管道防甩装置水平冲击试验方法及设备

    公开(公告)号:CN104913894A

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201510261223.8

    申请日:2015-05-21

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种管道防甩装置水平冲击试验方法及设备,所述设备包括U型杆安装部件、牵引系统和测试系统,其中U型杆安装部件用于安装U型杆试件;牵引系统包括试验台车、滑车及其控制驱动部件,试验台车前端连接有冲击头,用于对U型杆试件进行水平冲击;测试系统包括高速相机采集系统、应变采集系统、电测量系统和试验速度测量系统,分别测量U型杆试件在水平冲击过程中的形变、关键部位的应变、试验台车加速度和碰撞速度信息。利用本发明的管道防甩装置水平冲击试验方法及设备,能获取加速度、关键位置应变、U型杆试件变形随时间的变化和碰撞速度等信息,测量精度高。

    一种排水管网多指标在线监测装置

    公开(公告)号:CN104111090A

    公开(公告)日:2014-10-22

    申请号:CN201310141424.5

    申请日:2013-04-22

    Abstract: 本发明涉及一种多指标在线监测装置与系统,特别涉及到一种排水管网水量水质信息多指标在线监测装置。该排水管网多指标监测装置包括:前端探头、供电单元、远程无线传输单元、远程数据采集单元;前端探头安装在排水管网窨井内,由供电单元提供运行电源,实时在线获取排水管网水量水质信息,远程无线传输单元将排水管网水量水质信息传输至远程数据采集单元,建立远程通讯连接,进行多指标参数的信号采集、信号传输和信号采集处理。本发明提供的在线监测装置,可提供多种安装方式和及其相应的不同供电模式,便于安装、调试和维护,提供较丰富的远程管理功能,整个装置系统的功耗较低,具备装置故障预警保护功能,装置系统可实现长时间稳定运行。

    一种无相位误差的量子行走系统及设计方法

    公开(公告)号:CN117518302A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311545165.2

    申请日:2023-11-20

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本公开提出了一种无相位误差的量子行走系统,包括形成于衬底之上且按照设定的量子行走路线依次连接的若干定向耦合器单元,该单元由两条相互远离的零折射率超构波导先相互靠近再相互远离形成,所述波导具有直线型和弯曲型两种结构单元,直线型结构单元包括第一介质柱和两个第二介质柱,第二介质柱对称设置在第一介质柱两侧且与其形成圆弧形交界面,弯曲型结构单元由直线型结构单元共形变换得到。本公开利用零折射率超构波导的相位保护特性,从根源上杜绝了相位误差及其引起的量子操作失真,有助于提高光量子行走线路的系统保真度和可拓展性。由于零折射率超构波导对于实际加工误差的鲁棒性,在大规模光量子行走线路中保证较高的良率。

    一种一维零折射率超构波导结构及其设计方法

    公开(公告)号:CN117518301A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311544976.0

    申请日:2023-11-20

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本公开提供的一种一维零折射率超构波导结构及其设计方法。超构波导结构包括多个在设定方向呈周期性排列的结构单元,各结构单元均分别包括第一介质柱和两个第二介质柱,第二介质柱对称设置在第一介质柱两侧且与其形成圆弧形交界面。设计方法包括:建立用于仿真超构波导的物理模型;初始化各几何参数并调节各结构单元宽度、椭圆长半轴和短半轴,使物理模型在波矢空间布里渊区的中心出现类狄拉克锥,并在面内侧向实现辐射相干相消;调节各结构单元高度,使超构波导在竖直方向实现相干相消;等比放大或缩小超构波导几何参数,使得简并频率调节在设计值。本公开有助于大幅提高零折射率材料的灵活性,同时减少零折射率材料所占的芯片面积。

    氮碳共渗镀膜一体化设备及氮碳共渗镀膜工件制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116623123A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310819771.2

    申请日:2023-07-05

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种氮碳共渗镀膜一体化设备及氮碳共渗镀膜工件制备方法和应用。该设备包括氮碳共渗镀膜一体化设备本体、阴极罩、靶材挡板和工件架,氮碳共渗镀膜一体化设备本体上部形成真空腔室,氮碳共渗镀膜一体化设备本体下部形成共渗溅射腔,共渗溅射腔的内侧壁绝缘连接靶材;阴极罩间隔环绕共渗溅射腔内壁设置,阴极罩上设有多个通孔,阴极罩上端连接升降杆,阴极罩的下端可绝缘设在共渗溅射腔的底端;靶材挡板可旋转移动位于靶材与阴极罩之间;工件架位于阴极罩内,工件架与阴极罩内壁间隔,工件架下端绝缘连接共渗溅射腔底端。该设备实现了工件的氮碳共渗和镀膜在同一设备中进行,使工件的氮碳共渗镀膜一体化,大大提高了生产效率。

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