测定装置、测定方法及记录有测定程序的记录介质

    公开(公告)号:CN111238380B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN201911059835.3

    申请日:2019-11-01

    Abstract: 本发明提供一种测定装置,在现有厚度仪中,在测定具有吸水性的测定对象物的厚度的情况下,测定光及参考光的透过率会因测定对象物的吸水量而变化,测定误差会增加。所述测定装置测定片状测定对象物的厚度,具备:检测部,其检测第一光强度、第二光强度及第三光强度,所述第一光强度是使具有第一波长的第一光透过测定对象物后的光的强度,所述第二光强度是使具有第二波长的第二光透过测定对象物后的光的强度,该第二波长是测定对象物的材料的吸收率比第一波长时低的波长,所述第三光强度是使具有第三波长的第三光透过测定对象物后的光的强度,该第三波长是测定对象物的材料的吸收率比第一波长时低,且含有流体的测定对象物的吸收率比第二波长时低的波长;厚度算出部,其使用第一光强度、第二光强度、及第三光强度,计算出测定对象物的厚度。

    位移传感器
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109506570B

    公开(公告)日:2020-11-10

    申请号:CN201811056644.7

    申请日:2018-09-11

    Abstract: 位移传感器具有将线状的光线射出的线状光源、光束分离器、线传感器和成像透镜。所述线状光源相对于所述成像透镜的光轴的垂线具有规定角度的倾斜度而配置。所述成像透镜在与所述线状光源共轭的位置使所述线状光源的像相对于所述成像透镜的光轴的垂线具有规定角度的倾斜度而形成。所述光束分离器配置于所述线状光源和所述成像透镜之间。所述线传感器经由所述成像透镜和所述光束分离器,在与通过所述成像透镜形成的像共轭的位置,配置为所述成像透镜的光轴相对于由所述光束分离器反射出的光轴的垂线具有所述规定角度的倾斜度。

    用于测量多层膜厚度的方法和设备

    公开(公告)号:CN102052904B

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:CN201010529517.1

    申请日:2010-10-28

    Inventor: 西田和史

    CPC classification number: G01B11/0625

    Abstract: 本发明提供一种根据多层膜的每一层的光学厚度对多层膜的每一层的物理厚度进行测量的方法。该方法包括:(a)设定层的折射率;(b)使用折射率计算系数矩阵;(c)将光提供到多层膜以便根据由多层膜反射的光来对光学厚度进行测量;以及(d)根据光学厚度和系数矩阵计算物理厚度。

    用于测量多层膜厚度的方法和设备

    公开(公告)号:CN102052904A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN201010529517.1

    申请日:2010-10-28

    Inventor: 西田和史

    CPC classification number: G01B11/0625

    Abstract: 本发明提供一种根据多层膜的每一层的光学厚度对多层膜的每一层的物理厚度进行测量的方法。该方法包括:(a)设定层的折射率;(b)使用折射率计算系数矩阵;(c)将光提供到多层膜以便根据由多层膜反射的光来对光学厚度进行测量;以及(d)根据光学厚度和系数矩阵计算物理厚度。

    位移传感器
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109506570A

    公开(公告)日:2019-03-22

    申请号:CN201811056644.7

    申请日:2018-09-11

    Abstract: 位移传感器具有将线状的光线射出的线状光源、光束分离器、线传感器和成像透镜。所述线状光源相对于所述成像透镜的光轴的垂线具有规定角度的倾斜度而配置。所述成像透镜在与所述线状光源共轭的位置使所述线状光源的像相对于所述成像透镜的光轴的垂线具有规定角度的倾斜度而形成。所述光束分离器配置于所述线状光源和所述成像透镜之间。所述线传感器经由所述成像透镜和所述光束分离器,在与通过所述成像透镜形成的像共轭的位置,配置为所述成像透镜的光轴相对于由所述光束分离器反射出的光轴的垂线具有所述规定角度的倾斜度。

    膜厚度测量设备
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101995225A

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN201010257722.7

    申请日:2010-08-16

    Inventor: 西田和史

    CPC classification number: G01B11/0633

    Abstract: 一种膜厚度测量设备可包括:光谱获取单元,其将光照射到测量目标膜上并获取反射光或透射光的光谱;功率谱计算单元,其计算功率谱;膜厚度计算单元,其检测功率谱的峰值位置并计算膜的厚度;测量质量计算单元,其计算厚度的测量质量;测量质量确定单元,其确定厚度是有效还是无效;以及膜厚度输出单元,如果测量质量确定单元确定厚度有效则输出厚度。

    膜厚测定装置及方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101514888A

    公开(公告)日:2009-08-26

    申请号:CN200910006484.X

    申请日:2009-02-18

    Inventor: 西田和史

    Abstract: 本发明提供一种膜厚测定装置及方法,能安定而连续地测定具复折射性的待测定对象的膜厚。膜厚测定装置(1),包含:光谱测定部(10),将对于待测定膜F照射白色光而得到的反射光予以分光,并测定反射分光光谱;运算部(20),对于经测定的反射分光光谱施加既定运算,而测定待测定膜F膜厚。运算部(20),包含:波数转换部(23),将反射分光光谱之中,预先设定的波长区域的反射分光光谱转换为重排为既定波数间隔的波数域反射分光光谱;傅利叶转换部(24),将波数域反射分光光谱转换为功率谱;计算部(峰部检测部(25)、加权平均部(26),及膜厚计算部(27)),求出在功率谱中出现的峰部的重心位置,依据此重心位置求出待测定膜F厚度。

Patent Agency Ranking