公开(公告)号：CN101268017A

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200680034248.3

申请日：2006-09-18

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 吴明焕 ,  鲁埈硕 ,  金钟珌 ,  金长烈 ,  曹昇范

IPC: C01F17/00

CPC classification number: C01F17/005 ,  C01F17/0043 ,  C01P2002/72 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62

Abstract: 本发明公开了通过将铈前驱体溶液与碳酸盐前驱体溶液混合以产生沉淀而制备碳酸铈粉末的方法，其中用于铈前驱体溶液和碳酸盐前驱体溶液的至少一种溶剂为有机溶剂。本发明还公开了由所述方法制得的碳酸铈粉末、由所述碳酸铈粉末制得的氧化铈粉末、制备所述氧化铈粉末的方法以及包含所述氧化铈粉末的CMP浆料。使用有机溶剂制备碳酸铈的方法使生成的碳酸铈粉末具有可由初始成核步骤控制的尺寸和形状。此外，可容易地控制由碳酸铈粉末制得的氧化铈粉末的尺寸和形状。

公开(公告)号：CN1989075A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200580025025.6

申请日：2005-07-28

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 卢埈硕 ,  金长烈 ,  吴明焕 ,  金钟珌 ,  曹昇范

IPC: C01F17/00

CPC classification number: C01F17/0043 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/32 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明涉及氧化铈粉末及其制备方法。通过混合如氧化铈、氢氧化铈和碳酸铈的铈源和作为熔剂的碱金属化合物、并进行高温处理制备的本发明的氧化铈粉末可具有多种粒度同时具有球形。

公开(公告)号：CN101039876B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200680001015.3

申请日：2006-10-12

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 吴明焕 ,  鲁埈硕 ,  金长烈 ,  金钟泌 ,  曹昇范 ,  高敏镇

IPC: C01F17/00

CPC classification number: C01F17/0043 ,  B82Y30/00 ,  C01P2002/60 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/17 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明涉及用于CMP浆料的二氧化铈粉末的制备方法以及使用该粉末制备CMP浆料的方法，更具体而言，涉及用于CMP浆料的二氧化铈粉末的制备方法以及使用该粉末制备CMP浆料的方法，其中通过制备铈前体，然后分解和煅烧制得的铈前体，而增大所述粉末的比表面积。控制孔分布以增大在抛光膜与抛光材料之间的化学接触面积，从而减少抛光时间同时降低粉末的物理强度，这就显著减少了在抛光膜上的刮痕。

公开(公告)号：CN101541912A

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200780043118.0

申请日：2007-11-20

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 鲁埈硕 ,  吴明焕 ,  曹昇范 ,  金种珌 ,  金长烈

IPC: C09K3/14 ,  C01F17/00

CPC classification number: C09G1/02 ,  B82Y30/00 ,  C01F17/0043 ,  C01P2002/72 ,  C01P2002/76 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C09K3/1409 ,  H01L21/31053 ,  Y10T428/2982

Abstract: 本发明公开了一种在溶液相中直接制备二氧化铈粉末的方法，该方法通过a)将铈前体溶液与沉淀剂溶液混合而使反应发生；以及b)对反应的溶液进行氧化处理，其中，将至少一种不含水的纯有机溶剂用作用于铈前体溶液以及沉淀剂溶液的溶剂，从而来制备二氧化铈粉末，该粉末的粒度调节为50nm至3μm。本发明还公开了由该方法制得的二氧化铈粉末和包含该二氧化铈粉末作为抛光剂的CMP浆料。该方法通过在湿法沉淀法中采用有机溶剂作为溶剂可以制备具有50nm以上的平均粒度和高结晶度的二氧化铈粉末，而通过常规的湿法沉淀法则难以制备这样的粉末，并且即使没有经过单独的热处理也可将这样制备的二氧化铈粉末用作用于CMP浆料的抛光剂。

公开(公告)号：CN101304947A

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：CN200680042218.7

申请日：2006-11-10

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 吴明焕 ,  鲁埈硕 ,  金种珌 ,  金长烈 ,  曹昇范

IPC: C01F17/00

CPC classification number: C01F17/005 ,  B82Y30/00 ,  C01F17/0043 ,  C01P2002/60 ,  C01P2002/76 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明公开了一种通过将铈前驱体溶液与碳酸盐前驱体溶液混合并使该混合溶液进行沉淀反应来制备碳酸铈粉末的方法，其中，铈在所述铈前驱体溶液中的浓度为1M～10M，所述铈前驱体与碳酸盐前驱体的摩尔浓度比为1∶1～1∶7，并且所述铈前驱体溶液含有选自由碳酸盐化合物、丙烯酸化合物和含硫酸根离子的化合物组成的组中的至少一种添加剂。根据公开的发明，通过控制铈前驱体溶液的浓度、铈前驱体与碳酸盐前驱体溶液的摩尔浓度比、添加剂的种类等，可以由液相法制备具有0.05～1μm均一粒度的碳酸铈粉末。同样地，即使具有正交晶体结构，该碳酸铈粉末也能具有长宽比为1～5的均一形状。

公开(公告)号：CN101006153A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200680000046.7

申请日：2006-01-24

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 鲁埈硕 ,  吴明焕 ,  金长烈 ,  金钟泌 ,  曹升范

IPC: C09K3/14

CPC classification number: B82Y30/00 ,  C01F17/0043 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/04 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明公开了一种用于选择性抛光各种SiO2膜和SiO2－Si3N4膜的氧化铈研磨剂；以及包含该研磨剂的浆料。由于采用具有六方晶体结构的六方碳酸铈作为铈的原料合成具有5nm或更小平均晶体粒度的多晶氧化铈，所以本发明的氧化铈研磨剂和抛光浆料具有高抛光速度，并且在抛光时抛光表面也无微痕。