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公开(公告)号：CN214106268U
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202022423919.5
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
摘要： 本实用新型为一种具有吹扫气流通道的气体喷射器，包括一机台及一气体喷射头，机台上设有气流凹槽，其周围环设有复数晶圆承载凹槽。气体喷射头则位于气流凹槽上，气体喷射头中央设置有吹扫气流通道，且吹扫气流通道突出于气体喷射头底部，以喷出垂直气流至气流凹槽，令垂直气流撞击气流凹槽后转换为水平气流，使水平气流能喷射至周围晶圆承载凹槽内的晶圆的边角。本实用新型的吹扫气流通道具吹扫或清洁蚀刻的功能，且吹扫气流通道突出于气体喷射头底部，搭配机台的气流凹槽的内凹结构，能有效扫除晶圆边缘的粉尘及沉积物，提升产品制造合格率。
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公开(公告)号：CN221595512U
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202323410933.1
申请日：2023-12-14
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/687
摘要： 本实用新型公开了一种晶圆浸泡用可旋转浸泡卡夹，涉及晶圆浸泡设备技术领域，包括浸泡盒卡夹、调节架、第一连接片、第二连接片、旋转轴、支撑杆、直槽口。本实用新型中，气缸连接杆通过支撑杆推动第二连接片绕旋转轴转1/4圈；第一连接片随着第二连接片沿着旋转轴进行旋转，第一连接片带动浸泡盒卡夹由竖直状态转动90°为横置状态，晶圆由横置状态改为竖直状态；此状态下完成浸泡晶圆的工艺，并实现快速排液功能；浸泡完成卡夹90度脱离去胶液，晶圆竖直状态下药液受到重力影响快速滴落晶圆表面，可减少晶圆在浸泡槽完成浸泡的药液残留，减少真空报警，使真空快速建立提高了牙叉的取片效率，提高牙叉取片安全系数指数。
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公开(公告)号：CN220086015U
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202320466742.8
申请日：2023-03-13
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/67 , H01L21/683
摘要： 本实用新型公开了一种晶圆取放设备，具体涉及晶圆加工处理设备技术领域，包括底座，所述底座上设有浸泡设备，所述浸泡设备一侧设有取放设备，本实用新型通过取放设备和浸泡设备及卡固机构，能够通过浸泡设备对晶圆进行浸泡处理，再利用取放设备驱动真空丫杈和卡固机构将晶圆取出，避免影响晶圆的固定，该装置能适配不同尺寸产品使用，提高工作效率，使其不需要拆卸更换治具，降低人为操作风险，同时卡固相对真空吸附可靠性高，大大降低移动过程掉片的风险；通过真空丫杈上的真空吸孔可对晶圆吸附固定，起到辅助固定效果，晶圆上的水会通过排水槽排出，避免晶圆发生偏移，使其更稳固，同时避免了管道污染的风险。
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公开(公告)号：CN215887227U
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202023142188.3
申请日：2020-12-21
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/46 , C23C16/52 , C23C16/458
摘要： 一种化学气相沉积装置，包括一基板座、一主加热系统及一辅助加热系统。该主加热系统是用以将该基板座以及在该基板座上的基板的温度加热至一预设值。该辅助加热系统是用以将该基板的各个部位的温度从该预设值加热至各自的温度目标值。该辅助加热系统可以局部加热基板的各个部位，以使基板的各个部位的温度相同或不同。
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公开(公告)号：CN214327877U
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202022423997.5
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/54
摘要： 本实用新型为一种具有双套管的气体喷射器，包括一机台及一气体喷射头，机台上设有气流凹槽，其周围环设有复数晶圆承载凹槽。气体喷射头位于气流凹槽上，气体喷射头中央设置有突出于气体喷射头底部的吹扫气流通道，且吹扫气流通道内更设有至少一内套管，内套管内外可供流通不同种类的气体，通过这种分流的方式能避免吹扫气流通道内气体混合产生化学反应。本实用新型能有效隔离吹扫气流通道中不同的气体，以避免不同气体之间混合，影响到晶圆的制程，并扫除晶圆的粉尘及沉积物，提升产品制造合格率。
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公开(公告)号：CN214142529U
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202022911813.X
申请日：2020-12-07
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/458
摘要： 本实用新型为一种切换式转盘装置，其提供安装在气相沉积的反应腔室底部。切换式转盘装置包括一转盘以及一动力切换模块，衔接并驱动转盘。动力切换模块包括一转向驱动器、一持续运转驱动器，以及至少一切换传动器，切换传动器切换衔接转向驱动器与持续运转驱动器之间，切换传动器择一输出转向驱动器的转向动力，或持续运转驱动器的持续运转动力驱动转盘。本实用新型可切换转盘高速旋转或定向移动来调整晶圆停留的位置，令晶圆停留位置便于机械手臂撷取，令气相沉积的制程可完全自动化生产。
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公开(公告)号：CN214142526U
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202022786143.3
申请日：2020-11-26
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/18 , C23C16/455
摘要： 本创作为一种锥形气体喷头，提供安装面朝下型(Face Down)气相沉积的反应腔室中，且相邻于反应腔室内的基板，锥形气体喷头连接一管路总成，令锥形气体喷头可喷散管路总成供应的气体，以在设置在反应腔室中的基板上形成薄膜。锥形气体喷头包括多层排气单元，每一层排气单元分别连通管路总成上不同的管路，多层排气单元于一轴向上层叠设置，且多层排气单元的面积逐渐缩小：由靠近基板的第一端的排气单元至远离基板的第二一端的排气单元逐渐缩小，其设计可缩短最靠近基板的排气单元上排气孔与基板的距离，借此提升基板附近气体的流速及强度，改善粉尘飘散或残留在基板表面，造成的良率损失问题。
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公开(公告)号：CN213388891U
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202022421453.5
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/46 , C23C16/458 , C23C16/44
摘要： 本实用新型所提供的化学气相沉积反应腔，为一种面下型(Face Down)反应腔，能使基板(晶圆)以反应面朝下的方式与反应气体进行接触，让粉尘因为重力关往下沉降而不容易附着于基板的反应面，以改善因粉尘飘散而造成的良率损失问题。其次，而为了达到高产能力，本实用新型在化学气相沉积反应腔之中设置便于自动化生产作业的基板承载装置，以使基板的放置、收取更为便捷，进而达到高产量能力的效果。再者，基板承载装置还能导入气浮气体，以使基板悬浮与旋转，让基板的受热效果更为均匀与精确，进而改善基板成膜效果更不均的问题。
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公开(公告)号：CN213388890U
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202022418333.X
申请日：2020-10-27
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/52 , H01L21/673
摘要： 本实用新型气相沉积晶圆承载装置，包含至少一碟盘以及一大盘模块，碟盘中央设有一晶圆定位通孔、边缘设有一呈环状的衔接部；大盘模块具有碟盘槽以供碟盘定位，且该碟盘槽设有一环槽沟以供衔接部置入，环槽沟衔接一入气引道，入气引道相对于与环槽沟的衔接角度的切线方向分量大于径向方向分量，以引入气浮气体于环槽沟中施力于衔接部使碟盘悬浮及旋转，环槽沟衔接于一导出口，以供气浮气体排出，藉此使得晶圆的受热效果及成膜效果更为均匀。
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公开(公告)号：CN213388889U
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202022400021.6
申请日：2020-10-26
申请人： 苏州雨竹机电有限公司
IPC分类号： C23C16/455
摘要： 本实用新型提供一种气相沉积气体喷头，气相沉积气体喷头包含一管路总成以及一喷嘴，喷嘴衔接于管路总成以对外喷散管路总成所供应的气体，此气体包含有机金属气体及载气，喷嘴具有至少一个气栅，气栅具有复数个矩形气孔；实施时，矩形气孔的最佳宽度为2毫米(mm)、最佳高度为2.5mm，借此以使喷嘴能将气体均匀稳定的喷出，并避免矩形气孔遭到阻塞而影响气体流量。
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