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公开(公告)号：CN118974209A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380030960.X
申请日：2023-03-31
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C09K23/30 , A23F3/16 , A23F5/24 , A23J3/14 , A61P37/08 , A61K9/107 , A61K36/48 , A23L9/20 , A23D7/00 , A23D7/005 , A61K38/02 , A23L11/60 , A23L11/65 , A23L5/00 , A23L23/00 , A23L29/10 , A61K8/06 , A61K8/64 , A61K8/9789
Abstract: 本发明的课题之一在于，提供即使冷冻保存也能够保持品质的乳化组合物。通过满足以下的条件(A)～(C)中的任意者，制成水分散液时一部分形成颗粒状态的蛋白质解决课题。(A)：凝胶过滤色谱的洗脱曲线中，在聚乙二醇换算的分子量66000以上的区域具有至少1个峰，(B)：用凝胶过滤色谱测定的聚乙二醇换算的重均分子量超过27000，(C)：用凝胶过滤色谱测定的聚乙二醇换算的数均分子量超过3500。
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公开(公告)号：CN118382656A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202380015091.3
申请日：2023-02-22
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C08G59/00 , B32B15/092 , B32B15/20 , B32B27/20 , B32B27/38 , C08K3/38 , C08L63/00 , H01L23/29 , H01L23/31 , H01L23/36 , H01L23/373
Abstract: 本发明旨在提供一种热固性树脂组合物，在通过加压压制将片密合至具有粗化面的被粘体的情况下，即使在低压力的压制时，也能够抑制在被粘体与该片之间产生的空隙的生成。一种热固性树脂组合物，其是含有环氧树脂作为主成分树脂、含有氮化硼凝集颗粒作为无机填料的热固性树脂组合物，其特征在于，上述树脂组合物中的上述氮化硼凝集颗粒的比例为40体积％以上50体积％以下，并且上述树脂组合物中的除氮化硼凝集颗粒以外的无机填料的比例为7体积％以下。
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公开(公告)号：CN118355074A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202380014923.X
申请日：2023-03-24
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C08L63/00 , B32B27/38 , C08K3/013 , C08K3/38 , C08K5/3415 , C08L61/34 , C08L101/02 , H05K1/03
Abstract: 根据本发明的热固性树脂组合物，能够形成具有导热性及耐热性的导热性片，此外，能够在片成形时没有问题地成膜，能够在固化时获得足够的粘接力，上述热固性树脂组合物含有热固性树脂、无机填料、以及重均分子量10000以上的聚合物，该热固性树脂组合物包含氮化硼凝聚粒子作为上述无机填料，且包含环氧化合物及苯并#imgabs0#嗪化合物作为上述热固性树脂，上述氮化硼凝聚粒子的含有质量相对于上述苯并#imgabs1#嗪化合物的含有质量之比(氮化硼凝聚粒子/苯并#imgabs2#嗪)为5以上且50以下。
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公开(公告)号：CN112771123B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201980063537.3
申请日：2019-10-07
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C08L101/00 , C08G59/20 , C08K3/013 , C08K3/38 , C08L63/00 , H01L23/373
Abstract: 一种树脂组合物，包含树脂及凝聚无机填料，并且该树脂组合物固化后的85℃、85％RH下的重量增加率为0.80％以下，除去无机填料的该树脂组合物的固化物在200℃下的储能模量为1.0×107Pa以上。本发明提供一种树脂组合物，其强度高，吸湿回流耐性优异，制成与金属板的层叠体时的热膨胀及收缩所伴随的界面剥离的问题得到减少。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106574038A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580041190.4
申请日：2015-07-23
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种热固性树脂组合物，其适合用于半导体装置的封装材料，特别是即使在功率器件的用途中，也不会产生弯曲和裂纹，且具有高可靠性热固性。为解决该课题，本发明提供一种包含热固性树脂和固化催化剂的热固性树脂组合物；该热固性树脂组合物的固化物在25℃下的储能模量为1.0×106Pa以上、1.0×1010Pa以下，且70～210℃的平均线膨胀率为100ppm/K以下。
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公开(公告)号：CN101921375B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201010224655.9
申请日：2006-04-25
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C08F290/06 , G03F7/027 , G02F1/1339 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/1339
Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化物以及使用该固化物的液晶显示装置，本发明所提供的固化性组合物用于液晶显示器等，其能形成受到外部压力时的变形量大(即可以吸收基板制作时的压合力不均)、即使在高压力下复原率也不明显降低(即复原率的压力依赖性少)的固化物。所述固化性组合物能形成在利用微小硬度计进行的负荷-去负荷试验中满足下述指标式的固化物；|H1-H2|/|P1-P2|≥0.35、|R1-R2|/|P1-P2|≤15，式中，H1、H2分别表示上截面积为40±5μm2、150±5μm2的间隔物的总变形量(μm)，P1、P2分别表示上截面积为40±5μm2、150±5μm2的间隔物上的压力(mN/μm2)，R1、R2分别表示上截面积为40±5μm2、150±5μm2的间隔物的弹性复原率(％)。
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公开(公告)号：CN101921375A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010224655.9
申请日：2006-04-25
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C08F290/06 , G03F7/027 , G02F1/1339 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/1339
Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化物以及使用该固化物的液晶显示装置，本发明所提供的固化性组合物用于液晶显示器等，其能形成受到外部压力时的变形量大(即可以吸收基板制作时的压合力不均)、即使在高压力下复原率也不明显降低(即复原率的压力依赖性少)的固化物。所述固化性组合物能形成在利用微小硬度计进行的负荷-去负荷试验中满足下述指标式的固化物；|H1-H2|/|P1-P2|≥0.35、|R1-R2|/|P1-P2|≤15，式中，H1、H2分别表示上截面积为40±5μm2、150±5μm2的间隔物的总变形量(μm)，P1、P2分别表示上截面积为40±5μm2、150±5μm2的间隔物上的压力(mN/μm2)，R1、R2分别表示上截面积为40±5μm2、150±5μm2的间隔物的弹性复原率(％)。
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公开(公告)号：CN101548203A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200880001016.7
申请日：2008-06-09
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/028
CPC classification number: G03F7/0007 , G02B5/223 , G02F1/133516 , G03F7/0388
Abstract: 本发明提供一种滤色器用感光性着色树脂组合物，该组合物即使在色料的浓度较高的情况下也具有优异的成像性，灵敏度和溶解性的平衡优异，并且像素边缘的锐化性和密合性优异。所述滤色器用感光性着色树脂组合物含有碱溶性树脂(A)、光聚合引发剂(B)及色料(C)，所述碱溶性树脂(A)是通过使上述通式(1－a)表示的环氧树脂(a)和含不饱和基团的羧酸(b)的反应产物进一步与多元酸和/或其酸酐(c)反应而得到的。碱溶性树脂(A)的重均分子量为3300～50000。通式(1－a)中，n表示平均值，为0～10的数。R41表示氢原子、卤原子、碳原子数为1～8的烷基、碳原子数为3～10的环烷基、苯基、萘基或联苯基。G表示缩水甘油基。
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公开(公告)号：CN101432660A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200780014840.1
申请日：2007-05-17
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: G03F7/031 , G03F7/004 , G03F7/26 , C08F2/50 , G02B5/20 , G02F1/1333 , G02F1/1335 , G02F1/1339
CPC classification number: G03F7/0007 , G02B5/201 , G03F7/027
Abstract: 本发明提供一种固化性组合物，特征在于，在将曝光部的残膜率[t(％)]相对于曝光量的对数[logE(mJ/cm2)]划曲线的残膜率－曝光量曲线中，将残膜率的60％和90％的点进行连接的下述式(1)的直线的γ值为45以上，t＝γlogE+δ…(1)，[这里，介由负掩膜图形形成图像时，残膜率t(％)如下表示。残膜率[t(％)]＝{(各曝光量下的图形高度)/(1000mJ/cm2曝光量下的图形高度)}×100]。
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