衍射光波导、显示模组及其制备方法

    公开(公告)号:CN118818765A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202310413830.6

    申请日:2023-04-18

    Abstract: 本发明公开了一种衍射光波导、显示模组及其制备方法,衍射光波导包括顺次设置的耦入区域和耦出区域;耦入区域和耦出区域均被配置为具备光线衍射功能的微纳结构;耦出区域包括N个相邻设置的分区,每个分区内的微纳结构设计参数不同,每个分区的耦出效率和向下传导率不同,保证每个分区的耦出传导效率不低于初始耦出效率与初始耦出效率阈值ε的积,从而保证光线耦出亮度的一致性。本发明显示模组包括衍射光波导和光机模组,光机模组采用横置设计,能满足大出瞳设计要求,设计形态贴合衍射光波导,实现超紧凑模组集成。本发明还公开了衍射光波导的制备方法,使得制备的衍射光波导的光线耦出亮度一致性高。

    导光板及背光模组
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110275240B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN201810215515.1

    申请日:2018-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种导光板及背光模组,包括侧面、底面、与所述底面相对的顶面以及形成在所述底面上的多个凹陷网点,所述侧面为入光面,所述顶面为出光面,每个凹陷网点为从所述底面朝向所述顶面凹陷形成的C型凹槽、环形凹槽或球形凹坑,每个凹陷网点具有靠近光源的前端和远离光源的后端,每个凹陷网点的凹陷深度从所述前端至所述后端的方向上逐渐增加。

    偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置

    公开(公告)号:CN117826303A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202211181334.4

    申请日:2022-09-27

    Abstract: 本发明涉及一种偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置。偏振薄膜包括:透明基底;光栅层,位于透明基底上,光栅层包括沿平行于透明基底表面的方向周期性间隔设置的介质光栅和金属层,介质光栅和金属层的厚度相同;以及保护层,覆盖光栅层。本发明提供了一种新型结构的偏振薄膜,通过对光栅层和保护层的结构进行上述优化设计,能够兼顾低吸收损耗、高消光比和广入射角度的光学性能,有利于广泛应用。此外,本发明还涉及一种上述偏振薄膜的制作方法以及包括上述偏振薄膜的光波导镜片及显示装置。

    一种用于偏振干涉光刻的光路结构及偏振干涉光刻系统

    公开(公告)号:CN117666292A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202211462987.X

    申请日:2022-11-22

    Abstract: 本发明提供一种用于偏振干涉光刻的光路结构与偏振干涉光刻系统,所述光路结构包括串接在光路上的光源模块、偏振组件、分光组件、成像组件;所述光源模块用于产生具有相干特性的线偏振光束;所述分光组件用于将射入的光线分出两束光线且射向所述成像组件,两束光线的夹角可变且可绕入射光线光轴旋转,所述成像组件用于将两束光线汇聚在光刻基片表面;所述分光组件配合所述偏振组件用于将线偏振光进行光学调制,使光束到达光刻基片时为两束偏振方向相反的圆偏振光,进而形成偏振干涉光场。本发明建立偏振干涉光刻系统,通过控制分光组件和偏振组件,能调节光场中偏振结构的周期、取向等参量,与偏振感光材料进行光化学作用,形成特定的偏振图形分布,偏振光刻系统根据预定义的偏振图形设计文件,控制上述偏振光场参量与基片的坐标走位,进行光场拼接光刻,在光刻基片上形成预期的偏振图形分布。

    一种全偏振感知器件
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117387765A

    公开(公告)日:2024-01-12

    申请号:CN202210783208.X

    申请日:2022-07-05

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种全偏振感知器件,包括传感器,在所述传感器表面覆盖有相位延迟层和偏振检测层,所述传感器设置有多个区域,所述多个区域具有与所述相位延迟层和偏振检测层一一对应结合的多个像素,所述传感器不同区域的像素用于采集不同角度线偏振和不同旋性圆偏振信息,以实现全偏振感知;所述传感器为CCD或COMS传感器。其中相位延迟层和图案化液晶聚合物层、偏振检测层为掺杂有二向色性染料的图案化液晶聚合物层。

    曝光系统及曝光装置
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115685686A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202110844841.0

    申请日:2021-07-26

    Abstract: 本发明涉及的曝光系统,用以在工件上曝光三维结构,曝光系统沿激光束前进方向依次设置有发射激光束的激光器、用以对激光束的光斑进行变倍扩束的扩束镜、限制激光束的光阑、偏转激光束方向的振镜、以及保证激光束垂直出射的场镜组,振镜包括用以反射激光束的反射片,反射片可旋转以扩大激光束出射的范围,激光束出射的范围为3mm*3mm‑15mm*15mm,曝光系统在光阑作用下,能够在工件上形成三维结构,振镜中的反射片能够可旋转以扩大激光束出射的范围,使得工件和曝光系统在不发生相对移动的情况下,就能曝光多个单元,大大地提高了曝光速率和工件加工效率。

    一种透明导电膜的制作方法、透明导电膜和触控屏

    公开(公告)号:CN106547397B

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN201610907841.X

    申请日:2016-10-19

    Abstract: 一种透明导电膜的制作方法、透明导电膜和触控屏,制作方法包括:利用模具在透明绝缘衬底的一面上压印形成连续的凹槽;在透明绝缘衬底的一面上涂覆胶状物,利用模具对远离透明绝缘衬底的一面进行压印,使其固化后形成凹槽;向凹槽中填充导电材料,形成导电层,即内线路;在与导电层接触的一面形成外线路;按照预设图形对内线路和外线路去除不必要的导电材料,以形成绝缘通道和绝缘线路,完成透明导电膜的制作。本发明将丝网印刷与埋入式纳米压印相结合,统一的网格填充作为一个通用的模具,该模具可以适用于多个机种,只要根据不同的规格进行丝印和镭射即可,可以有效降低费用和开发周期。

    超表面彩色全息的制备方法及光学系统

    公开(公告)号:CN110703577B

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN201911150832.0

    申请日:2019-11-21

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明涉及超表面彩色全息的制备方法,包括以像素结构或者像素分布为依据,将彩色目标物像分别分层提取获得相应的多层图层;根据多层图层分别获取各图层各自对应的微纳结构、微纳结构组合,并得到各层之间微纳结构以及微纳结构组合的变化关系;根据前述多层图层中任一层的微纳结构以及基色微纳结构组合,利用空间或/和位相调制的光刻,实现该图层的层内多像素微纳结构的同时制备;再依据各图层之间微纳结构以及微纳结构组合的变化关系,利用空间或/和位相实时调控,分时实现其余各层的微纳结构以及微纳结构组合的同时制备。本发明实现了多像素微纳结构的同时制备以及分层像素组合的分时制备,从而能实现彩色全息的大幅面快速制备。

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