-
公开(公告)号：CN101630127A
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200910150246.6
申请日：2009-06-23
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42 , G02F1/1362 , G02F1/1368
Abstract: 本发明涉及可适于在液晶显示器的滤色器阵列(color filter on array，COA)制造工艺中使用的光刻胶剥离剂组合物，特别涉及包含1-40重量％的水溶性有机胺化合物、3-40重量％的水、余量的水溶性有机溶剂，从而在制造液晶显示器的滤色器阵列结构时，无滤色器膨胀现象，金属防腐效果及感光膜去除效果均很优秀的光刻胶剥离剂组合物。该组合物可适于在液晶显示器的滤色器阵列制造工艺中使用。
-
公开(公告)号：CN101042543A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710086623.5
申请日：2007-03-23
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具体而言，本发明包含：a)0.05重量份～10重量份的有机胺类化合物；b)0.05重量份～30重量份的有机溶剂；c)0.005重量份～5重量份的三唑类防腐剂；d)0.005重量份～5重量份的选自羟基苯酚类、没食子酸烷酯及还原剂类中的防腐剂；e)余量水。本发明的用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组合物，具有优异的清洗能力且能够防止金属膜层的腐蚀，并且可替代以往清洗工艺中所使用的甲醇、乙醇、异丙醇等引火性物质即醇类化合物，能够有效地清洗残留在基板上的脱膜剂等有机异物及灰尘等无机异物。
-
公开(公告)号：CN101030047B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200710086162.1
申请日：2007-03-05
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂剥离废液再生方法和再生装置，所述再生方法和再生装置特别适于经济性较好地对使用含有各种专门的胺化合物的剥离液的剥离工序时以及使用各种抗蚀剂和剥离液时所产生的抗蚀剂剥离废液进行再生。本发明的再生装置适用于该再生方法。本发明的抗蚀剂剥离废液的再生方法是对含有水、抗蚀剂、胺化合物、有机溶剂的抗蚀剂剥离废液进行再生的方法，该方法的特征在于，其含有：(a)添加酸的工序，所述酸与抗蚀剂剥离废液的胺化合物发生反应而使得胺化合物形成在有机溶剂蒸馏时不被蒸馏的胺-酸化合物；和(b)对上述(a)工序的反应产物进行分别蒸馏而仅获取有机溶剂的工序。
-
-
公开(公告)号：CN101373343A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：CN200810210852.8
申请日：2008-08-20
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种为了回收使用薄膜晶体管液晶显示器的滤色器形成工艺中产生的不良基板，而用于去除彩色光阻剂图案及涂层的彩色光阻剂剥离溶液组合物，具体涉及一种包含1－20重量％的选自无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有C1－C4烷基的烷基氢氧化铵或具有C1－C4烷基的苯烷基氢氧化铵中的氢氧化物；1－70重量％的选自具有C1－C4烷基的烷撑二醇醚或烷撑二醇中的至少一种化合物；0.5－10重量％的羟胺；0.5－50重量％的烷氧基烷基胺；以及余量水的彩色光阻剂剥离溶液组合物。本发明的组合物可以在短时间内去除彩色光阻剂和涂层，从而可以回收使用以往技术中由于难以去除彩色光阻剂图案而大部分被废弃的滤色器基板。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101140428A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200710145306.6
申请日：2007-09-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种光刻胶剥离剂组合物以及利用该组合物的光刻胶剥离及分解方法，具体说是涉及一种包含氨基甲酸酯化合物的光刻胶剥离剂组合物。而且，本发明还提供一种包含：a)环状内酯类化合物，及b)酰胺类化合物、氨基甲酸酯化合物或其混合物的光刻胶剥离剂组合物。本发明的光刻胶剥离剂组合物，在利用臭氧的工艺中可以选择性地分解去除光刻胶时所产生的光刻胶残留物，从而可极大地提高处理量，并且具有对金属布线或氧化膜的腐蚀防护效果。
-
公开(公告)号：CN101017334A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710000449.8
申请日：2007-02-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂处理液的再生方法及其装置。具体涉及一种从包含用于图形化电路或显示元件金属布线的抗蚀剂膜的基板上剥离抗蚀剂后，使从抗蚀剂剥离工序所排出的含抗蚀剂处理液接触多相光催化剂，从而剥离及分解抗蚀剂的方法及装置。该方法及装置不仅可以剥离残留在图形化金属膜上的抗蚀剂，还可以分解工艺过程中所产生的、并包含在处理液中的抗蚀剂成分，因此能够最大限度地减小在高温下因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度，而且能够将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。
-
公开(公告)号：CN104272193A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380024161.8
申请日：2013-04-18
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/42 , C11D3/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种聚合性液晶组合物，更具体地说，涉及一种用于光学膜时具有热稳定性和液晶相区间的温度范围宽的特性且经济有效的聚合性液晶组合物。本发明中，将核结构不具有连接基而是相互以单键连接或者具有以多环结构连接的一个以上的环结构的液晶化合物混合于聚合性介晶(mesogenic)化合物而构成聚合性液晶组合物，由此液晶材料之间的相容性优异、化学上稳定、在宽的温度范围内保持液晶相，且使用于液晶光学膜时能够制造出具有优异的取向性、耐化学稳定性质的光学膜，由于制造方法较简单，因此经济有效。
-
公开(公告)号：CN102161942A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110041801.9
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
49
records
(took 0.038 seconds)
