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公开(公告)号：CN100580544C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200710039276.0
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种新型衍射投影屏，包括屏幕主体及覆盖于屏幕主体表面的防护层，其特征在于：所述屏幕主体由透明或半透明材料构成，其上分布全息像素单元，单元的点阵结构是基于散斑的像面全息。通过激光分束及毛玻璃成像，以及利用压印技术，可以获得本发明的投影屏。本发明获得的投影屏实现了全息投影，不受环境光干扰、高亮度、高清晰；并突破了传统投影光学理念，创造性地将全息光学投影引入投影屏幕制造领域。
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公开(公告)号：CN101520522A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200910030836.5
申请日：2009-04-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B3/00 , G02F1/1335 , G02B1/04
Abstract: 本发明公开了一种一体化增亮扩散片，包括一本体，本体上相对设置有入光面和出光面，其特征在于：所述入光面内设有由复数个低深宽比微透镜构成的微透镜阵列，其深宽比在0.01～0.1之间；所述出光面内设有由复数个高深宽比微透镜构成的微透镜阵列，其深宽比大于0.25；所述低深宽比微透镜阵列与所述高深宽比微透镜阵列的填充系数不小于60％。本发明将低深宽比微透镜阵列和高深宽比微透镜阵列分别设置于本体的入光面、出光面内，通过两者的有机结合，可有效提高增益率和光能利用率，实现兼具扩散增亮复合功能的整合光学膜片，由此降低背光模组的生产成本，减小其成品厚度，简化制作程序。
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公开(公告)号：CN101510565A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910030083.8
申请日：2009-04-01
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H01L31/0216 , H01L31/0232 , H01L31/0236
CPC classification number: Y02E10/50
Abstract: 本发明公开了一种太阳能电池增效膜，其特征在于：所述太阳能电池增效膜由一透明薄膜构成，所述透明薄膜上表面分布有聚光微透镜结构。微透镜阵列能将平行的太阳光聚焦到太阳能电池表面的感光区，提高感光区表面的光子密度，对于相同的输出功率，相当于减小了感光区的面积，可有效提高转换效率和降低生产成本；通过微透镜阵列的折反射作用，能将太阳能电池表面反射的光反射到感光区，提高光线利用率；太阳能电池表面的温度没有明显变化，不会降低太阳能电池的填充因数和使用寿命。
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公开(公告)号：CN100474101C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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公开(公告)号：CN101377555A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810156773.3
申请日：2008-09-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层，在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用，又可以起到保护金属层的作用，防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏；在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101135776A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710153957.X
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置，采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源，激光束满足干涉要求，由分束元件产生分束光，通过光学透镜组将光点会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值，以形成干涉条纹刻蚀，通过扫描控制，实现衍射光变色图形的打标。所述的装置，采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头，形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应，提高图像的分辨率；获得衍射变色的激光打标图样。
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公开(公告)号：CN1821883A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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公开(公告)号：CN1786823A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510095777.1
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种消色差光变图像的制作方法，构建定向散斑生成器，以不同取向的狭缝光阑作为目标物光场，采用迭代傅里叶变换算法计算得到的具有定向衍射特性的二元位相结构，作为光变图像的微结构；根据所需生成的光变图像，用上述定向散斑生成器进行数字化表达，获得光变图像的散斑位相结构；通过空间光调制器，用激光成像系统进行激光直写，获得所需的消色差光变图像。本发明不需要利用干涉等方法来获取散斑，可以利用激光成像系统直写出散斑结构的光变图像，分辨率高，实现了消色差的精密光变图像设计与制作；同时，其适合于热压复制工艺，为制造消色差微光变图像提供了一种新方法。
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公开(公告)号：CN1096617C
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：CN99116873.9
申请日：1999-09-13
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种全息窄带带阻滤光片，玻璃基片[2]上涂敷有一层介质层，该介质层为带有反射。全息衍射层的重铬酸明胶层[1]，所述的重铬酸明胶层[1]上涂敷有环氧树脂层[3]，所述的环氧树脂层[3]上粘结固定有封片玻璃[4]，其特征在于：由重铬酸明胶层[1]制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按公式分布，按此分布规律制成的窄带带阻滤光片的半宽度在10nm以下，光密度可达6D以上。
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