制造用于衍射光栅导光板的模具基板的方法和制造衍射光栅导光板的方法

    公开(公告)号:CN111033117B

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201880052164.5

    申请日:2018-08-16

    Abstract: 本发明涉及制造用于衍射光栅导光板的模具基板的方法,该方法包括以下步骤:准备在其上表面上设置有薄层电阻为0.5Ω/□或更大的网格部分的法拉第笼;将样品基板设置在法拉第笼的底表面上并在其上进行平面等离子体蚀刻以确定法拉第笼中的高蚀刻区域;准备具有倾斜表面的支撑体并将倾斜表面的下部区域布置在法拉第笼的高蚀刻区域中的支撑体布置步骤;将模具用基板设置在支撑体的倾斜表面上;以及通过使用等离子体蚀刻同时在模具用基板的一侧上形成第一倾斜图案部分并在模具用基板的另一侧上形成第二倾斜图案部分的图案化步骤,其中图案化步骤中的蚀刻速率自倾斜表面的上部区域至下部区域逐渐减小然后反转增大,并且包括第一倾斜图案部分的具有深度梯度的倾斜凹槽图案,以及第二倾斜图案部分包括深度偏差为0nm至50nm的倾斜凹槽图案。

    电致变色元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN108139643B

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN201680059467.0

    申请日:2016-10-11

    Abstract: 本申请涉及电致变色元件及其制造方法。根据本申请的一个实施方案的用于制造电致变色元件的方法包括以下步骤:在第一基底上形成第一电极,然后在所述第一电极上形成第一电致变色部分;在第二基底上形成第二电极,然后在所述第二电极上形成第二电致变色部分;以及在所述第一电致变色部分与所述第二电致变色部分之间形成电解质层,其中形成第一电致变色部分的步骤通过使用载气的电子束蒸镀进行。

    使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法

    公开(公告)号:CN111448642A

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201880079529.3

    申请日:2018-12-14

    Abstract: 本发明提供了使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法。所述使用法拉第笼的等离子体蚀刻方法包括:在其上表面上设置有网部分的法拉第笼中准备蚀刻基板的步骤,所述基板具有设置在其一个表面上的金属掩模,所述金属掩模具有开口图案部分;通过使用等离子体蚀刻在蚀刻基板上形成第一图案区域的第一图案化步骤;以及在通过使用遮板遮挡网部分的至少一部分之后通过使用等离子体蚀刻在蚀刻基板上形成第二图案区域的第二图案化步骤。

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