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公开(公告)号:CN110315439A
公开(公告)日:2019-10-11
申请号:CN201910717088.1
申请日:2019-08-05
Applicant: 衢州学院
IPC: B24D3/10 , B24D3/34 , B24D18/00 , B22F9/04 , B22F3/04 , B22F3/10 , C22C9/00 , C22C26/00 , C22C32/00
Abstract: 本发明公开了一种具有毛细微孔的镜面磨削砂轮及其制备方法,属于精密加工研磨抛光领域。本发明通过PVB+醇溶性树脂液浇注制作镜面磨削砂轮,避免了粉末成型分散不均匀的问题。首先利用PVB胶水固化后强度高的特点,形成素坯,烧结后醇溶性树脂固化,PVB碳化,醇溶性树脂烧结固化温度也是PVB碳化温度,PVB碳化后产生大量毛细微孔,相比直接粉末成型添加造孔剂产生的孔为闭孔,本方法在镜面磨削砂轮中产生的毛细微孔是贯通微孔,对水的吸收能力强,添加了具有耐水涂层的可溶氮化铝,镜面磨削砂轮表层氮化铝颗粒耐水涂层磨去后,氮化铝水解,强度下降,具有表层自修锐的作用,而镜面磨削砂轮内部氮化铝耐水涂层保护,保证镜面磨削砂轮内部强度稳定。
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公开(公告)号:CN107511770B
公开(公告)日:2019-08-16
申请号:CN201710909566.X
申请日:2017-09-29
Applicant: 衢州学院
IPC: B24D18/00
Abstract: 本发明公开了一种高温亚熔融自粘连磨粒磨具制备方法,将去离子水和DMSO混合,再将PVA均匀地分散在混合液中,震荡,95℃水浴溶解,搅拌直至完全转变为透明无杂质的溶液;然后在溶液中加入磨料,同时加入硅烷偶联剂,搅拌均匀;将浆料在真空烘箱中脱泡,倒入模具中,冰柜中‑20~‑25℃凝胶成型;在室温或加热条件下解冻,解冻后脱水;在干燥箱中160~200℃热分解;将磨具放置在高温炉中1200~1500℃烧结;最后在磨床上表面磨平,得到一种高温亚熔融自粘连磨粒磨具。该磨具坯体通过PVA粘连成型,热分解去除PVA结合剂,形成微细孔隙,最后通过高温烧结,使磨粒达到不完全热熔状态,磨粒间的接触点熔融在一起,达到磨粒自粘连的效果,具有磨粒固含量高,磨削效率高的优点。
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公开(公告)号:CN106956222A
公开(公告)日:2017-07-18
申请号:CN201710160222.3
申请日:2017-03-17
Applicant: 衢州学院
CPC classification number: B24D3/26 , B24D3/344 , B24D18/0009
Abstract: 本发明涉及的是一种采用橡胶结合剂的多孔海绵复合金刚石研磨丸片及其制备方法,所述多孔海绵复合金刚石研磨丸片是含有连续气孔的橡胶弹性复合配合物与复合颗粒结合为一体具有海绵状细小连续气孔组织的丸片。将金刚石磨料,添加剂,气孔生成剂,树脂粘结剂混合,然后在熔融温度下进行烧结炉内熔烧,制成复合磨粒,把这种复合磨粒和橡胶,硫化剂,硫化助剂混合,加入到炼胶机中混炼,混料压制为丸片,最后硫化后成型,冷却后得到。优点:因为有了连续细小气孔,因此磨削时不易堵塞,因而磨削效率高;而且磨具丸片成型时,上述复合磨粒的气孔内进入橡胶弹性混合物经硫化相互合成一体,在使用中使之磨粒脱落飞溅现象大为减少。
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公开(公告)号:CN106956212A
公开(公告)日:2017-07-18
申请号:CN201710160779.7
申请日:2017-03-17
Applicant: 衢州学院
IPC: B24B37/10 , B24B37/04 , B24B37/005 , B24B37/015 , B24D18/00 , C09G1/02
CPC classification number: B24B37/107 , B24B37/0056 , B24B37/015 , B24B37/044 , B24D18/0009 , C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法,其特征包括:(1)制备陶瓷抛光盘,(2)配置碱性抛光液,(3)将氮化铝晶片用石蜡粘结在氧化铝基板上,放置于所制备的抛光盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用铁氰化钾作为强氧化剂,使氮化铝的表面被氧化形成氧化膜,再利用陶瓷抛光盘对其表面进行磨削,去除表面氧化层,从而达到抛光的作用。本方法中的陶瓷抛光盘耐腐蚀,硬度高,韧性强,磨削效率高,抛光速率快。采用碱性抛光液,能有效避免加工设备腐蚀,使得加工性能稳定,同时保证得到的氮化铝表面光洁度高,损伤低。
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公开(公告)号:CN106737256A
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201710160791.8
申请日:2017-03-17
Applicant: 衢州学院
IPC: B24D18/00
CPC classification number: B24D18/0009
Abstract: 本发明涉及一种树脂磨具的制备方法,具体涉及一种采用湿混法的纳米金刚石磨具丸片制备方法,属于精密研磨抛光领域。以纳米金刚石粉为磨料,以树脂作结合剂,以可挥发液体作为分散介质,经压制成型及固化处理使其成为具有一定形状的研磨及抛光丸片。具体实施方法是先制备纳米金刚石分散液;再将填料和湿润剂混合,湿润后的填料和树脂结合剂混合在可挥发性液体中,得到树脂混合液;然后将纳米金刚石分散液缓慢加入到树脂混合液中,得到混合浆料;最后混合浆料干燥,粉化,过筛,压制,高温烧结,得到研磨丸片。优点:由于在液体中进行混合,磨具中各组分分散均匀,适合于微细磨具丸片的制作,可以提高对光学元件加工的表面质量。
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公开(公告)号:CN105945740A
公开(公告)日:2016-09-21
申请号:CN201610325721.9
申请日:2016-05-16
Applicant: 衢州学院
CPC classification number: B24D11/00 , B24D11/001 , B24D11/02 , B24D11/08
Abstract: 本发明涉及一种具有蜂窝状贝纳特花纹效果的抛光薄膜及其制备方法。制备过程包括如下步骤:1)将有机硅树脂与有机硅橡胶混合,再加入硅烷偶联剂,防静电剂,聚有机硅氧烷制备树脂混合液;2)将硅溶胶IPA‑ST和MA‑ST‑M混合得到混合硅溶胶;3)制备的硅溶胶加入步骤1)中的树脂混合液中,超声分散,得到涂布液;4)对PET薄膜表面进行预处理;5)在涂布机上用2~8微米涂布辊棒将树脂混合液预涂布在基底上,干燥后将涂布液涂敷在预涂布的薄膜基底上,涂覆后选用干式恒温仪干燥处理,热风干燥,裁剪得到抛光薄膜。该方法制备所得的蜂窝状贝纳特花纹抛光薄膜容屑能力好,工件抛光质量高,表面附着物极少且不会产生刮痕的特点。
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公开(公告)号:CN106956201B
公开(公告)日:2023-07-28
申请号:CN201710161486.0
申请日:2017-03-17
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明公开了一种研磨抛光机及其方法。其包括底部研磨机构和顶部加压机构两部分,研磨机构由机架、电机、联轴器、固定支架、运动工作台、凸轮机构、研磨盘、悬臂梁、第一连杆、第三连杆、第二连杆构成;加压机构由施压顶针、固定卡针、旋转砝码架、砝码转动杆、螺旋砝码、夹具组成。该研磨抛光机独特研磨连杆构件的设计使得加工轨迹可以通过凸轮机构的变化而改变,加压方式为两侧加压,避免了压力集中,在整个加工过程中更趋于平稳状态具有结构简单、稳定性好、加工精度高的特点。
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公开(公告)号:CN106863109B
公开(公告)日:2023-02-03
申请号:CN201710161479.0
申请日:2017-03-17
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明公开了一种工件夹具往复直线运动的平面研磨抛光机及其方法,包括机座机构、加压机构和研磨机构;加压机构由夹具高度调节器、气动压紧装置和随行夹具组成;研磨机构包括滑轨、偏心距调节器、摇杆机构、主动转轮、主动转轮驱动电机、研磨盘、研磨盘驱动电机、推杆、滑块和连接杆;本平面研磨抛光机可以实现通过偏心距调节器控制研磨盘运动的距离;通过传动系统来控制工件夹具的水平运动;通过研磨头高度调节器控制工件夹具的竖直方向升降;通过气动压紧装置将待抛光物压在研磨盘表面从而实现对不同材料的表面进行自动研磨抛光,研磨抛光效果好,加工质量高。
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公开(公告)号:CN112229576A
公开(公告)日:2021-01-15
申请号:CN202011072969.1
申请日:2020-10-09
Applicant: 衢州学院
IPC: G01M3/10
Abstract: 本发明涉及气密检测技术领域,尤其涉及一种用于碳化硅微通道反应器气密检测装置。本发明要解决的技术问题是现有装置的固定方式单一以及固定效果不好。为了解决上述技术问题,本发明提供了一种用于碳化硅微通道反应器气密检测装置,本发明由主箱、隔板、下压机构、支撑机构和充气机构组成,通过设置支撑机构,能够适用于不同直径和不同形状的管道,并且轮轴两端的旋钮都可以进行拧动调节,方便操作;本发明通过设置下压机构,利用支撑弹簧的弹力,使上压板能够配合下压板将管道固定住,防止管道偏移;本发明通过设置充气机构,利用减振垫、减振弹簧和挤压弹簧,能够有效减少打气泵在工作时所产生的振动,减小噪音,提高稳定性。
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公开(公告)号:CN110405543B
公开(公告)日:2020-08-04
申请号:CN201910717105.1
申请日:2019-08-05
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明公开了一种采用酸性抛光液和金属基抛光盘的铁氧体基片抛光方法,其特征包括:溶胶凝胶法制备非晶态合金基体抛光盘;配制油包水酸性硅溶胶抛光液;将铁氧体基片粘结在陶瓷基盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用酸性抛光液作为腐蚀剂,使铁氧体基片表面被氧化形成变质层,再利用硅溶胶和非晶态合金基体抛光盘对其表面进行抛光,去除表面变质层,从而达到抛光的作用。非晶态合金基体具有组织结构细腻,韧性高,耐腐蚀,对磨粒把持力强的特点。低表面张力油性溶剂与酸性硅溶胶混合制备油包水酸性硅溶胶抛光液,保证抛光液液膜厚度一致性以及实现表面材料的微量腐蚀。本抛光方法具有产品面型精度好,无塌边的特点。
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