公开(公告)号：CN116982004A

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202280016891.2

申请日：2022-04-06

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 松本朋之 ,  松本龙 ,  伊藤淳史

IPC: G03F7/038

Abstract: 本发明的课题为提供一种感光性组合物，其即便于在将涂膜曝光后、下一工序之前需要时间的情况下，也可不产生涂膜的硬化不良地制造具有精密的形状的图案。本发明的感光性组合物为含有聚合物(A)、聚合性化合物(B)、光酸产生剂(C)及溶剂(D)的感光性组合物，所述聚合性化合物(B)包含具有两个以上的下述式(1)所表示的基的环氧化合物(B‑1)及所述环氧化合物(B‑1)以外的特定的环氧化合物(B‑2)，所述聚合性化合物(B)的合计100质量％中，包含与脂环式基缩环的环氧基的环氧化合物为50质量％以上。‑L‑Ep…(1)

公开(公告)号：CN112534352A

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN201980051416.7

申请日：2019-07-01

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 谷口拓弘 ,  西口直希 ,  松本朋之 ,  榊原宏和 ,  广昭人 ,  秋丸尚徳

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供一种形成作为镀覆处理的掩模而有用的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用了所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用了通过所述形成方法所形成的抗蚀剂图案的镀覆成形物的制造方法、以及具有所述镀覆成形物的半导体装置，感光性树脂组合物含有：聚合体(A)，具有下述式(a1)所示的结构单元(a1)、下述式(a2)所示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所示的结构单元(a3)；以及光酸产生剂(B)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。