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公开(公告)号：CN103363713A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310104857.3
申请日：2013-03-28
Applicant: 荏原冷热系统株式会社
IPC: F25B15/00
CPC classification number: Y02A30/277 , Y02B30/62
Abstract: 本发明提供吸收式热泵，容易进行吸收器的检查。吸收式热泵（1）具备：具有在内部利用溶液（Sa）吸收制冷剂蒸汽（Ve）的吸收器罐体（17）的吸收器（10）；具有在内部使制冷剂（V）从溶液（Sw）脱离的再生器罐体（37）的再生器（30）；具有在内部使制冷剂蒸汽（Vg）凝结的冷凝器罐体（47）的冷凝器（40）；以及具有在内部生成制冷剂蒸汽（Ve）的蒸发器罐体（27）的蒸发器（20），吸收器罐体（17）与再生器罐体（37）、冷凝器罐体（47）、以及蒸发器罐体（27）分离而单独地构成，并且设置成接近构造物的安装面。而且，能够容易接近检查的频率比较高的吸收器罐体（17），并且能够仅更换吸收器罐体（17）。
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公开(公告)号：CN107270585B
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201610210235.2
申请日：2016-04-06
Applicant: 荏原冷热系统株式会社 , 荏原冷热系统(中国)有限公司
Abstract: 本发明提供吸收式热泵，抑制向被加热介质的蒸气的供给对象带出被加热介质的液滴。吸收式热泵具备吸收器、气液分离器、将气液分离器内的被加热介质的液导向吸收器的被加热介质液导入流路、将气液分离器、被加热介质液导入流路以及吸收器的至少一个的内部的被加热介质的液向吸收式热泵外放出的排出阀、检测气液分离器内的液位的液位检测器、供给被加热介质的液的被加热介质液供给装置、控制被加热介质液供给装置的起动及停止以及排出阀的开闭的控制装置。在液位检测器检测到高液位的时间持续第1规定的时间时，控制装置打开排出阀直至液位检测器检测到的液位下降至低于高液位为止。
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公开(公告)号：CN106969527A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201611102120.8
申请日：2016-12-05
Applicant: 荏原冷热系统株式会社
Abstract: 本发明提供吸收式热泵，能够实现存积被加热介质的液体的部分的液位的稳定化。吸收式热泵(1)具备：吸收器(10)；蒸发器(20)；再生器(30)；冷凝器(40)；被加热介质气液分离部(80)，导入在吸收器(10)中加热后的被加热介质(Wm)并分离为被加热介质的蒸气(Wv)和液体(Wq)；蒸气产生流量掌握部(62)，掌握被加热介质的蒸气的产生流量；被加热介质液体供给装置(86)，向吸收器供给被加热介质的液体(Ws)；以及供给控制部(64)，控制被加热介质供给装置(86)以便将与由蒸气产生流量掌握部掌握的被加热介质的蒸气(Wv)的产生流量相应的流量的被加热介质的液体(Ws)向吸收器(10)供给。
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公开(公告)号：CN107677016B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201710556492.6
申请日：2017-07-10
Applicant: 荏原冷热系统株式会社
IPC: F25B41/40
Abstract: 本发明提供的经济器，具有较高的气液分离性能并且能够通过大幅度地减少气液分离所需的空间而实现外形尺寸的小型化。该经济器具备：容器；挡板，其在容器内配置于与制冷剂入口对置的位置，供从制冷剂入口流入到容器内的气液二相状态的制冷剂碰撞来进行气液分离；除雾器，其在容器内配置于与气体制冷剂出口对置的位置，将气液分离后的气体制冷剂所包含的液滴去除，挡板由在制冷剂入口与除雾器之间的位置沿铅直方向延伸并将制冷剂入口侧与除雾器侧分隔的分隔板构成，在该分隔板的下端与容器的底部之间设置有第一开口，用于将气液分离后的气体制冷剂与液体制冷剂向除雾器下方的空间引导。
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公开(公告)号：CN104006566B
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201410059254.0
申请日：2014-02-21
Applicant: 荏原冷热系统株式会社
CPC classification number: Y02A30/277 , Y02B30/62
Abstract: 本发明涉及吸热泵以及吸热泵的运转方法，能够在抑制装置大型化的同时实现恰当的运转。吸热泵（1）具备：吸收器（10），利用溶液（Sa）吸收制冷剂蒸汽（Ve）时产生的吸收热对被加热介质（Wq）进行加热来产生被加热介质蒸汽（Wv）；被加热介质蒸汽产生流量调节装置（29），调节吸收器（10）中的被加热介质蒸汽（Wv）的产生流量；被加热介质蒸汽流量检测部（39、49、58、92），检测在吸收器（10）中产生的被加热介质蒸汽（Wv）的流量；以及控制部（91）。控制部（91）调节被加热介质蒸汽（Wv）的产生流量以使被加热介质蒸汽（Wv）的流量不超过规定值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103363714B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201310104864.3
申请日：2013-03-28
Applicant: 荏原冷热系统株式会社
CPC classification number: Y02A30/277 , Y02B30/62
Abstract: 提供简化装置结构的吸收式热泵以及吸收式热泵的运转方法。吸收式热泵（1）具备：具有供对在蒸发器罐体（27）内收容的制冷剂液体（Vf）进行加热的加热介质（h）流动的传热管（21）的蒸发器（20）；和将蒸发器罐体内的制冷剂液体的液位维持在传热管的一部分在允许范围内露出的高度以上的规定液位亦即低位（VL）以上、且比传热管的上端靠上方规定距离的位置亦即高位（VH）以下的液位维持单元（24、46）。吸收式热泵的运转方法是，向传热管的内部流动加热介质，并将没入有传热管的制冷剂液体的液位维持在低位以上高位以下。而且，不设置向传热管喷洒制冷剂液体的喷洒喷嘴即可，从而能够简化装置结构，并且能够实现装置的小型化。
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公开(公告)号：CN102287951B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201110163937.7
申请日：2011-06-17
Applicant: 荏原冷热系统株式会社
IPC: F25B15/00
CPC classification number: Y02A30/277 , Y02B30/62
Abstract: 一种吸收热泵，使被加热流体流量不产生较大偏差并且抑制传热管有效面积比例减少。吸收热泵(100A)具备对被加热流体液(103)加热而产生被加热流体气体的吸收器(A1)，吸收器(A1)具有：传热管组(12)，由水平配置、外侧被散布吸收液而内侧流动所述被加热流体液的多个传热管构成；和被加热流体室(121)，对传热管组(12)的被加热流体液供给侧供给所述被加热流体液；被加热流体室(121)具备：间隔件(122)，将传热管组(12)在上下方向上分割成分别为均匀根数的分割传热管组(12a、12b)；和供给口(131a-1、131b-1)，对各分割传热管组(12a、12b)均匀地供给所述被加热流体液。
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公开(公告)号：CN102287951A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201110163937.7
申请日：2011-06-17
Applicant: 荏原冷热系统株式会社
IPC: F25B15/00
CPC classification number: Y02A30/277 , Y02B30/62
Abstract: 一种吸收热泵，使被加热流体流量不产生较大偏差并且抑制传热管有效面积比例减少。吸收热泵(100A)具备对被加热流体液(103)加热而产生被加热流体气体的吸收器(A1)，吸收器(A1)具有：传热管组(12)，由水平配置、外侧被散布吸收液而内侧流动所述被加热流体液的多个传热管构成；和被加热流体室(121)，对传热管组(12)的被加热流体液供给侧供给所述被加热流体液；被加热流体室(121)具备：间隔件(122)，将传热管组(12)在上下方向上分割成分别为均匀根数的分割传热管组(12a、12b)；和供给口(131a-1、131b-1)，对各分割传热管组(12a、12b)均匀地供给所述被加热流体液。
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公开(公告)号：CN115394683A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202210554340.3
申请日：2022-05-19
Applicant: 株式会社荏原制作所 , 荏原冷热系统株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够促进辅助区内的设备之间的热利用的协作并且消除设备导入时的配管连接的繁琐性的辅助区设置装置。辅助区设置装置(5)具备：真空泵(6)，其用于从处理腔室(2)排出处理气体；冷却单元(7)，其用于对在处理腔室(2)中使用了的第1循环液进行冷却；加热单元(8)，其用于对在处理腔室(2)中使用了的第2循环液进行加热；和冷却液管线(12)，其供从冷却源(15)供给的冷却液流动。冷却液管线(12)具有将冷却液分别向真空泵(6)及冷却单元(7)供给的分配管线(21)、和将从真空泵(6)及冷却单元(7)通过了的冷却液合流并使其向冷却源(15)返回的合流返回管线(22)。
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公开(公告)号：CN115388603A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202210553685.7
申请日：2022-05-19
Applicant: 株式会社荏原制作所 , 荏原冷热系统株式会社
Abstract: 本发明提供能够减少在制造半导体时使用的电能消耗的辅助区设置装置。辅助区设置装置具备：真空泵(6)，其用于从半导体制造装置的处理腔室(2)对处理气体进行排气；冷却单元(7)，其用于冷却在处理腔室(2)中使用后的第1循环液；加热单元(8)，其用于加热在处理腔室(2)中使用后的第2循环液；除害装置(10)，其用于对从真空泵(6)排出的处理气体进行除害；以及冷却液管线(12)，其供从冷却源(15)供给的冷却液流动。冷却液管线(12)具有将通过除害装置(10)、真空泵(6)及冷却单元(7)后的冷却液向加热单元(8)供给的第1下游侧管线(26)、第2下游侧管线(27)及第3下游侧管线(28)。
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