重复交替浸入带正电的聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液和带负电的聚苯乙烯磺酸钠溶液中，在基片表面组装多层聚电解质薄膜，最后将表面附有带负电的聚电解质薄膜的基片置入由乙醇、稀土化合物、乙二胺四乙酸、氯化铵、尿素、硝酸配制的稀土自组装溶液中，获得聚电解质-稀土自组装纳米薄膜。本发明工艺方法简单，在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩、耐磨和抗粘着作用。
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公开(公告)号：CN100364911C
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200610024981.9
申请日：2006-03-23
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明涉及一种单晶硅片表面氨基硅烷-稀土纳米薄膜的制备方法，首先将表面经过纳米氧化铈抛光的单晶硅片浸泡在王水中，在120℃下加热5～6个小时，再用去离子水反复冲洗并干燥。将处理后的单晶硅片浸入配制好的氨基硅烷溶液中，静置12小时，取出后分别用无水甲醇、去离子水冲洗，用氮气吹干后再置于由乙醇65～80%，稀土化合物3.5～7%，乙二胺四乙酸1～4%，氯化铵2～5%，尿素10～25%，37%的浓盐酸0.5～1.5%配制的稀土自组装溶液中，获得氨基硅烷-稀土纳米薄膜。本发明工艺简单，成本低，对环境无污染，制得的稀土纳米薄膜分布均匀，成膜致密，具有明显的减摩作用和良好的抗磨损和抗粘着性能。
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公开(公告)号：CN1830859A
公开(公告)日：2006-09-13
申请号：CN200610024981.9
申请日：2006-03-23
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明涉及一种单晶硅片表面氨基硅烷－稀土纳米薄膜的制备方法，首先将表面经过纳米氧化铈抛光的单晶硅片浸泡在王水中，在120℃下加热5～6个小时，再用去离子水反复冲洗并干燥。将处理后的单晶硅片浸入配制好的氨基硅烷溶液中，静置12小时，取出后分别用无水甲醇、去离子水冲洗，用氮气吹干后再置于由乙醇65～80％，稀土化合物3.5～7％，乙二胺四乙酸1～4％，氯化铵2～5％，尿素10～25％，37％的浓盐酸0.5～1.5％配制的稀土自组装溶液中，获得氨基硅烷－稀土纳米薄膜。本发明工艺简单，成本低，对环境无污染，制得的稀土纳米薄膜分布均匀，成膜致密，具有明显的减摩作用和良好的抗磨损和抗粘着性能。
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