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公开(公告)号：CN101030027A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710039275.6
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有全息柱面透镜结构的投影屏，包括屏幕主体，设置于屏幕主体一侧表面的菲涅尔透镜层，设置于屏幕主体另一侧表面的全息柱面透镜阵列层，其特征在于：所述全息柱面透镜阵列上附带有散斑信息结构，所述散斑信息结构是以经过全息柱面透镜和散斑屏的出射光为物光，与参考光干涉成像获得的，全息柱面透镜阵列及附带于其上的散斑信息结构由其制备光路条件限定。本发明采用全息柱面透镜与散斑屏相结合，控制出射光线竖直和水平方向的视场，从而压缩竖直方向视场、增大水平方向视场，获得了高亮度、大视场的全息投影屏，且可方便地实现三维投影。
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公开(公告)号：CN101016634A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200610155974.2
申请日：2006-12-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法，包括下列步骤：(1)在金属滚筒上涂布光刻胶，在光刻胶上制作微结构掩膜，通过显影去除感光部分至露出金属表层；(2)将上述处理后的金属滚筒置于电铸溶液中，连接至电源阴极，进行金属电沉积，沉积厚度为150～500纳米；(3)从电铸溶液中取出金属滚筒，去除剩余的光刻胶即得到具有表面浮雕微结构的金属滚筒。本发明通过光刻与电铸的结合实现了具有表面浮雕结构的金属滚筒的制作，不需要进行平版卷绕拼接，不会产生拼缝，且可以获得高硬度的浮雕微结构，因而特别适用于高速连续滚动式模压复制；同时，金属光栅深度可以得到控制。
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公开(公告)号：CN1994178A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200610155979.5
申请日：2006-12-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种激光全息金银币的制造方法，首先制作激光全息模具，再通过冷冲模方式将模具表面的全息微结构转移到金银币表面，形成激光全息金银币，其特征在于：所述激光全息模具采用冷作模具钢制作，表面硬度在洛氏硬度48～65HRC之间，在所述冷作模具钢的表面通过刻蚀方法制备所述全息微结构。本发明通过刻蚀方法制备激光全息模具，简化了工艺过程，可以批量制作全息金银币(章)，降低了成本。
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公开(公告)号：CN101162278A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710135196.5
申请日：2007-11-13
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B6/00 , G02F1/13357 , G02F1/1333
Abstract: 本发明公开了一种背光模组中的导光组件结构，包括导光基材以及导光基材表面制备形成的导光网点结构，其特征在于：包括至少两层导光基材重叠组合构成，每层所述导光基材为厚度50um～150um的导光膜；各层所述基材上的导光网点结构分布位置相互互补；其制作方法：(1)根据LED光源的厚度与导光薄膜材料厚度，确定多层组合的层数；(2)根据LED光源亮度数据及发光面积，确定初始的导光网点分布；(3)根据步骤(2)数据及布点方式进行相应调整；(4)制作相应导光模仁小样；(5)制作各层导光膜，并进行组装。本发明充分利用了LED光源能量，并有效地提高了发光均匀度，多层重叠结构获得更好的触感。
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公开(公告)号：CN101100156A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710025250.0
申请日：2007-07-20
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 公安部交通管理科学研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111844736B
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN201910340369.X
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/336 , B29C64/245 , B29C64/194 , B22F3/105 , C12M3/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00
Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括：输送透明薄膜传送带输送的传送机构，上料机构，设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带；所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印，还可以在薄膜衬底上制作微納结构，并且还可以制作金属微納结构。
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公开(公告)号：CN113495432B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202010269164.X
申请日：2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。
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公开(公告)号：CN114147957B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202010930423.9
申请日：2020-09-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/255 , B29C64/245 , B29C64/282 , B29C64/286 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02 , G02B27/09
Abstract: 本发明公开了一种基于投影曝光技术的3D打印系统，包括用于存储液体感光树脂且底部为透明玻璃的物料存储装置、用于曝光感光树脂以形成所需产品的打印设备、实现打印设备相对于物料存储装置的运动平台，打印设备包括光学机构，光学机构设置在透明玻璃的下方，光学机构沿光路传播路径依序包括点光源、将点光源扩束为面光源并整形为平行面光源的整形扩束镜组、用于上载图像的数字微镜元件、将整形后的平行光进行微缩的二级微缩透镜组和将微缩后的光投射至感光树脂上的投影物镜，以及将图像上传至数字微镜元件上的数据处理机构。本发明还公开了一种3D打印的方法，该方法通过上述的基于投影曝光技术的3D打印系统实现。通过上述结构，提升了打印的精度。
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公开(公告)号：CN118444494A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310081167.4
申请日：2023-02-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种裸眼3D显示装置，包括光源、背光屏幕和显示屏幕；所述背光屏幕设置在所述光源的出射光路上，所述显示屏幕设置在所述背光屏幕的出射光路上，所述背光屏幕上形成有多组像素阵列，每组所述像素阵列包括多个像素，每个所述像素包括微纳结构，用于将入射光线衍射至对应的视点；所述显示屏幕用于提供多视角图像，以及对来自所述背光屏幕提供的入射光线进行振幅调制，根据所述多视角图像和调制后的入射光线生成3D立体影像进行显示。实现具有光源兼容性高、光源利用效率更高效、制作难度更低、无视觉疲劳、宽色域和大幅面等优点的裸眼3D显示装置。
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公开(公告)号：CN117666292A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202211462987.X
申请日：2022-11-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种用于偏振干涉光刻的光路结构与偏振干涉光刻系统，所述光路结构包括串接在光路上的光源模块、偏振组件、分光组件、成像组件；所述光源模块用于产生具有相干特性的线偏振光束；所述分光组件用于将射入的光线分出两束光线且射向所述成像组件，两束光线的夹角可变且可绕入射光线光轴旋转，所述成像组件用于将两束光线汇聚在光刻基片表面；所述分光组件配合所述偏振组件用于将线偏振光进行光学调制，使光束到达光刻基片时为两束偏振方向相反的圆偏振光，进而形成偏振干涉光场。本发明建立偏振干涉光刻系统，通过控制分光组件和偏振组件，能调节光场中偏振结构的周期、取向等参量，与偏振感光材料进行光化学作用，形成特定的偏振图形分布，偏振光刻系统根据预定义的偏振图形设计文件，控制上述偏振光场参量与基片的坐标走位，进行光场拼接光刻，在光刻基片上形成预期的偏振图形分布。
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