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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103628060B
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201310572541.7
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开一种表面渗钼+沉积氮化钛的新型电极材料及其制备方法，利用等离子表面合金化和多弧离子镀复合处理技术，首先在铁基材料表面渗入合金元素钼，形成呈冶金结合的含钼渗层，然后利用溅射镀进行沉积氮化钛，以形成一种表面渗钼+沉积氮化钛的新型电极材料。本发明采用量大面广价格低廉的钢铁材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低的优点。表面经过渗钼和沉积氮化钛处理后具有耐腐蚀、耐磨、强度和硬度高、电阻率较小、结合力强的优点。能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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公开(公告)号：CN103643203A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310572296.X
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在铁基LED引线支架表面沉积铜+钨复合涂层的工艺，它是利用磁控溅射镀或多弧离子镀或射频溅射镀技术，在铁基引线支架表面首先沉积一定厚度的纯铜，之后，再沉积一层纯钨，形成铜+钨复合涂层。该技术可替代原来电镀铜，再电镀银的引线支架，具有导电、散热、防氧化、防潮、可焊性等方面的优良性能，涂层附着力好，制造成本低，彻底解决了电镀存在的环境污染问题。
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公开(公告)号：CN103628032A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310572300.2
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在导电基体材料上制备纳米氮化钛层的方法，它是利用磁控溅射技术在基体表面沉积一层纳米级的纯金属或合金过渡层，再利用磁控溅射技术和电弧离子镀技术共同快速沉积一层氮化钛层，之后再利用磁控溅射技术沉积一层纳米级的氮化钛层。本发明利用磁控溅射沉积微细纳米粒子，提高过渡层的结合力；利用电弧离子镀沉积速度快的特点提高效率；利用磁控溅射沉积一层致密的和高质量的纳米级的氮化钛层提高表面质量。
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公开(公告)号：CN103628032B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310572300.2
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在导电基体材料上制备纳米氮化钛层的方法，它是利用磁控溅射技术在基体表面沉积一层纳米级的纯金属或合金过渡层，再利用磁控溅射技术和电弧离子镀技术共同快速沉积一层氮化钛层，之后再利用磁控溅射技术沉积一层纳米级的氮化钛层。本发明利用磁控溅射沉积微细纳米粒子，提高过渡层的结合力；利用电弧离子镀沉积速度快的特点提高效率；利用磁控溅射沉积一层致密的和高质量的纳米级的氮化钛层提高表面质量。
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公开(公告)号：CN103628024A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310572311.0
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C23C14/06
Abstract: 本发明公开了一种在4Cr13不锈钢游标卡尺表面沉积氮化钛薄膜的工艺，它是对4Cr13不锈钢游标卡尺表面进行物理和化学清洗；其次利用电弧离子镀或离子溅射镀或射频溅射镀技术，在4Cr13马氏体不锈钢游标卡尺表面沉积0.1～0.5μm的纯金属或合金作为过渡层，该过渡层可以是纯钛或纯镍或纯铜或纯钼或纯铬等，合金可以是铁碳合金或钨钼合金或镍铬合金等；第三再通入一定比例的反应气体氮气和氩气，沉积厚度为0.5～1μm氮化钛硬质薄膜层。本发明的在游标卡尺等工具表面沉积的氮化钛薄膜具有高强度、高硬度、耐腐蚀、抗磨损以及良好的视觉效果。
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