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公开(公告)号:CN104947088B
公开(公告)日:2017-11-14
申请号:CN201510334029.8
申请日:2015-06-16
Applicant: 清华大学
IPC: C23C16/52
Abstract: 一种调节温度场和/或等离子场的阻抗可控模块,所述阻抗可控模块被设置于化学气相沉积设备基台与衬底之间,所述阻抗可控模块平面区域内不同位置处具有不同的导热特性以改变化学气相沉积设备工艺腔室内的温度场分布,和/或所述阻抗可控模块平面区域内不同位置处具有不同的介电常数,以改变化学气相沉积设备工艺腔室内的等离子场分布。利用本发明的调节温度场和/或等离子场的阻抗可控模块,能够实现温度场和/或等离子场空间分布的灵活、精细化调控,低成本而高效,为实现大面积精细调控温度场和/或等离子场的空间分布技术提供了一种有效的解决方案。
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公开(公告)号:CN103757608A
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN201410030834.7
申请日:2014-01-22
Applicant: 清华大学
IPC: C23C16/52
Abstract: 本发明属于化学气相沉积工艺腔室物理场耦合技术领域,特别涉及一种用于调节温度和功率空间分布的梯度阻抗模块。该阻抗模块设置在化学气相沉积设备的基台和衬底之间,阻抗模块由阻抗模块绝缘隔热层分隔为若干个阻抗介质区;阻抗模块一侧为平面,另一侧为空间曲面,通过改变阻抗模块空间曲面一侧的外形,或者各个阻抗介质区采用不同的填充介质,使得阻抗模块的阻抗在法平面内具有一定的分布梯度,进而实现透过该模块的能量在法平面内具有一定分布梯度。本发明无需改变原有设备结构,只需增加一个阻抗模块,且针对不同的调控需求,仅需更换不同的阻抗模块,该方案运用模块化思想,廉价、高效,为实现多物理场空间分布的调控提供了一种有效的解决方案。
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