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公开(公告)号：CN100396488C
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN03822740.1
申请日：2003-09-22
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 夏普株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B41J2/06 , B41J2002/14395
Abstract: 一种用于将带电的液体溶液的液滴喷射到基材上的液体喷射装置(20)，包括：喷嘴(21)，其中该喷嘴的边缘部分被配设成面对基材K，该基材具有用于接收喷射液滴的接收表面，液滴被从其中喷射的边缘部分的内径不大于30μm；一液体溶液供给部(29)，用于将液体溶液供给到喷嘴(21)中；一喷射电压施加部(25)，用于对喷嘴(21)中的液体溶液施加喷射电压；和一凸状弯液面形成部(40)，用于形成一种状态，其中，喷嘴(21)中的液体溶液从喷嘴边缘部分凸出。
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公开(公告)号：CN1684833A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN03822750.9
申请日：2003-09-22
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 夏普株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B41J2/06 , B41J2002/14395
Abstract: 一种用于将带电的液体溶液的液滴喷射到基材上的液体喷射装置(50)，包括：喷嘴(51)，其中它的边缘部分布置成朝向具有用于接收喷射液滴的接收表面的基材(K)，并且内径的边缘部分不大于30μm，其中液滴从该边缘部分喷射出；液体喷射装置(50)还包括向喷嘴(51)供给液体溶液的液体溶液供应装置(53)，以及用于向喷嘴(51)中的液体溶液施加喷射电压的喷射电压施加装置(35)，其中，喷射电压施加装置(35)的喷射电极(58)配备在喷嘴的后端部一侧上，并且喷嘴内通道的长度设置成至少不小于内径的十倍。
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公开(公告)号：CN100532103C
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN03822767.3
申请日：2003-09-22
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 夏普株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B41J2/14209 , B05B5/0255 , B05B17/0607 , B41J2/04576 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/1433 , B41J2/16 , B41J2/162 , B41J2/1623 , B41J2/1631 , B41J2/1642 , B41J2/1643 , B41J2002/14395
Abstract: 首先，经由涂覆步骤、照相平版印刷步骤和蚀刻步骤，在基板(141)上形成多个电极(142，142...)。接着，在基板(141)上形成一种抗蚀剂层(143b)以覆盖所有电极(142，142...)，且通过对该抗蚀剂层(143b)进行曝光和显影，形成一种具有超微小直径且相对于该基板(141)竖立的喷嘴(103)，以使该抗蚀剂层(143b)对应于每个电极(142)，然后在每个喷嘴(103)内形成喷嘴内通道。
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公开(公告)号：CN1684834A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN03822767.3
申请日：2003-09-22
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 夏普株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B41J2/14209 , B05B5/0255 , B05B17/0607 , B41J2/04576 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/1433 , B41J2/16 , B41J2/162 , B41J2/1623 , B41J2/1631 , B41J2/1642 , B41J2/1643 , B41J2002/14395
Abstract: 首先，经由涂覆步骤、照相平版印刷步骤和蚀刻步骤，在基板141上形成多个电极142，142…。接着，在基板141上形成一种抗蚀剂层143b以覆盖所有电极142，142…，且通过对该抗蚀剂层143b进行曝光和显影，形成一种具有超微小直径且相对于该基板141竖立的喷嘴103，以使该抗蚀剂层143b对应于每个电极142，然后在每个喷嘴103内形成喷嘴内通道。
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