用于保护光掩模的胶粘带
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101589340B

    公开(公告)日:2012-03-28

    申请号:CN200880002921.4

    申请日:2008-03-14

    CPC classification number: G03F1/48 C09J7/35 C09J2475/00 C09J2483/00 G03F7/2014

    Abstract: 本发明提供一种用于保护光掩模的胶粘带,该胶粘带在与具有粘合性的光致抗蚀剂相贴合并反复使用时也可以在剥离性不下降的情况下使用。其含有透明基体材料膜或片(A)、和在基体材料膜或片(A)的一面形成的粘合剂层(B)、及在与形成粘合剂层(B)的面相反的一面形成的表面层(C),其中,表面层(C)由特定的固化物构成,所述固化物由含有异氰酸酯硅烷(x)和末端具有羟基的硅氧烷(y)的混合物获得。

    用于保护光掩模的胶粘带
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101589340A

    公开(公告)日:2009-11-25

    申请号:CN200880002921.4

    申请日:2008-03-14

    CPC classification number: G03F1/48 C09J7/35 C09J2475/00 C09J2483/00 G03F7/2014

    Abstract: 本发明提供一种用于保护光掩模的胶粘带,该胶粘带在与具有粘合性的光致抗蚀剂相贴合并反复使用时也可以在剥离性不下降的情况下使用。其含有透明基体材料膜或片(A)、和在基体材料膜或片(A)的一面形成的粘合剂层(B)、及在与形成粘合剂层(B)的面相反的一面形成的表面层(C),其中,表面层(C)由特定的固化物构成,所述固化物由含有异氰酸酯硅烷(x)和末端具有羟基的硅氧烷(y)的混合物获得。

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